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攝像頭模組撓性電路板鉆孔后的除膠渣工藝的制作方法

文檔序號:12137229閱讀:739來源:國知局

本發(fā)明涉及攝像頭模組的撓性電路板加工領(lǐng)域,尤其涉及一種攝像頭模組撓性電路板鉆孔后的除膠渣工藝。



背景技術(shù):

隨著科技的不斷方面,拍照成為人們?nèi)粘I钪薪?jīng)常使用的功能,因此攝像頭的發(fā)展就十分重要了。攝像頭模組中需要撓性電路板,撓性電路板在生產(chǎn)過程中需要鉆孔,之后在在鉆孔中沉鍍上銅,目前對于撓性電路板的鉆孔后有膠渣涂滿孔壁,膠渣影響孔壁連接性能且不牢固,因此解決上述問題就顯得十分重要了。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

為解決上述問題,本發(fā)明提供一種攝像頭模組撓性電路板鉆孔后的除膠渣工藝,依次采用膨松劑進(jìn)行軟化膠渣、采用樹脂蝕刻劑使膠渣溶解,之后采用中和劑處理之前的殘留物,每步處理過后均進(jìn)行逆流水洗,可以很好的將膠渣去除,解決了背景技術(shù)中出現(xiàn)的問題。

本發(fā)明的目的是提供一種攝像頭模組撓性電路板鉆孔后的除膠渣工藝,包括有以下步驟:

步驟一:將鉆孔后的撓性電路板放入有膨松劑的槽液中對膠渣進(jìn)行軟化處理,之后進(jìn)行二級逆流水洗;

步驟二:將步驟一處理過的撓性電路板放入有樹脂蝕刻劑的槽液中處理,之后進(jìn)行三級逆流水洗;

步驟三:將步驟二處理過的撓性電路板放入有中和劑的槽液中處理,之后進(jìn)行二級逆流水洗,從而去除膠渣,之后進(jìn)行化學(xué)沉銅。

進(jìn)一步改進(jìn)在于:所述步驟二的樹脂蝕刻劑的槽液中處理溫度為78-82℃,處理時間為8-14min。

進(jìn)一步改進(jìn)在于:所述步驟三中和劑的槽液中處理溫度為22-28℃,處理時間為2-3min。

進(jìn)一步改進(jìn)在于:所述步驟二的樹脂蝕刻劑的槽液中的處理伴隨機(jī)械攪拌或打氣。

本發(fā)明的有益效果:本發(fā)明通過依次采用膨松劑進(jìn)行軟化膠渣、采用樹脂蝕刻劑使膠渣溶解,之后采用中和劑處理之前的殘留物,每步處理過后均進(jìn)行逆流水洗,可以很好的將膠渣去除,保證鉆孔后的孔壁的無污物,保證產(chǎn)品質(zhì)量。

具體實施方式

為了加深對本發(fā)明的理解,下面將結(jié)合實施例對本發(fā)明作進(jìn)一步詳述,該實施例僅用于解釋本發(fā)明,并不構(gòu)成對本發(fā)明保護(hù)范圍的限定。

本實施例提供一種攝像頭模組撓性電路板鉆孔后的除膠渣工藝,包括有以下步驟:

步驟一:將鉆孔后的撓性電路板放入有膨松劑的槽液中對膠渣進(jìn)行軟化處理,之后進(jìn)行二級逆流水洗;

步驟二:將步驟一處理過的撓性電路板放入有樹脂蝕刻劑的槽液中處理,之后進(jìn)行三級逆流水洗;

步驟三:將步驟二處理過的撓性電路板放入有中和劑的槽液中處理,之后進(jìn)行二級逆流水洗,從而去除膠渣,之后進(jìn)行化學(xué)沉銅。

所述步驟二的樹脂蝕刻劑的槽液中處理溫度為78-82℃,處理時間為8-14min。所述步驟三中和劑的槽液中處理溫度為22-28℃,處理時間為2-3min。所述步驟二的樹脂蝕刻劑的槽液中的處理伴隨機(jī)械攪拌或打氣。

通過依次采用膨松劑進(jìn)行軟化膠渣、采用樹脂蝕刻劑使膠渣溶解,之后采用中和劑處理之前的殘留物,每步處理過后均進(jìn)行逆流水洗,可以很好的將膠渣去除,保證鉆孔后的孔壁的無污物,保證產(chǎn)品質(zhì)量。

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