技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種有效控制降能器后質(zhì)子束流發(fā)射度的裝置及方法。所述裝置包括：第一準(zhǔn)直器，第一準(zhǔn)直器支架，雙盤緊湊型能量調(diào)制盤，第二準(zhǔn)直器，第二準(zhǔn)直器支架；其中，第一準(zhǔn)直器通過第一準(zhǔn)直架安裝在雙盤緊湊型能量調(diào)制盤的粒子束入射端，第二準(zhǔn)直器通過第一準(zhǔn)直架安裝在雙盤緊湊型能量調(diào)制盤的粒子束出射端。本發(fā)明利用在降能器束流路徑前后位置安放兩個(gè)結(jié)構(gòu)不同的準(zhǔn)直器裝置，實(shí)現(xiàn)對(duì)穿過降能器的不同能量的粒子束發(fā)射度的有效控制，結(jié)構(gòu)簡單，安放在降能器內(nèi)部，操作方便，易于輻射防護(hù)和劑量屏蔽，是一種有效的緊湊型可控制發(fā)射度的降能器解決方案。

技術(shù)研發(fā)人員：管鋒平;魏素敏;王飛
受保護(hù)的技術(shù)使用者：中國原子能科學(xué)研究院
文檔號(hào)碼：201610616069
技術(shù)研發(fā)日：2016.07.29
技術(shù)公布日：2016.12.07