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一種電容器薄膜的制作方法

文檔序號(hào):10921811閱讀:693來源:國知局
一種電容器薄膜的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種電容器薄膜,包括薄膜本體和加強(qiáng)筋,加強(qiáng)筋設(shè)置在薄膜本體的內(nèi)部,薄膜本體的上表面和下表面上均設(shè)置有抗紫外線層,抗紫外線層的上表面和下表面上均設(shè)置有刻度線;加強(qiáng)筋包括加強(qiáng)筋Ⅰ和加強(qiáng)筋Ⅱ,加強(qiáng)筋Ⅰ上設(shè)置有V形凹槽,加強(qiáng)筋Ⅱ上設(shè)置有V形凸起,V形凹槽與V形凸起相配合。本實(shí)用新型便剪切和切割、承載能力較高且具有抗紫外線功能。
【專利說明】
一種電容器薄膜
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及薄膜領(lǐng)域,尤其涉及一種電容器薄膜。
【背景技術(shù)】
[0002]薄膜電容器是以金屬箔當(dāng)電極,將其和薄膜電容器是以金屬箔當(dāng)電極,將其和聚乙酯,聚丙烯,聚苯乙烯或聚碳酸酯等電容薄膜,從兩端重疊后,卷繞成圓筒狀的構(gòu)造之電容器。薄膜電容器具有無極性、絕緣阻抗高、頻率特性優(yōu)異、介質(zhì)損失小等優(yōu)點(diǎn),其應(yīng)用越來越廣泛。隨著電子工業(yè)的快速發(fā)展,薄膜電容器正在向大容量、微型化、高安全可靠性的方向發(fā)展。
[0003]由上述可知,薄膜電容器是由有機(jī)薄膜卷制而成的,因此有機(jī)薄膜的性能決定了其卷制而成的電容器的性能,現(xiàn)有的電容器薄膜具有以下缺點(diǎn):(I)現(xiàn)有的電容器薄膜不具有抗紫外線功能,現(xiàn)在了薄膜的應(yīng)用范圍;(2)為了適應(yīng)電子元件微型化的發(fā)展趨勢(shì),現(xiàn)有的薄膜均是超薄型的,但是超薄型的薄膜大大降低了電容器電氣耐受電壓的承載能力;(3)現(xiàn)有的電容器薄膜上沒有刻度線,進(jìn)行剪切、切割時(shí)不容易精確量取,并且在卷繞過程中不易校準(zhǔn),給生產(chǎn)加工帶來了不便。
[0004]因此,研發(fā)一種方便剪切和切割、承載能力較高且具有抗紫外線功能的電容器薄膜,顯得格外重要。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷提出一種結(jié)電容器薄膜,方便剪切和切割、承載能力較高且具有抗紫外線功能。
[0006]為了解決上述技術(shù)問題,本實(shí)用新型提供了一種電容器薄膜,包括薄膜本體和加強(qiáng)筋,所述加強(qiáng)筋設(shè)置在所述所述薄膜本體的內(nèi)部,其特征在于,所述薄膜本體的上表面和下表面上均設(shè)置有抗紫外線層,所述抗紫外線層的上表面和下表面上均設(shè)置有刻度線;所述加強(qiáng)筋包括加強(qiáng)筋I(lǐng)和加強(qiáng)筋Π,所述加強(qiáng)筋I(lǐng)上設(shè)置有V形凹槽,所述加強(qiáng)筋Π上設(shè)置有V形凸起,所述V形凹槽與所述V形凸起相配合。
[0007]優(yōu)選地,所述加強(qiáng)筋I(lǐng)設(shè)置在所述加強(qiáng)筋Π的上方。
[0008]優(yōu)選地,所述薄膜本體的內(nèi)部設(shè)置有多個(gè)加強(qiáng)筋,多個(gè)所述加強(qiáng)筋并排設(shè)置在所述薄膜本體的內(nèi)部中心。
[0009]進(jìn)一步地,所述加強(qiáng)筋為圓形或方形。
[0010]優(yōu)選地,所述抗紫外線層由一層反輻射隔離膜組成。
[0011]優(yōu)選地,所述電容器薄膜的厚度為ΙΟμπι。
[0012]本實(shí)用新型的電容器薄膜,具有如下有益效果:
[0013]1、本實(shí)用新型的薄膜本體的上下表面均設(shè)置有抗紫外線層,該抗紫外線層由一層反輻射隔離膜組成,能夠有效地實(shí)現(xiàn)對(duì)紫外線的隔離反射,擴(kuò)大了電容器薄膜的使用范圍。
[0014]2、本實(shí)用新型的粗化膜本體內(nèi)設(shè)置有若干加強(qiáng)筋,加強(qiáng)筋包括加強(qiáng)筋I(lǐng)和加強(qiáng)筋Π,加強(qiáng)筋I(lǐng)上設(shè)置有V形凹槽,強(qiáng)筋Π上設(shè)置有V形凸起,V形凹槽與V形凸起相配合,提高了粗化膜的承受能力。
[0015]3、本實(shí)用新型的電容器薄膜的厚度為?ομπι,既能滿足“超薄型”的要求,又方便卷繞展平。
[0016]4、本實(shí)用新型的抗紫外線層的上表面和下表面上均設(shè)置有以毫米為單位的刻度線,方便薄膜使用時(shí)的剪切與切割。
【附圖說明】
[0017]為了更清楚地說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其它附圖。
[0018]圖1是本實(shí)用新型的電容器薄膜的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0019]圖2是本實(shí)用新型沿圖1中A-A方向的截面圖;
[0020]圖3是本實(shí)用新型的加強(qiáng)筋I(lǐng)和加強(qiáng)筋Π的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0021 ]其中,圖中附圖標(biāo)記對(duì)應(yīng)為:1-薄膜本體,2-加強(qiáng)筋,3-抗紫外線層,4-刻度線,5-加強(qiáng)筋I(lǐng),6-加強(qiáng)筋Π,7-V形凹槽,8-V形凸起。
【具體實(shí)施方式】
[0022]下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖,對(duì)實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒緦?shí)用新型的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0023]如圖1和2所示,本實(shí)用新型公開了一種電容器薄膜,該電容器薄膜的厚度為ΙΟμπι,并包括薄膜本體I和加強(qiáng)筋2,所述薄膜本體I由聚丙烯材料制成,所述加強(qiáng)筋2設(shè)置在所述所述薄膜本體I的內(nèi)部,所述薄膜本體I的上表面和下表面上均設(shè)置有抗紫外線層3,所述抗紫外線層3的上表面和下表面上均設(shè)置有以毫米為單位的刻度線4,所述抗紫外線層3由一層反輻射隔離膜組成,能夠有效地實(shí)現(xiàn)對(duì)紫外線的隔離反射,擴(kuò)大了電容器薄膜的使用范圍。
[0024]繼續(xù)如圖2所示,所述薄膜本體I的內(nèi)部設(shè)置有多個(gè)加強(qiáng)筋2,多個(gè)所述加強(qiáng)筋2并排設(shè)置在所述薄膜本體I的內(nèi)部中心,所述加強(qiáng)筋2為圓形或方形。
[0025 ]如圖3所不,所述加強(qiáng)筋2包括加強(qiáng)筋15和加強(qiáng)筋Π 6,所述加強(qiáng)筋15設(shè)置在所述加強(qiáng)筋Π6的上方,所述加強(qiáng)筋15上設(shè)置有V形凹槽7,所述加強(qiáng)筋Π6上設(shè)置有V形凸起8,所述V形凹槽7與所述V形凸起8相配合。
[0026]本實(shí)用新型的電容器薄膜,具有如下有益效果:
[0027]1、本實(shí)用新型的薄膜本體的上下表面均設(shè)置有抗紫外線層,該抗紫外線層由一層反輻射隔離膜組成,能夠有效地實(shí)現(xiàn)對(duì)紫外線的隔離反射,擴(kuò)大了電容器薄膜的使用范圍。
[0028]2、本實(shí)用新型的粗化膜本體內(nèi)設(shè)置有若干加強(qiáng)筋,加強(qiáng)筋包括加強(qiáng)筋I(lǐng)和加強(qiáng)筋Π,加強(qiáng)筋I(lǐng)上設(shè)置有V形凹槽,強(qiáng)筋Π上設(shè)置有V形凸起,V形凹槽與V形凸起相配合,提高了粗化膜的承受能力。
[0029]3、本實(shí)用新型的電容器薄膜的厚度為ΙΟμπι,既能滿足“超薄型”的要求,又方便卷繞展平。
[0030]4、本實(shí)用新型的抗紫外線層的上表面和下表面上均設(shè)置有以毫米為單位的刻度線,方便薄膜使用時(shí)的剪切與切割。
[0031]以上所揭露的僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已,當(dāng)然不能以此來限定本實(shí)用新型之權(quán)利范圍,因此依本實(shí)用新型權(quán)利要求所作的等同變化,仍屬本實(shí)用新型所涵蓋的范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種電容器薄膜,包括薄膜本體(I)和加強(qiáng)筋(2),所述加強(qiáng)筋(2)設(shè)置在所述薄膜本體(I)的內(nèi)部,其特征在于,所述薄膜本體(I)的上表面和下表面上均設(shè)置有抗紫外線層(3),所述抗紫外線層(3)的上表面和下表面上均設(shè)置有刻度線(4); 所述加強(qiáng)筋(2)包括加強(qiáng)筋I(lǐng) (5)和加強(qiáng)筋Π (6),所述加強(qiáng)筋I(lǐng) (5)上設(shè)置有V形凹槽(7),所述加強(qiáng)筋Π (6)上設(shè)置有V形凸起⑶,所述V形凹槽⑴與所述V形凸起⑶相配合。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電容器薄膜,其特征在于,所述加強(qiáng)筋1(5)設(shè)置在所述加強(qiáng)筋Π (6)的上方。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電容器薄膜,其特征在于,所述薄膜本體(I)的內(nèi)部設(shè)置有多個(gè)加強(qiáng)筋(2),多個(gè)所述加強(qiáng)筋(2)并排設(shè)置在所述薄膜本體(I)的內(nèi)部中心。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電容器薄膜,其特征在于,所述加強(qiáng)筋(2)為圓形或方形。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電容器薄膜,其特征在于,所述抗紫外線層(3)由一層反輻射隔離膜組成。6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的電容器薄膜,其特征在于,所述電容器薄膜的厚度為ΙΟμπι。
【文檔編號(hào)】H01G4/33GK205609360SQ201620440804
【公開日】2016年9月28日
【申請(qǐng)日】2016年5月13日
【發(fā)明人】徐明強(qiáng), 陳文亮, 張勇
【申請(qǐng)人】南通百正電子新材料股份有限公司
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