直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜的制作方法
【專利摘要】直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜，包括塑料薄膜和金屬鍍層構(gòu)成的金屬化膜，所述的金屬鍍層為階梯式方阻鍍層，包括第一方阻鍍層、第二方阻鍍層和第三方阻鍍層，第一方阻鍍層的高度H1為90nm，第二方阻鍍層的高度H2為30nm，第三方阻鍍層的高度H3為3—4nm。本方案將金屬鍍層設(shè)計(jì)成階梯式方阻鍍層，包括第一方阻鍍層、第二方阻鍍層和第三方阻鍍層，由于產(chǎn)品對(duì)電流要求不高，在對(duì)稱的兩塊金屬化膜卷繞出來的電容器元件上面，只要出現(xiàn)薄弱點(diǎn)，就能夠?qū)⒏叻阶璨糠值慕饘馘儗訉友杆贇饣舭l(fā)，薄膜自愈。由于薄弱點(diǎn)的面積甚小，對(duì)產(chǎn)品的電容量損失幾乎為零，所以這種階梯式高方阻金屬化膜結(jié)構(gòu)的材料特別適合直流支撐電容器的廣泛使用。
【專利說明】
直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及一種直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜，屬于電氣元件領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]金屬化電力電容器的金屬化膜，其常規(guī)的結(jié)構(gòu)形式為一個(gè)1mm左右的加厚區(qū)域，其方塊區(qū)域的電阻是2.5Ω，其余部分電阻為7.5Ω。這樣一種結(jié)構(gòu)形式對(duì)于電壓要求較高而電流要求不高的產(chǎn)品來說，只要把金屬化膜的厚度加大就行了。金屬化膜的抗電壓強(qiáng)度是由材料本身的性質(zhì)所決定的，其一般的耐壓都比較高，但是，在生產(chǎn)工藝和設(shè)備方面的欠缺，往往會(huì)在其成品后產(chǎn)生不少的薄弱點(diǎn)，從而導(dǎo)致材料電壓擊穿。所以，在電容器產(chǎn)品設(shè)計(jì)的時(shí)候會(huì)選擇大大小于其耐壓強(qiáng)度的值，為了產(chǎn)品質(zhì)量安全，設(shè)計(jì)的電壓強(qiáng)度一般小于材料本身的1/3以下，這就會(huì)浪費(fèi)不少的材料。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型的目的是為了克服已有技術(shù)的缺點(diǎn)，提供一種階梯式方阻鍍層結(jié)構(gòu)，鍍層能迅速氣化補(bǔ)償，薄膜自愈，避免電容量損失的直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜。
[0004]本實(shí)用新型直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜的技術(shù)方案是:包括塑料薄膜和金屬鍍層構(gòu)成的金屬化膜，其特征在于所述的金屬鍍層為階梯式方阻鍍層，包括第一方阻鍍層、第二方阻鍍層和第三方阻鍍層，第一方阻鍍層的高度Hl為90nm，第二方阻鍍層的高度H2為30nm，第三方阻鍍層的高度H3為3—4nm。
[0005]本實(shí)用新型的直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜，將金屬鍍層設(shè)計(jì)成階梯式方阻鍍層，包括第一方阻鍍層、第二方阻鍍層和第三方阻鍍層，由于產(chǎn)品對(duì)電流要求不高，在對(duì)稱的兩塊金屬化膜卷繞出來的電容器元件上面，只要出現(xiàn)薄弱點(diǎn)，就能夠?qū)⒏叻阶璨糠值慕饘馘儗訉友杆贇饣舭l(fā)，薄膜自愈。由于薄弱點(diǎn)的面積甚小，對(duì)產(chǎn)品的電容量損失幾乎為零，所以這種階梯式高方阻金屬化膜結(jié)構(gòu)的材料特別適合直流支撐電容器的廣泛使用。
[0006]本實(shí)用新型的直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜，所述第一方阻鍍層的電阻為2.5Ω，第二方阻鍍層的電阻為7.5Ω，第三方阻鍍層的電阻為50—60Ω。所述的塑料薄膜為聚丙烯薄膜。所述的金屬鍍層為鋅鋁鍍層。能有效提高電容器金屬化膜的機(jī)械應(yīng)力和耐壓等電氣性能。
【附圖說明】
[0007]圖1是本實(shí)用新型直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0008]本實(shí)用新型涉及一種直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜，如圖1所示，包括塑料薄膜I和金屬鍍層2構(gòu)成的金屬化膜3，所述的金屬鍍層2為階梯式方阻鍍層，包括第一方阻鍍層4、第二方阻鍍層5和第三方阻鍍層6，第一方阻鍍層4的高度Hl為90nm，第二方阻鍍層5的高度H2為30nm，第三方阻鍍層6的高度H3為3—4nm。本方案將金屬鍍層設(shè)計(jì)成階梯式方阻鍍層，包括第一方阻鍍層4、第二方阻鍍層5和第三方阻鍍層6，由于產(chǎn)品對(duì)電流要求不高，在對(duì)稱的兩塊金屬化膜卷繞出來的電容器元件上面，只要出現(xiàn)薄弱點(diǎn)，就能夠?qū)⒏叻阶璨糠值慕饘馘儗訉友杆贇饣舭l(fā)，薄膜自愈。由于薄弱點(diǎn)的面積甚小，對(duì)產(chǎn)品的電容量損失幾乎為零，所以這種階梯式高方阻金屬化膜結(jié)構(gòu)的材料特別適合直流支撐電容器的廣泛使用。所述第一方阻鍍層4的電阻為2.5Ω，第二方阻鍍層5的電阻為7.5Ω，第三方阻鍍層6的電阻為50—60 Ω。所述的塑料薄膜I為聚丙烯薄膜。所述的金屬鍍層2為鋅鋁鍍層。能有效提1?電容器金屬化I旲的機(jī)械應(yīng)力和耐壓等電氣性能D
【主權(quán)項(xiàng)】
1.直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜，包括塑料薄膜(I)和金屬鍍層(2)構(gòu)成的金屬化膜(3)，其特征在于所述的金屬鍍層(2)為階梯式方阻鍍層，包括第一方阻鍍層(4)、第二方阻鍍層(5)和第三方阻鍍層(6)，第一方阻鍍層(4)的高度Hl為90nm，第二方阻鍍層(5)的高度H2為30nm，第三方阻鍍層(6)的高度H3為3—4nm。2.如權(quán)利要求1所述的直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜，其特征在于所述第一方阻鍍層(4)的電阻為2.5Ω，第二方阻鍍層(5)的電阻為7.5Ω，第三方阻鍍層(6)的電阻為50—60 Ω。3.如權(quán)利要求1所述的直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜，其特征在于所述的塑料薄膜(I)為聚丙烯薄膜。4.如權(quán)利要求1所述的直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜，其特征在于所述的金屬鍍層(2)為鋅鋁鍍層。
【文檔編號(hào)】H01G4/015GK205428701SQ201620168718
【公開日】2016年8月3日
【申請(qǐng)日】2016年3月7日
【發(fā)明人】陳家驊
【申請(qǐng)人】浙江臺(tái)州特總電容器有限公司