檢查單元、檢查方法和包括檢查單元的基板處理設備的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了檢查單元、檢查方法和包括所述檢查單元的基板處理設備?；逄幚碓O備包括：處理單元、噴嘴單元以及檢查單元，其檢查所述處理液體是否從所述處理液體噴嘴被正常地排放。所述噴嘴還包括噴嘴驅動器，所述噴嘴驅動器將所述處理液體噴嘴從過程位置和檢查位置移動，在所述過程位置處，所述基板由所述處理單元處理，在所述檢查位置處，所述處理液體噴嘴由所述檢查單元檢查。所述檢查單元包括：透明材料的板；攝影構件，其設置在所述板下方；光源構件，其將光照射到從所述處理液體噴嘴朝在所述檢查位置處的所述板排放的所述處理液體的路徑上；以及確定構件，其從由所述攝影構件拍攝的圖像確定所述處理液體是否被正常地排放。
【專利說明】
檢查單元、檢查方法和包括檢查單元的基板處理設備
[0001]相關申請的交叉引用
【背景技術】
[0002]本發(fā)明構思涉及檢查單元、檢查方法和包括檢查單元的基板處理設備，更具體地涉及檢查噴嘴的排放狀態(tài)的檢查單元、檢查方法、以及包括檢查單元的基板處理設備。
[0003]為了制造半導體裝置或液晶顯示器，在基板上執(zhí)行各種過程，例如，光刻、蝕刻、灰化、離子植入和薄膜沉積。為了消除過程中產生的異物和顆粒，清潔基板的清潔過程在各種過程之前或之后進行。
[0004]同時，基板處理過程的多個過程包括將液體供應至基板和處理基板。通常，當液體被供應至基板時，它通過噴嘴供應到基板上。
[0005]同時，將光照射到噴嘴的頂端，并且由設置在噴嘴后面的相機對排放的液體拍照，通過這種方式來檢查從噴嘴排放的液體。然而，在檢查方法中，光可以根據相機的位置和光的位置來散射，并且在光或相機遠側的位置處拍攝的圖像可能由于光的擴散現象而失真或具有誤差，這使得難以進行精確的檢查。

【發(fā)明內容】

[0006]本發(fā)明構思提供了檢查用于將處理液體供應至基板的噴嘴的檢查單元、檢查方法和包括檢查單元的基板處理設備。
[0007]本發(fā)明構思提供了一種處理基板的設備。
[0008]根據本發(fā)明構思的一個實施例，基板處理設備可包括:處理單元，其包括容器和支撐構件，該支撐構件設置在容器的內部空間中以支撐基板，該處理單元被構造成處理基板；噴嘴單元，其具有處理液體噴嘴，以用于將處理液體供應至設置在處理單元中的基板；以及檢查單元，其檢查處理液體是否從處理液體噴嘴被正常地排放。噴嘴單元還包括噴嘴驅動器，該噴嘴驅動器將處理液體噴嘴從過程位置和檢查位置移動，在過程位置處，基板由處理單元處理，在檢查位置處，處理液體噴嘴由檢查單元檢查。檢查單元可包括:透明材料的板；攝影構件，其設置在板下方;光源構件，其將光照射到從處理液體噴嘴朝在檢查位置處的板排放的處理液體的路徑上；以及確定構件，其從由攝影構件拍攝的圖像確定處理液體是否被正常地排放。
[0009]根據本發(fā)明構思的一個實施例，基板處理設備還可包括檢查單元，該檢查單元還包括擴散防止板，該擴散防止板限制從光源構件照射的光的光寬度。
[0010]根據本發(fā)明構思的一個實施例，狹縫可以形成于擴散防止板中，并且光寬度可以由狹縫限制。
[0011]根據本發(fā)明構思的一個實施例，處理液體噴嘴可包括多個排放孔，并且狹縫的寬度可以設置成對應于當從光被照射到的一側觀察時在排放孔中的最外排放孔之間的距離。
[0012]根據本發(fā)明構思的一個實施例，當從頂部觀察時，擴散防止板可以設置在比光源構件更靠近處理液體噴嘴處。
[0013]根據本發(fā)明構思的一個實施例，檢查單元還可包括使板圍繞板的中心旋轉的旋轉驅動單元。
[0014]根據本發(fā)明構思的一個實施例，攝影構件可以設置在板的中心區(qū)域和周邊區(qū)域之間。
[0015]根據本發(fā)明構思的一個實施例，光源構件和攝影構件可以布置成使得光被照射的方向和攝影構件拍攝的方向彼此垂直。
[0016]根據本發(fā)明構思的一個實施例，攝影構件可以設置在面向設置在檢查位置處的處理液體噴嘴處。
[0017]根據本發(fā)明構思的一個實施例，檢查單元還可包括驅動器，該驅動器使光源構件向上和向下移動。
[0018]根據本發(fā)明構思的一個實施例，處理液體噴嘴可包括多個排放孔，并且光源構件可以布置成使得如果處理液體噴嘴設置在檢查位置處，那么光的路徑穿過鄰近排放孔的位置。
[0019]根據本發(fā)明構思的一個實施例，從光源構件照射的光可以是激光。
[0020]根據本發(fā)明構思的一個實施例，檢查單元還可包括清潔噴嘴，該清潔噴嘴將清潔液體供應至板，使得供應到板上的處理液體被清除。
[0021 ]根據本發(fā)明構思的一個實施例，清潔噴嘴可以將清潔液體供應至板的中心。
[0022]根據本發(fā)明構思的一個實施例，清潔噴嘴可以設置在穿過板的中心的假想線的一側上，處理液體噴嘴和攝影構件可以設置在假想線的相對側上，并且清潔噴嘴的排放管線可以朝板的中心傾斜。
[0023]根據本發(fā)明構思的一個實施例，檢查單元還可包括設置成圍繞板的杯。
[0024]根據本發(fā)明構思的一個實施例，處理液體噴嘴可包括:主體，該主體具有射出通路和連接到射出通路以射出處理液體的排放孔，在主體內部的處理液體流過射出通路；以及振動器，其將流過主體中的射出通路的處理液體加壓并且設置在射出通路上方。
[0025]本發(fā)明構思提供了一種檢查單元，該檢查單元檢查處理液體是否從處理液體噴嘴被正常地排放，以用于將處理液體供應至基板。
[0026]根據本發(fā)明構思的一個實施例，檢查單元可包括:透明材料的板;攝影構件，其設置在板下方;光源構件，其將光照射到從處理液體噴嘴朝在檢查位置處的板排放的處理液體的路徑上；以及確定構件，其從由攝影構件拍攝的圖像確定處理液體是否被正常地排放。
[0027]根據本發(fā)明構思的一個實施例，檢查單元還可包括擴散防止板，該擴散防止板限制從光源構件照射的光的光寬度。
[0028]根據本發(fā)明構思的一個實施例，狹縫可以形成于擴散防止板中，并且光寬度由狹縫限制。
[0029]根據本發(fā)明構思的一個實施例，檢查單元還可包括使板圍繞板的中心旋轉的旋轉驅動單元。
[0030]根據本發(fā)明構思的一個實施例，檢查單元還可包括使板旋轉的旋轉驅動單元。
[0031]根據本發(fā)明構思的一個實施例，光源構件和攝影構件可以布置成使得光被照射的方向和攝影構件拍攝的方向彼此垂直。
[0032]根據本發(fā)明構思的一個實施例，攝影構件可以設置在板的中心區(qū)域和周邊區(qū)域之間。
[0033]根據本發(fā)明構思的一個實施例，檢查單元還可包括驅動器，該驅動器使光源構件向上和向下移動。
[0034]根據本發(fā)明構思的一個實施例，檢查單元還可包括清潔噴嘴，該清潔噴嘴將清潔液體供應至板，使得供應到板上的處理液體被清除。
[0035]根據本發(fā)明構思的一個實施例，清潔噴嘴可以將清潔液體供應至板的中心。
[0036]根據本發(fā)明構思的一個實施例，清潔噴嘴可以設置在穿過板的中心的假想線的一側上，并且處理液體噴嘴和攝影構件可以設置在假想線的相對側上，并且清潔噴嘴的排放管線朝板的中心傾斜。
[0037]根據本發(fā)明構思的一個實施例，檢查單元還可包括設置成圍繞板的杯。
[0038]根據本發(fā)明構思的一個實施例，從光源構件照射的光可以是激光。
[0039]本發(fā)明構思提供了一種檢查方法，該方法檢查處理液體是否從處理液體噴嘴被正常地排放，以用于將處理液體供應至基板。
[0040]根據本發(fā)明構思的一個實施例，檢查方法可包括:將處理液體排放到透明材料的板;將光照射到處理液體被排放的路徑上;利用攝影構件從板的下側拍攝光路徑上的處理液體;以及從拍攝的圖像確定處理液體是否被正常地排放。
[0041 ]根據本發(fā)明構思的一個實施例，在處理液體被排放的同時，板可以旋轉。
[0042]根據本發(fā)明構思的一個實施例，處理液體噴嘴可包括多個排放孔，并且光的光寬度可以由具有狹縫的擴散防止板限制。
[0043]根據本發(fā)明構思的一個實施例，光寬度可以設置成對應于當從光被照射到的一側觀察時設置在最外側上的處理液體噴嘴的排放孔之間的距離。
[0044]根據本發(fā)明構思的一個實施例，光被照射的方向可以垂直于處理液體被排放的方向。
[0045]根據本發(fā)明構思的一個實施例，排放到板的處理液體可以通過將清潔液體供應至板來清除。
[0046]根據本發(fā)明構思的一個實施例，清潔液體可以被供應至板的中心。
[0047]根據本發(fā)明構思的一個實施例，在清潔液體被排放的同時，板可以旋轉。
[0048]根據本發(fā)明構思的一個實施例，在處理液體被排放的同時，清潔液體可以被供應至板。
[0049]根據本發(fā)明構思的一個實施例，在處理液體被排放之后，清潔液體可以被供應至板。
[0050]根據本發(fā)明構思的一個實施例，光的照射路徑可以設置在鄰近處理液體噴嘴的排放孔處。
[0051]根據本發(fā)明構思的一個實施例，光可以被照射到穿過從處理液體噴嘴的排放孔排放的小滴的路徑。
[0052]根據本發(fā)明構思的一個實施例，光可以是激光。
[0053]根據本發(fā)明構思的一個實施例，通過提供檢查將液體供應至基板的噴嘴的檢查單兀，可以提尚基板處理設備的效率。
[0054]根據本發(fā)明構思的一個實施例，通過將擴散防止板設置成鄰近光源構件以限制光源的光寬度，可以在檢查過程期間有效地執(zhí)行拍攝操作。
[0055]根據本發(fā)明構思的一個實施例，通過有效地布置光源構件和拍攝構件，可以提高檢查過程的效率。
【附圖說明】
[0056]上述和其它目的和特征將從參照附圖的以下描述變得顯而易見，其中，除非另行規(guī)定，貫穿各個附圖，類似的附圖標記表示類似的部件，并且在附圖中:
[0057]圖1是平面圖，示意性地示出了根據本發(fā)明構思的基板處理系統(tǒng)；
[0058]圖2是剖視圖，示出了圖1的基板處理設備；
[0059]圖3是剖視圖，不出了圖2的處理液體噴嘴；
[0000]圖4是仰視圖，不出了圖3的處理液體噴嘴；
[0061 ]圖5是視圖，示出了圖2的處理液體噴嘴的射出通路的另一個實施例；
[0062]圖6是剖視圖，示出了圖2的擴散防止板；
[0063]圖7是視圖，示意性地示出了從光構件照射的光的光寬度；
[0064]圖8至12是視圖，示出了根據本發(fā)明構思的一個實施例的檢查方法；以及
[0065]圖13是視圖，示意性地示出了光被照射到從處理液體噴嘴排放的處理液體。
【具體實施方式】
[0066]在下文中，將參照附圖更詳細地描述本發(fā)明構思的示例性實施例。本發(fā)明構思的實施例可以以各種形式被修改，并且本發(fā)明構思的范圍不應解釋為限制以下實施例。本發(fā)明構思的實施例提供用于為本領域的技術人員更全面地描述本發(fā)明構思。因此，附圖的部件的形狀被夸大以突出其更清楚的描述。
[0067]圖1是平面圖，示意性地示出了根據本發(fā)明構思的基板處理系統(tǒng).
[0068]參看圖1，基板處理系統(tǒng)10具有轉位模塊100和過程處理模塊200，并且轉位模塊100包括多個加載端口 120和進料框架140。加載端口 120、進料框架140和過程處理模塊200可以順序地布置成行。在下文中，加載端口 120、進料框架140和過程處理模塊200布置的方向將被稱為第一方向12。當從頂部觀察時，垂直于第一方向12的方向將被稱為第二方向14，并且正交于包括第一方向12和第二方向14的平面的方向將被稱為第三方向16。
[0069]其中接納基板W的載體130設置在加載端口120上。多個加載端口 120被提供并且沿著第二方向14布置成行。圖1示出提供了四個加載端口 120。然而，加載端口 120的數目可以根據情況(例如，過程處理模塊200的過程效率或占有面積)增加或減少。在載體130中形成有提供用于支撐基板的周邊的多個狹槽(未示出)。多個狹槽沿著第三方向16設置，并且基板設置在載體130中，使得基板疊置成沿著第三方向16彼此間隔開。前開式晶圓傳送盒(FOUP)可以被用作載體130。
[0070]過程處理模塊200包括緩沖單元220、進料室240和多個過程室260。進料室240布置成使得其縱長方向平行于第一方向12。過程室260沿著第二方向14布置在進料室240的相對側上。設置在進料室240的一側上的過程室和設置在進料室240的相對側上的過程室260相對于進料室240彼此對稱。過程室260中的一些沿著進料室240的縱長方向布置。此外，過程室260中的一些布置成彼此疊置。即，具有AXB(A和B是自然數)的陣列的過程室260可以布置在進料室240的一側上。這里，A是沿著第一方向12設置成行的過程室260的數目，并且B是沿著第三方向16設置成行的過程室260的數目。當四個或六個過程室260設置在進料室240的一側上時，過程室260可以布置成2 X 2或3 X 2的陣列中。過程室260的數目可以增加或減少。與上述描述不同，過程室260可以僅設置在進料室240的一側上。此外，與上述描述不同，過程室260可以設置在進料室240的一側或相對側上以形成單個層。
[0071 ]緩沖單元220布置在進料框架140和進料室240之間。緩沖單元220提供空間，基板W在進料室240和進料框架140之間被輸送之前停留在該空間中。定位有基板W的狹槽(未示出)設置在緩沖單元220中，并且多個狹槽(未示出)設置成沿著第三方向16彼此間隔開。面向進料框架140且面向進料室240的緩沖單元220的每個面可以是開放的。
[0072]進料框架140在設置在加載端口120上的載體130和緩沖單元220之間輸送基板。轉位軌142和轉位機器人150設置在進料框架140中。轉位軌142布置成使得其縱長方向平行于第二方向14。轉位機器人150安裝在轉位軌142上，并且在第二方向14上沿著轉位軌142線性移動。轉位機器人150具有基部151、主體153和多個轉位臂155?；?51安裝成沿著轉位軌142移動。主體153聯接到基部151。主體153設置成沿著第三方向16在基部151上移動。主體153設置成在基部151上旋轉。轉位臂155聯接到主體153，并且設置成相對于主體153向前和向后移動。多個轉位臂155設置成獨立地驅動。轉位臂155布置成疊置，以便沿著第三方向16彼此間隔開。當基板W被從過程模塊200輸送至載體130時，使用轉位臂155中的一些，并且當基板W被從載體130輸送至過程處理模塊200時，使用轉位臂155中的另一些。該結構可以防止在過程處理之前從基板W生成的顆粒在過程處理之后在由轉位機器人150將基板W載入和載出的過程中附接到基板W。
[0073]進料室240在緩沖單元220和過程室260之間并且在過程室260之間輸送基板W。導軌242和主機器人250設置在進料室240中。導軌242布置成使得其縱長方向平行于第一方向12。主機器人250安裝在導軌242上，并且沿著第一方向12在導軌242上線性移動。主機器人250具有基部251、主體253和主臂255。基部251安裝成沿著導軌242移動。主體253聯接到基部251。主體253設置成沿著第三方向16在基部251上移動。主體253設置成在基部251上旋轉。主臂255聯接到主體253，并且設置成相對于主體253向前和向后移動。多個主臂255設置成獨立地驅動。主臂255布置成疊置，以便沿著第三方向16彼此間隔開。當基板被從緩沖單元220和過程室260輸送時使用的主臂255與當基板被從過程室260輸送到緩沖單元220時使用的主臂255可以是不同的。
[0074]在基板W上執(zhí)行清潔過程的基板處理設備300設置在過程室260中。根據執(zhí)行的清潔過程的類型，設置在過程室260中的基板處理設備300可具有不同的結構。選擇性地，在過程室260中的基板處理設備300可具有相同的結構。選擇性地，過程室260可被劃分為多個組，使得設置在與相同組有關的過程室260中的基板處理設備300具有相同的結構，并且設置在與不同的組有關的過程室260中的基板處理設備300具有不同的結構。例如，當過程室260被劃分為兩組時，第一組的過程室260可以設置在進料室240的一側上，并且第二組的過程室260可以設置在進料室240的相對側上。選擇性地，第一組的過程室260可以設置在進料室240的下側上，并且第二組的過程室260可以設置在進料室240的上側上，在進料室240的相對側上。第一組的過程室260和第二組的過程室260可以根據所使用的化學物質的種類或清潔方法的類型來劃分。
[0075]在下文中，包括壓電體的噴嘴將作為本發(fā)明構思的實施例中的示例被描述，但本發(fā)明構思不限于此，而是可以應用于檢查基板處理設備的所有檢查單元，該設備包括用于將液體供應至基板的噴嘴并處理基板。
[0076]圖2是剖視圖，不出了圖1的基板處理設備。參看圖2，基板處理設備300包括外殼301、處理單元303、噴嘴單元400和檢查單元500。
[0077]外殼301在其內部中提供空間。外殼301具有長方體形狀。處理單元303、噴嘴單元400和檢查單元500設置在外殼301的內部空間中。
[0078]處理單元303將處理液體供應至基板以處理基板。處理單元303包括容器320、支撐構件340和提升構件360。
[0079]容器320提供在其中進行基板處理過程的空間。容器320的上側是開放的。容器320具有內部回收器皿322、中間回收器皿324和外部回收器皿326?；厥掌髅?22、324和326回收在過程中使用的不同的處理液體。內部回收器皿322設置成具有圍繞支撐構件340的環(huán)形圈形狀。中間回收器皿324設置成具有圍繞內部回收器皿322的環(huán)形圈形狀。外部回收器皿326設置成具有圍繞中間回收器皿324的環(huán)形圈形狀。內部回收器皿322的內部空間322a、在內部回收器皿322和中間回收器皿324之間的空間324a、在中間回收器皿324和外部回收器皿326之間的空間326a充當入口，處理液體通過該入口分別引入到內部回收器皿322、中間回收器皿324和外部回收器皿326中。在其底部表面的向下方向上從回收器皿322、324和326垂直地延伸的回收管線322b、324b和326b分別連接到回收器皿322、324和326。回收管線322b、324b和326b排放分別通過回收器皿322、324、326引入的處理液體。排放的處理液體可以通過外部處理液體循環(huán)系統(tǒng)(未示出)重新使用。
[0080]支撐構件340在過程期間支撐并旋轉基板W。支撐構件340具有主體342、多個支撐銷344、多個卡盤銷346和支撐軸348。主體342具有上表面，當從頂部觀察時，該上表面具有基本上圓形的形狀?？梢杂神R達349旋轉的支撐軸348固定地聯接到主體342的底部。
[0081]提供了多個支撐銷344。支撐銷344可布置成在主體342的上表面的周邊處彼此間隔開，并且從主體342向上突出。支撐銷344布置成具有通過它們的組合的大體上環(huán)形圈的形狀。支撐銷344支撐基板W的后表面的周邊，使得基板W與主體342的上表面間隔開預定的距離。
[0082]提供了多個卡盤銷346?？ūP銷346布置成比支撐銷344更遠離主體342的中心?？ūP銷346設置成從主體342向上突出?？ūP銷346支撐基板W的側面，使得當支撐構件340被旋轉時基板W不從正確的位置側向分離?？ūP銷346設置成在備用位置和支撐位置之間沿著主體342的徑向方向線性移動。備用位置是比支撐位置更遠離主體342的中心的位置。當基板W被加載到支撐構件340上或從支撐構件340卸載時，卡盤銷346位于備用位置處，并且當過程在基板W上進行時，卡盤銷346位于支撐位置處。卡盤銷346在支撐位置處與基板W的側面接觸。
[0083]提升構件360向上和向下線性移動容器320。當容器320向上和向下移動時，容器320到支撐構件340的相對高度改變。提升構件360具有托架362、可移動的軸364和驅動器366。托架362固定地安裝在容器320的外壁上。由驅動器366向上和向下移動的可移動的軸364固定地聯接到托架362。容器320被降低，使得當基板W定位在支撐構件340上或從支撐構件340提升時，支撐構件340突出至容器320的上側。當過程進行時，容器320的高度被調整，使得處理液體根據供應至基板W的處理液體的種類而被引入到預定的回收器皿360中。選擇性地，提升構件360可以向上和向下移動支撐構件340。
[0084]噴嘴單元400將處理液體射出到基板W上。多個噴嘴單元400可以設置成以各種方法射出各種類型的處理液體或相同類型的處理液體。噴嘴單元400包括支撐軸401、噴嘴臂403、處理液體噴嘴405、噴嘴驅動器406和保護液體噴嘴408。
[0085]支撐軸401布置在容器320的一側上。支撐軸401具有桿形形狀，其縱長方向為豎直方向。支撐軸401由噴嘴驅動器406擺動并升高。不同的是，支撐軸401可以由噴嘴驅動器388水平地線性移動并升高。噴嘴臂403固定地聯接到支撐軸401的上端。噴嘴臂403支撐處理液體噴嘴405和保護液體噴嘴408。處理液體噴嘴405和保護液體噴嘴408設置在噴嘴臂403的端部處。例如，保護液體噴嘴408可以設置在比處理液體噴嘴405更靠近噴嘴臂403的端部處。當處理液體噴嘴405將處理液體排放到基板上時，將處理液體噴嘴405定位到在基板的上側的排放位置。同時，如果處理液體被完全排放，處理液體噴嘴405設置在液體器皿472內部的清潔位置處。
[0086]噴嘴驅動器406可以將處理液體噴嘴405移動到過程位置Pl和檢查位置P2。這里，過程位置Pl是處理單元303處理基板的位置。在過程位置Pl處，處理液體噴嘴405設置在支撐構件340上。檢查位置P2是在該處由檢查單元500檢查處理液體噴嘴405的位置。在檢查位置Pl處，處理液體噴嘴405設置在板541上。噴嘴驅動器406可以向上和向下提升處理液體噴嘴405。
[0087]圖3是剖視圖，示出了根據本發(fā)明構思的一個實施例的處理液體噴嘴。圖4是仰視圖，示出了圖3的處理液體噴嘴。參看圖3和4，處理液體噴嘴405將處理液體射出到基板上。當從頂部觀察時，處理液體噴嘴405具有圓形形狀。處理液體噴嘴405包括主體420、振動器436、處理液體供應管線450和處理液體回收管線460。
[0088]主體420具有下板410和上板430。下板410具有圓柱形形狀。在下板410的內部形成有射出通路412，處理液體流過該通路中。在下板410的底部表面上形成有多個第一排放孔414，處理液體通過該排放孔射出。第一排放孔414與射出通路412連通。在第一排放孔414中形成有細孔。
[0089]射出通路412可包括第一區(qū)域412b、第二區(qū)域412c和第三區(qū)域412a。當從頂部觀察時，第一區(qū)域412b和第二區(qū)域412c具有環(huán)形形狀。第一區(qū)域412b的半徑大于第二區(qū)域412c的半徑。第一區(qū)域412b的第一排放孔414可以沿著第一區(qū)域412b設置成行。第二區(qū)域412c的第一排放孔414可以沿著第二區(qū)域412c設置成兩行。第三區(qū)域412a將第一區(qū)域412b和第二區(qū)域412c連接到引入通路432。第三區(qū)域412a將第一區(qū)域412b和第二區(qū)域412c連接到回收通路434。例如，如圖4所示，第三區(qū)域412a可以連接到引入通路432或回收通路434。上板430設置成具有圓柱形形狀，該圓柱形具有與下板410的圓柱形相同的直徑。上板430固定地聯接到下板410的上表面。引入通路423和回收通路434形成于上板430的內部中。引入通路432和回收通路434與射出通路412的第二區(qū)域412b連通。引入通路432用作通過其將處理液體引入射出通路412中的入口，并且回收通路434用作通過其將處理液體從射出通路412回收的出口。引入通路432和回收通路434設置成相對于處理液體噴嘴405的中心彼此面對。
[0090]振動器436設置在上板430的內部中。當從頂部觀察時，振動器436設置成具有圓盤形狀。例如，振動器436設置成具有與第一區(qū)域412b相同的直徑。選擇性地，振動器436的直徑可以大于第一區(qū)域412b的直徑且小于上板430的直徑。振動器436電連接到設置在外部上的電源438。振動器436為射出的處理液體提供振動，以控制處理液體的顆粒尺寸和流量。根據本發(fā)明構思的一個實施例，振動器436可以是壓電元件。處理液體可以提供為清潔液體。例如，處理液體可以是電解水。電解水可包括氫水、氧水、臭氧水中的任一者或全部。
[0091]處理液體供應管線450將處理液體供應至引入通路432，并且處理液體回收管線460從回收通路434回收處理液體。處理液體供應管線450連接到引入通路432。處理液體回收管線460連接到回收通路434。栗452和供應閥454安裝在處理液體供應管線450上?；厥臻y462安裝在處理液體回收管線460上。栗452將從處理液體供應管線450供應至引入通路432的處理液體加壓。供應閥454打開并關閉處理液體供應管線450。回收閥462打開并關閉處理液體回收管線460。根據本發(fā)明構思的一個實施例，當過程處于備用狀態(tài)時，回收閥462打開處理液體回收管線460。因此，處理液體通過處理液體回收管線460被回收，并且不通過第一射出孔414射出。不同的是，在過程進行的同時，回收閥462關閉處理液體回收管線460。因此，射出通路412被處理液體填充，并且射出通路412的內部壓力增加，如果電壓被施加到振動器436，處理液體可以通過第一射出孔414射出。
[0092]圖5是視圖，示出了圖2的處理液體噴嘴的噴射通路的另一個實施例。在下文中，參看圖5，射出通路4120包括第一射出通路4120a、第二射出通路4120b和第三射出通路4120c。第一射出通路4120a從弓I入通路432延伸。第一射出通路4120a可具有第一長度LI。第二射出通路4120b從回收通路434延伸。第二射出通路4120b設置成平行于第一射出通路4120a。第二射出通路4120b可具有第一長度LI。第三射出通路4120c連接第一射出通路4120a和第二射出通路4120b。第三射出通路4120c設置成彎曲的。第三射出通路4120c的一部分可以設置成平行于第一射出通路4120a且具有第一長度LI。例如，第三射出通路4120c可以設置成具有這樣的形狀:其中，多個U形形狀連接到彼此。選擇性地，第三射出通路4120c可以設置成具有各種形狀。
[0093]重新參看圖2，保護液體噴嘴408將液體供應到基板上。當處理液體由處理液體噴嘴405供應時，保護液體噴嘴408同時供應液體。然后，在處理液體噴嘴405開始供應處理液體之前，保護液體噴嘴408可以供應液體。例如，保護液體噴嘴408可以以滴狀方式射出液體。保護液體噴嘴408設置成圍繞處理液體噴嘴405的一部分。保護液體噴嘴408設置在比處理液體噴嘴405更靠近噴嘴臂382的端部處。保護液體噴嘴408具有垂直于基板的第二排放孔(未示出)，液體通過該第二排放孔排放到基板上。保護液體噴嘴408設置成具有弧形形狀，當從頂部觀察時，該弧形圍繞處理液體噴嘴405。在保護液體噴嘴408的相對的兩端之間的線性距離可以大于處理液體噴嘴405的直徑。然后，處理液體噴嘴405和保護液體噴嘴408可以是同心的。液體提供為保護液體。例如，液體可以是包含氨和過氧化氫的溶液。液體在基板W上形成液體膜，并且液體膜緩解由處理液體施加到基板W的沖擊。因此，可以防止處理液體在基板W上落下圖案。液體可以是純水。第二排放孔可以設置成具有單個狹縫形狀。選擇性地，第二排放孔可包括多個圓形排放孔。保護液體噴嘴408可以將液體射出到與處理液體被射出到的基板W的區(qū)域相鄰的區(qū)域。液體被射出到的區(qū)域可以比處理液體被射出到的區(qū)域更靠近基板W的中心區(qū)域。選擇性地，保護液體噴嘴408可以設置成具有條形形狀，而不是弧形形狀。
[0094]檢查單元500檢查由處理液體噴嘴405供應的處理液體是否被正常地排放。檢查單元500包括杯510、板541、光源構件520、擴散防止板530、清潔噴嘴550、攝影構件560和確定構件580。
[0095]當利用由清潔噴嘴550供應的液體將處理液體從板541的上側移除時，杯510防止處理液體濺到外部。杯510具有在其內部的空間，該空間的上側是開放的。杯510設置成具有開放的上側。排放孔571形成于杯510的底部表面上，液體通過該排放孔排放。排放孔5 71連接到設置在外部上的排放管線573。排放管線573從杯510的底部垂直于杯510的底部向下延伸。排放管線573將通過杯510引入的液體排放到外部。
[0096]板541和支撐件543設置在杯510的內部空間中。當檢查單元500檢查處理液體噴嘴405時，處理液體被從噴嘴405排放到板541的上表面。板541設置成具有圓板形狀。板541由透明材料形成。這里，透明材料是指具有透明性的材料，當處理液體被攝影構件560拍攝時，處理液體通過該透明性來識別。
[0097]面向板541的上部區(qū)域為檢查位置P2。當噴嘴單元400設置在檢查位置P2處時，板541設置在噴嘴單元400下方。
[0098]支撐件543聯接到板541的底部表面。支撐件543固定地聯接到板541的中心。
[0099]旋轉驅動單元535聯接到支撐件543。旋轉驅動單元545使板541旋轉。例如，旋轉驅動單元545可以是馬達。
[0100]光源構件520將光照射到從檢查位置P2朝板541的從處理液體噴嘴405排放的處理液體的路徑上。光源構件520設置在杯510外部。光源構件520布置成使得從光源構件520照射的光的路徑和從處理液體噴嘴045排放的處理液體的排放路徑彼此垂直。光源構件520布置成使得光路徑經過鄰近處理液體噴嘴405的排放孔的位置。光源構件520包括光源521和驅動器523。
[0101]光源521將光照射到供應至板541的處理液體的路徑上。光源521將光照射到在處理液體噴嘴405和板541之間的區(qū)域。光源521將光照射在平行于板541的方向上。例如，光源521的光可以是激光。
[0102]驅動器523可以使光源521向上和向下移動。驅動器523聯接到光源521。選擇性地，在不提供驅動器523的同時，光源523的位置可以被固定。
[0103]擴散防止板523限制由光源構件520照射的光的光寬度。擴散防止板530聯接到光源構件520。擴散防止板530與光源521間隔開。擴散防止板530可以設置在處理液體的排放路徑和光源521之間。當從光被照射到的一側觀察時，擴散防止板530設置成具有圓板形狀。擴散防止板530設置在比光源構件520更靠近處理液體噴嘴405處。當從頂部觀察時，擴散防止板530設置在比光源構件520更靠近處理液體噴嘴405處。狹縫531形成于擴散防止板530中。狹縫531形成于擴散防止板530的中心區(qū)域處。狹縫531限制由光源構件520照射的光的光寬度。狹縫531的寬度dl設置成對應于在排放孔之間的距離d2，當從光被照射到的一側觀察時，排放孔設置在外部上。這里，在排放孔之間的距離是指在排放孔的相對兩端之間的距離d2，如圖6所示。排放孔的對應距離d2是指與狹縫531的寬度dl相同或更大的距離。
[0104]清潔噴嘴550將清潔液體供應至板541的上表面上。清潔液體清潔排放到板541的上表面的處理液體。清潔噴嘴550設置在板541上方。清潔噴嘴570設置在穿過板541的中心的假想線C的一側上。處理液體噴嘴405和攝影構件560設置在穿過板541的中心的假想線C的相對側上。清潔噴嘴550的排放管線設置成朝板541的中心傾斜。清潔噴嘴550將清潔液體排放到板541的中心。例如，供應的清潔液體可以是純水。當處理液體被供應時，清潔液體可以同時被供應至板541。不同的是，清潔液體可以在處理液體被供應之后被供應至板541。
[0105]攝影構件560拍攝從處理液體噴嘴405排放的處理液體。攝影構件560設置在板541下方。攝影構件560的一部分設置在杯510的內部中。攝影構件560設置成使得其拍攝方向面向處理液體噴嘴405排放處理液體的方向。攝影構件560設置成面向在檢查位置P2處的處理液體噴嘴405。攝影構件560在板541的中心區(qū)域和周邊區(qū)域之間設置在板541下方。光源構件520和攝影構件560可以布置成使得光被照射的方向和光由攝影構件560拍攝的方向彼此垂直。例如，攝影構件560可以是電荷耦合相機(CCD)。
[0106]確定構件580從由攝影構件560拍攝的圖像來確定從處理液體噴嘴405排放的處理液體是否被正常地排放。確定構件580連接到攝影構件560。確定構件580接收由攝影構件560拍攝的圖像。例如，確定構件580檢測在排放孔中是否存在任何排放錯誤。排放錯誤包括這樣的情況:其中，排放孔被堵塞，使得處理液體未被排放，或者排放量小于正常量。
[0107]雖然已描述了本發(fā)明構思包括擴散防止板520、杯510、清潔噴嘴550的構型，但擴散防止板520、杯510和清潔噴嘴550的構型中的一些或全部可以不提供。
[0108]此外，在本發(fā)明構思的實施例中作為實例而描述了處理液體噴嘴405包括振動器436的構型，但本發(fā)明構思不限于該處理液體噴嘴，而可以是將處理液體排放到基板以處理基板的所有處理液體噴嘴。
[0109]在下文中，將描述檢查基板處理設備300的噴嘴單元400的檢查方法。
[0110]當噴嘴單元400由檢查單元500檢查時，噴嘴單元400被移動至檢查位置P2。設置在檢查位置P2處的噴嘴單元400將處理液體排放到板541。在處理液體被排放的同時，板541被旋轉。光源構件520將光照射到其中處理液體被排放的路徑上。例如，由光源照射的光源可以是激光。從處理液體噴嘴405排放的處理液體被包括在由光源照射的光的光寬度中。例如，如圖13所示，根據其位置，從處理液體噴嘴405排放的處理液體具有不同長度的小滴。小滴的豎直長度在鄰近排放孔的位置處較長。然后，當其向下行進時，小滴的長度逐漸變得更小，并且預定尺寸的小滴被朝板541供應。然后，光的所有照射路徑穿過最靠近排放孔的所有小滴。
[0111]在光被照射之后，攝影構件560在板541下方拍攝處理液體。拍攝的圖像被發(fā)送至確定構件580。確定構件580從拍攝的圖像來確定處理液體是否從排放孔正常地排放。
[0112]排放到板541的處理液體通過從清潔噴嘴550供應清潔液體來清除。清潔液體由設置在板541上方的清潔噴嘴550供應。清潔噴嘴550將清潔液體供應至板541的中心。在清潔液體被供應的同時，板541被旋轉。當處理液體被排放時，清潔液體可以同時被供應至板541。不同的是，在處理液體被排放之后，可以通過將清潔液體供應至板541來清除處理液體。
[0113]作為本發(fā)明構思的一個實施例，光源為激光。激光具有比諸如鹵素燈的其它光源更好的直線度。此外，當光被照射到其中處理液體被排放通過鄰近光源構件520的擴散防止板530的路徑上時，光寬度被限制以防止光被擴散。此外，光從光源構件520被照射的方向和光由攝影構件560拍攝的方向彼此垂直。根據本發(fā)明構思的實施例，當最遠離光源的小滴被拍攝時，通過利用光的直線度和拍攝方向，可以阻止拍攝的圖像由于光的散射或擴散而失真。
[0114]以上提及的詳細描述例示了本發(fā)明構思。此外，以上提及的內容描述了本發(fā)明構思的示例性實施例，并且本發(fā)明構思可以在各種其它組合、變化和環(huán)境中使用。也就是說，在不脫離本說明書中公開的本發(fā)明構思的范圍、書面公開的等同范圍和/或本領域的技術人員的技術或知識范圍的情況下，本發(fā)明構思可以被修改和更正。書面實施例描述了實現本發(fā)明構思的技術精神的最佳狀態(tài)，并且可以做出在詳細的應用領域和本發(fā)明構思的目的中要求的各種變化。因此，本發(fā)明構思的詳細描述并非意圖將本發(fā)明構思限制在所公開的實施例狀態(tài)中。此外，應當理解，所附權利要求包括其它實施例。
【主權項】
1.一種基板處理設備，包括: 處理單元，所述處理單元包括容器和設置在所述容器的內部中以支撐基板的支撐構件，所述處理單元被構造成處理所述基板； 噴嘴單元，所述噴嘴單元具有處理液體噴嘴以用于將處理液體供應至設置在所述處理單元中的所述基板；以及 檢查單元，所述檢查單元檢查所述處理液體是否被從所述處理液體噴嘴正常地排放， 其中，所述噴嘴單元還包括噴嘴驅動器，所述噴嘴驅動器將所述處理液體噴嘴從過程位置和檢查位置移動，在所述過程位置處，所述基板由所述處理單元處理，在所述檢查位置處，所述處理液體噴嘴由所述檢查單元檢查，并且 其中，所述檢查單元包括: 透明材料的板； 設置在所述板下方的攝影構件； 光源構件，所述光源構件將光照射到從所述處理液體噴嘴朝所述檢查位置處的所述板排放的所述處理液體的路徑上；以及 確定構件，所述確定構件從所述攝影構件拍攝的圖像確定所述處理液體是否被正常地排放。2.根據權利要求1所述的基板處理設備，其中，所述檢查單元還包括擴散防止板，所述擴散防止板限制從所述光源構件照射的所述光的光寬度。3.根據權利要求2所述的基板處理設備，其中，狹縫形成于所述擴散防止板中，并且所述光寬度由所述狹縫限制。4.根據權利要求3所述的基板處理設備，其中，所述處理液體噴嘴包括多個排放孔，并且所述狹縫的寬度設置成對應于從所述光照射到的一側觀察時在所述排放孔中的最靠外的排放孔之間的距離。5.根據權利要求2所述的基板處理設備，其中，所述擴散防止板設置成從頂部觀察時比所述光源構件更靠近所述處理液體噴嘴。6.根據權利要求1所述的基板處理設備，其中，所述檢查單元還包括使所述板圍繞所述板的中心旋轉的旋轉驅動單元。7.根據權利要求6所述的基板處理設備，其中，所述攝影構件設置在所述板的中心區(qū)域和周邊區(qū)域之間。8.根據權利要求1所述的基板處理設備，其中，所述光源構件和所述攝影構件布置成使得所述光被照射的方向和所述攝影構件拍攝的方向彼此垂直。9.根據權利要求8所述的基板處理設備，其中，所述攝影構件設置成面向設置在所述檢查位置處的所述處理液體噴嘴。10.根據權利要求1所述的基板處理設備，其中，所述檢查單元還包括使所述光源構件向上和向下移動的驅動器。11.根據權利要求1所述的基板處理設備，其中，所述處理液體噴嘴包括多個排放孔，并且所述光源構件布置成使得如果所述處理液體噴嘴位于所述檢查位置處，那么所述光的所述路徑穿過鄰近所述排放孔的位置。12.根據權利要求1所述的基板處理設備，其中，從所述光源構件照射的所述光為激光。13.根據權利要求1所述的基板處理設備，其中，所述檢查單元還包括清潔噴嘴，所述清潔噴嘴將清潔液體供應至所述板，使得供應到所述板上的所述處理液體被清除。14.根據權利要求13所述的基板處理設備，其中，所述清潔噴嘴將所述清潔液體供應至所述板的所述中心。15.根據權利要求14所述的基板處理設備，其中，所述清潔噴嘴設置在穿過所述板的所述中心的假想線的一側上，所述處理液體噴嘴和所述攝影構件設置在假想線的相對側上，并且 所述清潔噴嘴的排放管線朝所述板的所述中心傾斜。16.根據權利要求1所述的基板處理設備，其中，所述檢查單元還包括設置成圍繞所述板的杯。17.根據權利要求1所述的基板處理設備，其中，所述處理液體噴嘴包括: 主體，所述主體具有射出通路和連接到所述射出通路以射出所述處理液體的排放孔，所述處理液體在所述主體的內部流過所述射出通路；以及 振動器，所述振動器將流過所述主體中的所述射出通路的所述處理液體加壓并且設置在所述射出通路上方。18.—種檢查單元，所述檢查單元檢查處理液體是否從處理液體噴嘴正常地排放以用于將所述處理液體供應至基板，所述檢查單元包括: 透明材料的板； 設置在所述板下方的攝影構件； 光源構件，所述光源構件將光照射到從所述處理液體噴嘴朝所述檢查位置處的所述板排放的所述處理液體的路徑上；以及 確定構件，所述確定構件從所述攝影構件拍攝的圖像確定所述處理液體是否被正常地排放。19.根據權利要求18所述的檢查單元，其中，所述檢查單元還包括擴散防止板，所述擴散防止板限制從所述光源構件照射的所述光的光寬度。20.根據權利要求19所述的檢查單元，其中，狹縫形成于所述擴散防止板中，并且所述光寬度由所述狹縫限制。21.根據權利要求18所述的檢查單元，其中，所述檢查單元還包括使所述板圍繞所述板的中心旋轉的旋轉驅動單元。22.根據權利要求18所述的檢查單元，其中，所述檢查單元還包括使所述板旋轉的旋轉驅動單元。23.根據權利要求18所述的檢查單元，其中，所述光源構件和所述攝影構件布置成使得所述光被照射的方向和所述攝影構件拍攝的方向彼此垂直。24.根據權利要求23所述的檢查單元，其中，所述攝影構件設置在所述板的中心區(qū)域和周邊區(qū)域之間。25.根據權利要求18所述的檢查單元，其中，所述檢查單元還包括使所述光源構件向上和向下移動的驅動器。26.根據權利要求18所述的檢查單元，其中，所述檢查單元還包括清潔噴嘴，所述清潔噴嘴將清潔液體供應至所述板，使得供應到所述板上的所述處理液體被清除。27.根據權利要求26所述的檢查單元，其中，所述清潔噴嘴將所述清潔液體供應至所述板的所述中心。28.根據權利要求27所述的檢查單元，其中，所述清潔噴嘴設置在穿過所述板的所述中心的假想線的一側上，所述處理液體噴嘴和所述攝影構件設置在所述假想線的相對側上，并且所述清潔噴嘴的排放管線朝所述板的所述中心傾斜。29.根據權利要求18所述的檢查單元，其中，所述檢查單元還包括設置成圍繞所述板的杯。30.根據權利要求18所述的檢查單元，其中，從所述光源構件照射的所述光為激光。31.—種檢查方法，所述檢查方法檢查處理液體是否從處理液體噴嘴被正常地排放，以用于將所述處理液體供應至基板，所述檢查方法包括: 將所述處理液體排放到透明材料的板;將光照射到所述處理液體被排放的路徑上;利用攝影構件從所述板的下側拍攝光路徑上的所述處理液體；以及從所述拍攝的圖像確定所述處理液體是否被正常地排放。32.根據權利要求31所述的檢查方法，其中，在所述處理液體被排放的同時，所述板被旋轉。33.根據權利要求31所述的檢查方法，其中，所述處理液體噴嘴包括多個排放孔，并且所述光的光寬度由具有狹縫的擴散防止板限制。34.根據權利要求31所述的檢查單元，其中，所述光寬度設置成對應于從所述光被照射到的一側觀察時位于所述最靠外側的所述處理液體噴嘴的所述排放孔之間的距離。35.根據權利要求31所述的檢查方法，其中，所述光被照射的方向垂直于所述處理液體被排放的方向。36.根據權利要求31所述的檢查方法，其中，通過將清潔液體供應至所述板來清除排放到所述板的所述處理液體。37.根據權利要求36所述的檢查方法，其中，所述清潔液體被供應至所述板的中心。38.根據權利要求36所述的檢查方法，其中，在所述清潔液體被排放的同時，所述板被旋轉。39.根據權利要求36所述的檢查方法，其中，當所述處理液體被排放時，所述清潔液體同時被供應至所述板。40.根據權利要求36所述的檢查方法，其中，在所述處理液體被排放之后，所述清潔液體被供應至所述板。41.根據權利要求31所述的檢查方法，其中，所述光的所述照射路徑鄰近所述處理液體噴嘴的排放孔。42.根據權利要求31所述的檢查方法，其中，所述光被照射到穿過從所述處理液體噴嘴的所述排放孔排放的小滴的路徑。43.根據權利要求31所述的檢查方法，其中，所述光為激光。
【文檔編號】H01L21/67GK105845601SQ201610056572
【公開日】2016年8月10日
【申請日】2016年1月27日
【發(fā)明人】梁根華, 朱潤鐘, 崔基勛, 金光燮
【申請人】細美事有限公司