一種柔性基底及其制備方法、顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體地，涉及一種柔性基底及其制備方法、柔性顯示器件及其制備方法、顯示基板、顯示面板、顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]柔性顯示器件的制備方法，通常是在玻璃襯底上涂布柔性基底，然后在柔性基板在制備低溫多晶硅的薄膜晶體管和發(fā)光元件等，完成器件制作之后，通常的方法是利用激光(紫外線)將柔性器件與玻璃襯底分離，最后得到柔性顯示器件。
[0003]此工藝過(guò)程中，低溫多晶硅晶化常采用準(zhǔn)分子激光退火(ELA)的方式來(lái)進(jìn)行，在此激光作用過(guò)程中，a-si吸收激光能量，發(fā)生晶化，變成p-si，但是也有部分激光能量會(huì)到達(dá)柔性基板，使其發(fā)生碳化，例如，產(chǎn)生細(xì)小顆粒，裂紋等使得后續(xù)制程的功能層無(wú)法平坦化，影響后續(xù)制程。
[0004]另外，在柔性顯示器件完成后，一般采用激光剝離的方式將柔性顯示器件從玻璃襯底上分離，具體在柔性顯示器件的遠(yuǎn)離玻璃襯底的一側(cè)入射激光，激光輻照的大部分能量瞬時(shí)被柔性基板所吸收，柔性基板和玻璃襯底之間發(fā)生分離；但瞬時(shí)的高熱量會(huì)傳遞到位于柔性基板的薄膜晶體管，對(duì)薄膜晶體管特性有影響，例如，會(huì)使薄膜晶體管的閾值電壓發(fā)生漂移、關(guān)態(tài)電流增加、開關(guān)比變大，使得薄膜晶體管的特性發(fā)生劣化，影響其驅(qū)動(dòng)能力。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]解決上述問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是一種柔性基底及其制備方法、柔性顯示器件及其制備方法、顯示基板、顯示面板、顯示裝置。
[0006]本發(fā)明提供的一種柔性基底，包括第一柔性層和第二柔性層，及設(shè)置在所述第一柔性層和所述第二柔性層之間的紫外光吸收層，其中，所述紫外光吸收層的對(duì)紫外光的吸收能力大于等于所述第一柔性層和所述第二柔性層對(duì)紫外光的吸收能力。
[0007]優(yōu)選的，所述紫外光吸收層包括非晶硅、氧化銦錫、銦鎵鋅氧化物中的一種或幾種。
[0008]優(yōu)選的，所述紫外光吸收層為非晶娃層；所述紫外線的波長(zhǎng)在271nm-355nm之間。
[0009]優(yōu)選的，所述非晶硅層的厚度為100-10000埃。
[0010]優(yōu)選的，所述第一柔性層或所述第二柔性層包括聚酰亞胺。
[0011]優(yōu)選的，所述第一柔性層和所述第二柔性層厚度為5-30微米。
[0012]本發(fā)明的另一個(gè)目的在于提供一種上述的柔性基底的制備方法，包括以下步驟:
[0013]在襯底上形成第一柔性層；
[0014]在所述第一柔性層上形成紫外光吸收層；
[0015]在所述紫外光吸收層形成第二柔性層。
[0016]本發(fā)明的另一個(gè)目的在于提供一種柔性顯示器件，上述的柔性基底和設(shè)置在所述柔性基底上的薄膜晶體管，所述薄膜晶體管的有源層包括多晶硅層。
[0017]本發(fā)明的另一個(gè)目的在于提供一種柔性顯示器件的制備方法，包括以下步驟:
[0018]制備柔性基底；
[0019]在柔性基底上制備包括多晶硅有源層的薄膜晶體管；
[0020]將柔性顯示器件與襯底進(jìn)行分離。
[0021]本發(fā)明的另一個(gè)目的在于提供一種顯示基板，包括上述的柔性顯示器件。
[0022]本發(fā)明的另一個(gè)目的在于提供一種顯示面板，包括上述的顯示基板。
[0023]本發(fā)明的另一個(gè)目的在于提供一種顯示裝置，包括上述的顯示面板。
[0024]本發(fā)明提供的柔性基底及其制備方法、柔性顯示器件及其制備方法，顯示基板，顯示面板，顯示裝置，由于柔性基底包括設(shè)置在兩層柔性層之間的紫外光吸收層，該紫外光吸收層能在有源層采用準(zhǔn)分子激光輻照對(duì)非晶硅轉(zhuǎn)化多晶硅時(shí)，具有夾心紫外光吸收層的柔性基底，能夠利用紫外光吸收層吸收多余的激光能量，防止柔性層受熱碳化；而當(dāng)對(duì)柔性基底和玻璃襯底分離時(shí)，用于剝離的激光束從玻璃襯底射入，柔性基底能夠利用紫外光吸收層吸收多余的激光能量，防止激光對(duì)形成的薄膜晶體管的有源層性能產(chǎn)生不良影響。
【附圖說(shuō)明】
[0025]圖1為本發(fā)明實(shí)施例1中柔性基底的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0026]圖2為本發(fā)明實(shí)施例3中柔性顯示器件制備時(shí)對(duì)有源層進(jìn)行準(zhǔn)分子激光照射的示意圖；
[0027]圖3為本發(fā)明實(shí)施例3中柔性顯示器件制備時(shí)柔性顯示器件和玻璃進(jìn)行剝離的示意圖；
[0028]其中，1.玻璃襯底；2.第一柔性層；3.紫外光吸收層；4.第二柔性層。
【具體實(shí)施方式】
[0029]為使本領(lǐng)域技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)描述。
[0030]實(shí)施例1:
[0031]如圖1所示，本實(shí)施例提供一種柔性基底，包括第一柔性層和第二柔性層4，及設(shè)置在所述第一柔性層2和所述第二柔性層4之間的紫外光吸收層3，其中，所述紫外光吸收層3的對(duì)紫外光的吸收能力大于等于所述第一柔性層2和所述第二柔性層4對(duì)紫外光的吸收能力。
[0032]本發(fā)明提供的柔性基底及其制備方法、顯示裝置，由于柔性基底包括設(shè)置在兩層柔性層之間的紫外光吸收層3，該紫外光吸收層3能在有源層采用準(zhǔn)分子激光輻照對(duì)非晶硅轉(zhuǎn)化多晶硅時(shí)，具有夾心紫外光吸收層3的柔性基底，能夠利用紫外光吸收層3吸收多余的激光能量，防止柔性層受熱碳化；而當(dāng)對(duì)柔性基底和玻璃襯底I分離時(shí)，用于剝離的激光束從玻璃襯底11射入，柔性基底能夠利用紫外光吸收層3吸收多余的激光能量，防止激光對(duì)形成的薄膜晶體管的有源層性能產(chǎn)生不良影響。
[0033]優(yōu)選地，所述紫外光吸收層3包括非晶硅、氧化銦錫、銦鎵鋅氧化物中的一種或幾種。同樣，對(duì)于P型摻雜的氧化銦錫和η型摻雜的氧化銦錫也是適用的。
[0034]應(yīng)當(dāng)理解的是還可以是其它類型的材料，只要所述紫外光吸收層3的對(duì)紫外光的吸收能力大于等于所述第一柔性層2和所述第二柔性層4對(duì)紫外光的吸收能力即可。
[0035]優(yōu)選地，所述紫外光吸收層3為非晶娃層；所述紫外線的波長(zhǎng)在271nm-355nm之間。在此紫外線的波長(zhǎng)范圍內(nèi)非晶硅層對(duì)紫外線的吸收能力大于等于作為柔性層的聚酰亞胺對(duì)紫外線的吸收能力，能夠保護(hù)薄膜晶體管免受紫外光能量的沖擊，并有利后續(xù)制程。
[0036]優(yōu)選地，所述非晶硅層的厚度為100-10000埃。這樣非晶硅層能夠更好的吸收紫外光的能量。
[0037]優(yōu)選地，所述第一柔性層2或所述第二柔性層4包括聚酰亞胺。聚酰亞胺作為常用材料更加適合柔性層的制作。
[0038]優(yōu)選地，所述第一柔性層2和所述第二柔性層4厚度為5-30微米。上述范圍內(nèi)的柔性層厚度可以更好的適應(yīng)剝離玻璃襯底I和制備平坦的功能層的需求。
[0039]實(shí)施例2
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