專利名稱：基片傳送裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種基片傳送裝置，即，將基片送入并使其通過真空處理設(shè)備的一種傳送裝置，該真空處理設(shè)備具有若干工作站、一個(gè)加熱裝置和若干基片支架，基片支架可以是板式、扁平狀和平行六面體的，這些基片支架可在垂直狀態(tài)下沿預(yù)定的傳送路徑通過工作站。
目前使用的基片支架要么是帶有與基片相適應(yīng)的凹口的薄板，要么是帶有撐條的框架(基片固定在撐條上)。通常，基片支架用來裝載許多扁平的和板狀的基片。
上述類型的傳送設(shè)備已由美國(guó)專利US-PS4042128公開。在使用這種傳送設(shè)備時(shí)，平板形基片支架的主平面在其上、下邊棱處，在垂直狀態(tài)下，在輥?zhàn)又g被導(dǎo)引，這些輥?zhàn)涌衫@垂直軸旋轉(zhuǎn)。在其下邊棱處，基片支架還置于具有水平旋轉(zhuǎn)軸的托輥上。
具有多個(gè)工作站和輥?zhàn)拥?、用于真空涂覆設(shè)備的傳送設(shè)備也已公知(見EP-254145B1)，輪子用于導(dǎo)引和運(yùn)送基本上兩維的基片支架在垂直狀態(tài)下沿一條預(yù)先給定的路徑通過工作站，并且在基片支架的下邊棱區(qū)域設(shè)有成對(duì)的導(dǎo)輥，這些導(dǎo)輥可繞垂直軸旋轉(zhuǎn)，基片支架置于其間。
這些公知的傳送裝置的任務(wù)在于盡可能地排除由于涂料落下而產(chǎn)生的涂覆故障。
此外，曾經(jīng)有人提議，給傳送設(shè)備(用于真空涂覆設(shè)備)的基片支架裝上支腿，支腿在固定導(dǎo)軌上滑動(dòng)(見歐洲專利EP-0346815)。
在一份較早的專利申請(qǐng)中(P4029905.8，一種具有多個(gè)工作站的、用于真空加工設(shè)備的基片傳送裝置)，曾建議過，給每個(gè)支腿(下端部)裝上一對(duì)平行的、相互間隔一定距離的、在垂直面內(nèi)設(shè)置的基片支架。一個(gè)加熱器裝進(jìn)基片支架之間的井狀張開區(qū)，該加熱器從真空室的上壁面垂直向下延伸。
公知的這些裝置的缺點(diǎn)是，由于基片所需溫度約為450℃，這就不可避免地對(duì)基片支架產(chǎn)生溫度影響，而且這種溫度影響會(huì)使整個(gè)裝置產(chǎn)生熱膨脹和變形。由于基片和基片的滾柱導(dǎo)軌的尺寸公差較小，熱影響產(chǎn)生的所有構(gòu)件的尺寸改變也大大影響了設(shè)備運(yùn)行的安全性和可靠性，并導(dǎo)致了大多為全自動(dòng)的設(shè)備產(chǎn)生故障。致使這些設(shè)備中斷運(yùn)行，造成較大浪費(fèi)。
此外，當(dāng)一基片支架從涂覆區(qū)送出及另一基片支架送進(jìn)進(jìn)時(shí)，固定安裝在基片支架之間空腔內(nèi)的加熱器也被涂上了涂料。這樣，隨著操作時(shí)間的增加就導(dǎo)致了加熱器的功率損耗。
本發(fā)明的主要任務(wù)是研制一種對(duì)溫度影響不敏感且在高溫情況下保障設(shè)備穩(wěn)定的無故障運(yùn)行的裝置。此外，最好避免加熱器的涂覆，以便盡量延長(zhǎng)維修的間隔時(shí)間。
本發(fā)明的任務(wù)是這樣完成的在真空室內(nèi)給實(shí)心的下端部裝上保持和導(dǎo)引裝置，并給該下端部裝上用金銀絲工藝制成的(filigran)平面框架結(jié)構(gòu)的上端部，待加工的基片借助于一個(gè)基片支架保持在該框架上，并且基片支架可活動(dòng)地懸掛保持在框架上，這樣，當(dāng)加熱造成長(zhǎng)度改變時(shí)，可產(chǎn)生相對(duì)運(yùn)動(dòng)。
這種一致的、用金銀絲工藝制成的(filigran)框架結(jié)構(gòu)，不僅整個(gè)上端部而且基片支架的質(zhì)量較小，并且部件之間可活動(dòng)地固定，這樣就使得裝置對(duì)溫度影響很不敏感及尺寸不易變形。
通過在基片支承框架的垂直支撐上安裝側(cè)面屏蔽板，對(duì)基片加熱器的涂覆得以避免。
其它的實(shí)施 可能性和特征在從屬權(quán)利要求中被進(jìn)一步描述和說明。
本發(fā)明可以有各種不同的實(shí)施例，其中之一作為例子在附圖中詳細(xì)畫出。


圖1在兩個(gè)相對(duì)的噴霧源之間的、裝有基片的基片支架的剖視圖。
圖2圖1所示基片支架的側(cè)視圖。
圖3沿圖2X-X剖開的剖視圖。
圖4具有輪-導(dǎo)軌裝置的基片支架的剖視圖。
在涂覆室(為了簡(jiǎn)便起見，未在圖中畫出)內(nèi)裝有兩個(gè)噴霧源1、2(見圖1)，該噴霧源的工作平面3、4間距相等且對(duì)稱布置。在這兩個(gè)噴霧源1、2之間有一個(gè)支承架5，該支承架由實(shí)心的下端部6及桿件式結(jié)構(gòu)的上端部7構(gòu)成。在下端部6內(nèi)，設(shè)置有一個(gè)裝置(圖中未繪出)，該裝置用于保持和導(dǎo)引涂覆室中的支承架。上端部7由每邊兩個(gè)垂直的支撐8、9及兩個(gè)水平的支撐10、11組成，垂直支承8、9固定在下端部6的兩相對(duì)的端部，水平支撐10、11如圖所示總是與垂直支撐8、9的上端相連接。
由每邊兩個(gè)垂直支撐8、9和每邊一個(gè)水平支撐10、11構(gòu)成的兩個(gè)框架不是封閉的，而是在每?jī)蓚€(gè)部件之間至少有一個(gè)活動(dòng)部位。因此，當(dāng)熱引起長(zhǎng)度改變時(shí)，支承架5不會(huì)產(chǎn)生變形。
用兩個(gè)U形掛勾12、13把基片支架14、15掛到兩個(gè)水平支撐10、11上?；Ъ?4、15由若干水平的、與支撐10、11平行的支承桿16、16′_，17、17′以及若干垂直的、與支撐9、9′平行的支承桿19、19′、_組成(見圖2)。基片支架14、15支承在其下端部，下端部靠著支承輥20、21，支承輥20、21在支承架5內(nèi)水平放置。水平支承桿16、16′_17、17′上設(shè)有槽22、22′_，待涂覆的基片23、23′_裝入槽內(nèi)，基片的正面和反面與噴霧源1、2的工作平面3、4平行。
兩個(gè)基片支架14、15構(gòu)成了一個(gè)上面敝開的空腔24，在此空腔中掛有中央加熱裝置25，該加熱裝置借助一個(gè)支座26固定在圖中未畫出的涂覆腔的蓋子上。
大致上矩形的基片23、23′_裝入矩形框架5的格子內(nèi)(見圖2)。
在垂直支撐9、9′_側(cè)面裝有屏蔽板27、27′_，兩個(gè)相鄰的支承架5，5′_的屏蔽板相互重疊(見圖3)。因此，當(dāng)支承架5、5′沿方向A經(jīng)過位置固定的噴霧源1、2時(shí)，就不會(huì)涂覆位于兩個(gè)基片14、15之間的加熱裝置25。
用來裝入基片23、23′_的支承架5主要由下端部6和上端部7組成(見圖4)。為了保持和引導(dǎo)真空室中的支承架5，在下端部6內(nèi)設(shè)有導(dǎo)軌28，該導(dǎo)軌置于一排輪子30、30′_之上。下端下端部6的垂直支腳29支承在第二排輪子31、31′_上。這些輪子30、30′_、31、31′_固定在沿水平方向延伸的L型機(jī)殼框架32中，該框架32安裝在真空室的壁33和底34上。
權(quán)利要求
1.將基片(23、23′…)送入并使其通過真空處理設(shè)備的傳送裝置，該真空處理設(shè)備具有若干工作站、一個(gè)加熱裝置和若干基片支架，基片支架可以是板式的、扁平的和平行六面體的，這些基片支架可在垂直狀態(tài)下沿預(yù)定的傳送路徑通過工作站，其特征在于在真空室內(nèi)給實(shí)心的下端部(6)裝上保持和導(dǎo)引裝置，該裝置可由二輪組(30、31、…31、31′…)組成，輪組與導(dǎo)軌(28)和立式正推軸承(29)相對(duì)應(yīng)，并給下端部(6)裝上用金銀絲工藝制成的平面框架結(jié)構(gòu)的上端部(7)，待加工的基片(23、23′…)借助于一個(gè)基片支架(14、15)保持在框架上，并且基片支架(14、15)可活動(dòng)地保持在框架上，當(dāng)加熱產(chǎn)生長(zhǎng)度改變時(shí)，基片支架(14、15)可相對(duì)框架運(yùn)動(dòng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于下端部(6)是一個(gè)整體結(jié)構(gòu)并且具有大致平行六面體的外形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的裝置，其特征在于下端部(6)借助一個(gè)輪一導(dǎo)軌裝置被保持和導(dǎo)引。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于上端部(7)和下端部(6)緊緊連接在一起。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，其特征在于上端部(7)由若干垂直支撐(8、8′、9、9′)和若干水平支撐(10、11)組成。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的裝置，其特征在于框架垂直支撐(8、8′、9、9′)及水平支撐(10、11)至少在一個(gè)連接位置相互間可以活動(dòng)，當(dāng)加熱引起長(zhǎng)度改變時(shí)，相互間可以相對(duì)運(yùn)動(dòng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于基片支架(14、15)借助設(shè)置在基片支架(14、15)上端的、下端開口的掛溝(12、12′、13、13′)保持在框架的支撐(10、11)上。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于每?jī)蓚€(gè)結(jié)構(gòu)相同的基片支架(14、15)相互鏡面對(duì)稱布置。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其特征在于下端部(6)上的兩個(gè)基片支架(14、15)之間有一個(gè)窄而高的平行六面體空腔(24)，空腔上端敝開。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置，其特征在于從上面裝入空腔(24)內(nèi)一個(gè)固定在真空室蓋子上的加熱裝置(25)。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于在上端部(7)的垂直支撐(8、8′、9、9′)的外側(cè)裝有屏蔽板(27、27′_)，屏蔽板沿基片(23、23′_)的主延伸方向伸展。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的裝置，其特征在于兩個(gè)相鄰的支承架(5、5′)的屏蔽板(27、27′_)無縫重疊。
全文摘要
基片傳送裝置，即，將基片(23、23′…)送入并使其通過真空處理設(shè)備的一種傳送裝置。該真空處理設(shè)備具有若干工作站、一個(gè)加熱裝置和若干基片支架，基片支架可以是板式的、扁平的和平行六面體的，這些基片支架可在垂直狀態(tài)下沿預(yù)定的傳送路徑通過工作站。在真空室內(nèi)給實(shí)心的下端部(6)裝上保持和導(dǎo)引裝置，并給該下端部(6)裝上用金銀絲工藝制成的(filigran)平面框架結(jié)構(gòu)的上端部(7)，待加工的基片(23、23′…)借助于一個(gè)基片支架(14、15)懸掛在該框架上，并且基片支架(14、15)可活動(dòng)地保持在框架上，當(dāng)加熱產(chǎn)生長(zhǎng)度改變時(shí)，基片支架(14、15)可相對(duì)框架運(yùn)動(dòng)。
文檔編號(hào)H01L21/677GK1073648SQ9211457
公開日1993年6月30日 申請(qǐng)日期1992年11月27日 優(yōu)先權(quán)日1991年11月30日
發(fā)明者P·馬勒, H·沃爾夫 申請(qǐng)人:萊博德股份公司