專利名稱:基板刻蝕監(jiān)測方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種對基板刻蝕進行監(jiān)測的方法。
背景技術：
TFT-LCD刻蝕時使用一個EPS對基板的刻蝕情況進行監(jiān)測，但是一個EPS只能監(jiān)測基板內一個小范圍內的刻蝕情況，隨著TFT-LCD制造工藝的進步，基板面積越來越大，基板內膜厚分布難于控制，一個小范圍內的刻蝕情況無法準確反應整個基板內的刻蝕情況。現有技術只用一個EPS對基板內一個小范圍內的刻蝕情況進行監(jiān)測?？赡茉撔》秶鷥菶PS檢出時，基板內其它區(qū)域還有膜未被完全刻蝕從而造成刻蝕殘留。

發(fā)明內容本發(fā)明的目的是提供一種監(jiān)測方法，能夠較準確的判斷基板的可視情況。
本發(fā)明的目的是通過以下技術方案實現的一種基板刻蝕監(jiān)測方法，其在與被刻蝕基板的一個側邊對應的位置設置一個EPS傳感器，在與被刻蝕基板另一側邊對應的位置設置至少一個EPS傳感器。
其中，各該EPS傳感器設置在其所監(jiān)測的基板區(qū)域的擺動中心。且，各該EPS傳感器設在被刻蝕基板的圖案的外側的位置上。
當各個EPS傳感器獲得的信號值中的最小值大于或等于門限值時，則認為基板刻蝕完畢。
本發(fā)明的積極進步效果在于利用多個EPS傳感器對基板的刻蝕情況進行監(jiān)測，能夠較準確的反映基板當前的狀態(tài)，避免出現刻蝕不完全的情況。
圖1為本發(fā)明一實施例的示意圖。
具體實施方式下面結合附圖給出本發(fā)明較佳實施例，以詳細說明本發(fā)明的技術方案。
一種基板刻蝕監(jiān)測方法，其在與被刻蝕基板1的一個側邊對應的位置設置一個第一EPS傳感器2，在與被刻蝕基板1另一側邊對應的位置設置一個第二EPS傳感器3。也可以設置多個該第一EPS傳感器2以及該第二EPS傳感器3。第一EPS傳感器和第二EPS傳感器是相同的裝置。
其中，各該EPS傳感器設置在其所監(jiān)測的基板區(qū)域(如圖1中虛線所示)的擺動中心。且，各該EPS傳感器設在被刻蝕基板的圖案(如圖1中點劃線所示)的外側的位置上，。
當各個EPS傳感器獲得的信號值中的最小值大于或等于門限值時，則認為基板刻蝕完畢。
權利要求
1.一種基板刻蝕監(jiān)測方法，其在與被刻蝕基板的一個側邊對應的位置設置一個EPS傳感器，其特征在于，在與被刻蝕基板另一側邊對應的位置設置至少一個EPS傳感器。
2.根據權利要求
1所述的基板刻蝕監(jiān)測方法，其特征在于，各該EPS傳感器設置在其所監(jiān)測的基板區(qū)域的擺動中心。
3.根據權利要求
2所述的基板刻蝕監(jiān)測方法，其特征在于，各該EPS傳感器設在被刻蝕基板的圖案的外側的位置上。
4.根據權利要求
3所述的基板刻蝕監(jiān)測方法，其特征在于，當各個EPS傳感器獲得的信號值中的最小值大于或等于門限值時，則認為基板刻蝕完畢。
專利摘要
本發(fā)明公開了一種基板刻蝕監(jiān)測方法，其在與被刻蝕基板的一個側邊對應的位置設置一個EPS傳感器，在與被刻蝕基板另一側邊對應的位置設置至少一個EPS傳感器。本發(fā)明利用多個EPS傳感器對基板的刻蝕情況進行監(jiān)測，能夠較準確的反映基板當前的狀態(tài)，避免出現刻蝕不完全的情況。
文檔編號H01L21/465GK1996566SQ200510112262
公開日2007年7月11日 申請日期2005年12月28日
發(fā)明者田廣彥 申請人:上海廣電Nec液晶顯示器有限公司導出引文BiBTeX, EndNote, RefMan