技術(shù)編號(hào)：81783
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及一種對(duì)基板刻蝕進(jìn)行監(jiān)測(cè)的方法。 背景技術(shù)TFT-LCD刻蝕時(shí)使用一個(gè)EPS對(duì)基板的刻蝕情況進(jìn)行監(jiān)測(cè)，但是一個(gè)EPS只能監(jiān)測(cè)基板內(nèi)一個(gè)小范圍內(nèi)的刻蝕情況，隨著TFT-LCD制造工藝的進(jìn)步，基板面積越來(lái)越大，基板內(nèi)膜厚分布難于控制，一個(gè)小范圍內(nèi)的刻蝕情況無(wú)法準(zhǔn)確反應(yīng)整個(gè)基板內(nèi)的刻蝕情況。現(xiàn)有技術(shù)只用一個(gè)EPS對(duì)基板內(nèi)一個(gè)小范圍內(nèi)的刻蝕情況進(jìn)行監(jiān)測(cè)?？赡茉撔》秶鷥?nèi)EPS檢出時(shí)，基板內(nèi)其它區(qū)域還有膜未被完全刻蝕從而造成刻蝕殘留。 發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的是提供一種監(jiān)測(cè)方法，能夠較準(zhǔn)確的判斷基板的可視情況。 ...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。