本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種基板和顯示裝置。

背景技術(shù)：

oled(英文名稱：organiclightemittingdiode，中文名稱：有機(jī)發(fā)光二極管)顯示器，具有自發(fā)光、無(wú)需背光模組、對(duì)比度以及清晰度高、視角寬、適用于撓曲性面板、溫度特性好、低功耗、響應(yīng)速度快以及制造成本低等一系列優(yōu)異特性，已經(jīng)成為新一代平面顯示裝置的重點(diǎn)發(fā)展方向之一。

oled顯示器通常如圖1所示，包括設(shè)置在襯底10上的像素界定層(英文名稱：pixeldefinitionlayer，英文簡(jiǎn)稱：pdl)11、位于像素界定層11所限定出的亞像素區(qū)域中的發(fā)光層12，以及設(shè)置在oled顯示器出光側(cè)的彩色濾光層20和黑矩陣21。其中，黑矩陣21可以對(duì)光線進(jìn)行遮擋，以防止相鄰亞像素區(qū)域的發(fā)光層12發(fā)出的光互相影響。然而，被黑矩陣21遮擋的光線會(huì)被黑矩陣21吸收，導(dǎo)致oled顯示器的出光率降低。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的實(shí)施例提供一種基板和顯示裝置，用于提高顯示裝置的出光率。

為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案：

本發(fā)明實(shí)施例的第一方面，提供一種基板，包括：亞像素區(qū)域和用于限定亞像素區(qū)域的像素界定區(qū)域，基板包括襯底，以及位于襯底上、且在像素界定區(qū)域內(nèi)的遮光部，遮光部包括：黑矩陣，以及位于黑矩陣上的遮光子部，遮光子部至少位于多組相鄰亞像素區(qū)域之間；其中，遮光子部的側(cè)面能夠反射光線。

可選的，遮光子部包括由不透光材料構(gòu)成的遮光網(wǎng)和至少覆蓋遮光網(wǎng)的側(cè)面的反射層，遮光網(wǎng)的每個(gè)網(wǎng)眼對(duì)應(yīng)一個(gè)亞像素區(qū)域，或者對(duì)應(yīng)一個(gè)由多個(gè)亞像素區(qū)域組成的像素區(qū)域。

進(jìn)一步的，反射層還覆蓋黑矩陣中未覆蓋遮光網(wǎng)的部分。

可選的，構(gòu)成遮光網(wǎng)的材料與構(gòu)成黑矩陣的材料相同。

可選的，遮光子部的縱截面的形狀為半橢圓形、三角形或梯形。

本發(fā)明實(shí)施例的第二方面，提供一種基板，包括第一方面提供的基板的技術(shù)特征，基板還包括位于遮光部上、且在像素界定區(qū)域內(nèi)的像素界定層，以及位于亞像素區(qū)域內(nèi)的發(fā)光層。

本發(fā)明實(shí)施例的第三方面，提供一種顯示裝置，包括第二方面提供的基板。

本發(fā)明實(shí)施例的第四方面，提供一種顯示裝置，包括相對(duì)設(shè)置的第一基板和第二基板，其中第一基板為第一方面提供的基板；第二基板包括位于襯底上、且在亞像素區(qū)域的發(fā)光層和在像素界定區(qū)域內(nèi)的像素界定層。

可選的，相鄰亞像素區(qū)域之間的部分中，遮光子部的縱截面的對(duì)稱軸與像素界定層的縱截面、黑矩陣的縱截面的對(duì)稱軸重合。

進(jìn)一步的，遮光子部的高度滿足：其中，i用于表示遮光子部的底部與像素界定層的頂部之間的距離，w用于表示像素界定層的頂面的寬度，h用于表示遮光子部的高度，α用于表示像素界定層的側(cè)邊與第二基板的襯底之間的夾角。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種基板和顯示裝置，該基板包括亞像素區(qū)域和用于限定所述亞像素區(qū)域的像素界定區(qū)域?；暹€包括襯底，以及位于襯底上、且在像素界定區(qū)域內(nèi)的遮光部。其中，遮光部包括：黑矩陣，以及位于黑矩陣上的遮光子部，遮光子部至少位于多組相鄰亞像素區(qū)域之間，其中，遮光子部的側(cè)面能夠反射光線。

基于此，利用上述基板構(gòu)成顯示裝置時(shí)，由于位于像素界定區(qū)域的遮光子部的側(cè)面能夠反射光線，對(duì)于亞像素區(qū)域中朝向像素界定區(qū)域出射的光線中的部分光線，會(huì)被遮光子部的側(cè)面反射至亞像素區(qū)域，在此情況下，該光線可以再次由亞像素區(qū)域出射，從而提高顯示裝置的出光率。部分光線會(huì)被遮光子部的側(cè)面反射至相鄰的像素界定區(qū)域，由于像素界定區(qū)域不透光，因此不會(huì)發(fā)生像素間漏光。部分光線垂直入射至遮光子部的側(cè)面。這樣一來(lái)，遮光子部的側(cè)面可以將至少部分朝向像素界定區(qū)域出射的光線反射回亞像素區(qū)域，該部分光線可以再次由亞像素區(qū)域出射，從而可以提高顯示裝置的出光率。

附圖說(shuō)明

為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為現(xiàn)有的oled顯示器的一種結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為圖2所示的基板沿b-b’線的剖視圖；

圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種包括圖2所示的基板的顯示裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5a為本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5b為圖5a所示的基板中，遮光網(wǎng)的每個(gè)網(wǎng)眼對(duì)應(yīng)一個(gè)由多個(gè)亞像素區(qū)域組成的像素區(qū)域的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6為圖5a所示的基板沿c-c’線的剖視圖；

圖7為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種包括圖5a所示的基板的顯示裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖8為圖7所示的顯示裝置中遮光子部、黑矩陣和像素界定層的縱截面的對(duì)稱軸重合的結(jié)構(gòu)示意圖。

附圖標(biāo)記：

01-第一基板；02-第二基板；10-襯底；11-像素界定層；111-第一子像素界定層；112-第二子像素界定層；20-彩色濾光層；21-黑矩陣；22-遮光子部；221-遮光網(wǎng)；222-反射層。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

實(shí)施例一

本發(fā)明實(shí)施例提供一種基板，如圖2和圖3所示，包括亞像素區(qū)域a和用于限定所述亞像素區(qū)域a的像素界定區(qū)域a’?；暹€包括襯底10，以及位于襯底10上、且在像素界定區(qū)域a’內(nèi)的遮光部。其中，遮光部包括黑矩陣21，以及位于黑矩陣21上的遮光子部22，遮光子部22至少位于多組相鄰亞像素區(qū)域a之間，其中，遮光子部22的側(cè)面能夠反射光線。

本實(shí)施例中，遮光子部22可以僅由金屬材料構(gòu)成。由金屬材料構(gòu)成的遮光子部22的側(cè)面可以對(duì)光線進(jìn)行反射。

需要說(shuō)明的是，第一、遮光子部22位于黑矩陣21上是指遮光子部22由黑矩陣21承載，而非指示或暗示遮光子部22在方位上必須位于黑矩陣21的上方。其中多組相鄰亞像素區(qū)域a之間的黑矩陣21上設(shè)置有遮光子部22。

第二、遮光子部22的側(cè)面是指：連接于遮光子部22的頂面和底面之間的面。具體的，以圖3為例，遮光子部22靠近襯底10的表面為底面，與底面相對(duì)的表面為頂面；連接于遮光子部22的頂面和底面之間的其他表面為側(cè)面。

第三、不對(duì)所述遮光子部22的材料和形狀進(jìn)行限定。示例的，遮光子部22的縱截面的形狀可以如圖4所示為三角形，或者為半橢圓形或梯形?？梢岳斫獾氖?，遮光子部22的縱截面的形狀也可以為其他形狀。遮光子部22的縱截面是指在基板的厚度方向上，沿與基板的任一條邊的延伸方向平行的方向切割得到的遮光子部22的截面，其中割線的延伸方向須同時(shí)經(jīng)過(guò)至少兩個(gè)亞像素區(qū)域a。此外，遮光子部22可以完全覆蓋位于相鄰亞像素區(qū)域a之間的黑矩陣21的頂面，也可以如圖3所示覆蓋位于相鄰亞像素區(qū)域a之間的黑矩陣21的部分頂面，本發(fā)明對(duì)此不作限定。

第四、本發(fā)明實(shí)施例提供的各附圖中的像素界定區(qū)域a’和亞像素區(qū)域a的數(shù)目和形狀僅為示意，并非對(duì)其數(shù)目和形狀的限定。圖2中以基板包括六個(gè)亞像素區(qū)域a為例進(jìn)行示意。當(dāng)基板包括更多個(gè)亞像素區(qū)域a時(shí)，至少一組相鄰的亞像素區(qū)域a之間的黑矩陣21上設(shè)置有遮光子部22。

基于此，本發(fā)明提供的基板包括襯底10以及位于襯底10上、且在像素界定區(qū)域a’內(nèi)的遮光部。遮光部包括黑矩陣21以及位于黑矩陣21上的遮光子部22。利用上述基板構(gòu)成顯示裝置時(shí)，如圖4所示，由于位于像素界定區(qū)域a’的遮光子部22的側(cè)面能夠反射光線，對(duì)于亞像素區(qū)域a中朝向像素界定區(qū)域a’出射的光線中的部分光線，例如光線l1會(huì)被遮光子部22的側(cè)面反射至亞像素區(qū)域a，在此情況下，光線l1可以再次由亞像素區(qū)域a出射，從而提高顯示裝置的出光率。部分光線例如光線l3和l4會(huì)被遮光子部22的側(cè)面反射至相鄰的像素界定區(qū)域a’，由于像素界定區(qū)域a’不透光，因此不會(huì)發(fā)生像素間漏光。部分光線例如光線l2垂直入射至遮光子部22的側(cè)面。這樣一來(lái)，遮光子部22的側(cè)面可以將至少部分朝向像素界定區(qū)域a’出射的光線反射回亞像素區(qū)域a，該部分光線可以再次由亞像素區(qū)域a出射，從而可以提高顯示裝置的出光率。

此外，未設(shè)置遮光子部22時(shí)，對(duì)于亞像素區(qū)域a發(fā)出的朝向像素界定區(qū)域a’出射的部分光線，黑矩陣21無(wú)法對(duì)其進(jìn)行遮擋，例如如圖4所示，未設(shè)置遮光子部22時(shí)，光線l5會(huì)由相鄰亞像素區(qū)域a出射，從而可能會(huì)發(fā)生像素間漏光。本發(fā)明實(shí)施例提供的基板中，位于黑矩陣21上的遮光子部22可以對(duì)光線l5進(jìn)行遮擋，從而降低發(fā)生像素間漏光的幾率。

在此基礎(chǔ)上，可選的，如圖2所示，在每相鄰亞像素區(qū)域a之間的黑矩陣21上均設(shè)置有遮光子部22。這樣一來(lái)，通過(guò)在所有相鄰亞像素區(qū)域a之間均形成有遮光子部22，可以降低相鄰亞像素區(qū)域a之間發(fā)生像素間漏光的幾率。同時(shí)，由于增加了遮光子部22的數(shù)量，因此提高了反射層222可以反射的光線量，從而進(jìn)一步提高顯示裝置的出光率。

此外，基板還可以包括設(shè)置于襯底10上、在亞像素區(qū)域a的彩色濾光層。

實(shí)施例二

本實(shí)施例提供一種如圖5a和圖5b所示的基板，與實(shí)施例一不同的是，如圖6所示，遮光子部22包括由不透光材料構(gòu)成的遮光網(wǎng)221和至少覆蓋遮光網(wǎng)221的側(cè)面的反射層222。遮光網(wǎng)221的每個(gè)網(wǎng)眼如圖5a所示，對(duì)應(yīng)一個(gè)亞像素區(qū)域a；或者也可以如圖5b所示，遮光網(wǎng)221的每個(gè)網(wǎng)眼對(duì)應(yīng)由多個(gè)亞像素區(qū)域a組成的像素區(qū)域。圖5b中，遮光網(wǎng)221的每個(gè)網(wǎng)眼對(duì)應(yīng)由三個(gè)亞像素區(qū)域a組成的像素區(qū)域。

本實(shí)施例中，構(gòu)成反射層222的材料可以為金屬材料，反射層222僅需對(duì)照射至遮光網(wǎng)221的側(cè)面的光線進(jìn)行反射。由于無(wú)需利用金屬材料形成整個(gè)遮光部，因此相對(duì)于實(shí)施例一，可以減少金屬材料的使用量，從而降低制作成本。

在此基礎(chǔ)上，為了進(jìn)一步提高基板的出光率，可選的，如圖7所示，上述反射層222還覆蓋黑矩陣21中未覆蓋遮光網(wǎng)221的部分。

在此情況下，朝向相鄰像素界定區(qū)域a’出射的光線中照射至黑矩陣21未覆蓋遮光網(wǎng)221的部分的光線，例如光線l0可以被反射層222反射至遮光子部22的側(cè)面，進(jìn)而被反射層222反射至亞像素區(qū)域a中，從而提高反射層222可以反射的光線量，進(jìn)而提高將朝向像素界定區(qū)域a’出射的光線反射至亞像素區(qū)域a的幾率。

在此基礎(chǔ)上，可選的，構(gòu)成遮光網(wǎng)221的材料與構(gòu)成黑矩陣21的材料相同。這樣一來(lái)，黑矩陣21和遮光網(wǎng)221可以同時(shí)形成，例如在采用構(gòu)圖工藝形成黑矩陣21時(shí)，通過(guò)控制掩模板的形狀以及刻蝕階段的刻蝕時(shí)間，可以在形成黑矩陣21的同時(shí)形成遮光網(wǎng)221，這樣一來(lái)，可以無(wú)需單獨(dú)制備遮光網(wǎng)221，簡(jiǎn)化了制作工藝。

實(shí)施例三

本發(fā)明實(shí)施例提供一種顯示裝置，如圖4或圖7所示，顯示裝置包括相對(duì)設(shè)置的第一基板01和第二基板02，其中第一基板01為實(shí)施例一或?qū)嵤├龅幕?。第二基?2包括襯底10，以及位于襯底10上、且在亞像素區(qū)域a的發(fā)光層12和在像素界定區(qū)域a’內(nèi)的像素界定層11。其中，發(fā)光層12可以包括陰極、陽(yáng)極以及位于陰極和陽(yáng)極之間的有機(jī)材料發(fā)光層。

需要說(shuō)明的是，上述顯示裝置可以為顯示面板，也可以為包括驅(qū)動(dòng)顯示面板進(jìn)行顯示的電路的顯示裝置。本發(fā)明對(duì)此不做限定。

基于此，結(jié)合圖4和圖7，本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示裝置，由于像素界定區(qū)域a’的遮光子部22的側(cè)面能夠反射光線，對(duì)于發(fā)光層12發(fā)出的朝向像素界定區(qū)域a’出射的光線中的部分光線，例如光線l1會(huì)被遮光子部22的側(cè)面反射至發(fā)光層12，在此情況下，光線l1可以再次由發(fā)光層12出射，從而提高顯示裝置的出光率。部分光線例如光線l3和l4會(huì)被遮光子部22的側(cè)面反射至相鄰的像素界定區(qū)域a’的像素界定層11，此時(shí)像素界定層11可以對(duì)光線進(jìn)行遮擋，因此不會(huì)發(fā)生像素間漏光。部分光線例如光線l2會(huì)垂直入射至遮光子部22的側(cè)面。這樣一來(lái)，遮光子部22的側(cè)面可以將發(fā)光層12發(fā)出的朝向像素界定區(qū)域a’出射的光線中，至少部分反射回發(fā)光層12中，該部分光線可以再次由發(fā)光層12出射，從而可以提高顯示裝置的出光率。

此外，未設(shè)置遮光子部22時(shí)，對(duì)于發(fā)光層12發(fā)出的朝向像素界定區(qū)域a’出射的部分光線，黑矩陣21無(wú)法對(duì)其進(jìn)行遮擋，例如如圖4所示，未設(shè)置遮光子部22時(shí)，光線l5會(huì)由相鄰亞像素區(qū)域a出射，從而可能會(huì)發(fā)生像素間漏光。本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示裝置中，位于黑矩陣21上的遮光子部22可以對(duì)光線l5進(jìn)行遮擋，從而降低發(fā)生像素間漏光的幾率。

此外，像素界定層11的側(cè)邊可以起到防止像素間漏光的效果。當(dāng)像素界定層11的側(cè)邊與第二基板02的襯底10之間的夾角較大時(shí)，像素界定層11對(duì)發(fā)光層12發(fā)出的朝向相鄰像素界定區(qū)域a’的光線的遮擋效果較好，從而可以降低發(fā)生像素間漏光的幾率。

本領(lǐng)域技術(shù)人員知悉，像素界定層11的側(cè)邊與襯底10之間的夾角越大，對(duì)像素界定層11制作工藝的精度要求越高。考慮到像素界定層11的制作工藝和防止像素間漏光的效果，優(yōu)選的，如圖8所示，像素界定層11包括依次設(shè)置在第二基板02的襯底10上的第二子像素界定層112和第一子像素界定層111。其中，第一子像素界定層111的側(cè)邊與第二基板02的襯底10之間的夾角θ小于第二子像素界定層112的側(cè)邊與第二基板02襯底10之間的夾角β。

需要說(shuō)明的是，可以通過(guò)控制刻蝕時(shí)間和刻蝕強(qiáng)度來(lái)形成具有上述結(jié)構(gòu)的像素界定層11。結(jié)合上述，形成第一子像素界定層111的工藝的難度較小。相對(duì)于像素界定層11的側(cè)邊與第二基板02的襯底10之間的夾角為一個(gè)較大的定值，可以在防止像素間漏光的同時(shí)，降低對(duì)像素界定層11的制作工藝的要求。

在此基礎(chǔ)上，可選的，如圖8所示，相鄰亞像素區(qū)域a之間的部分中，遮光子部22的縱截面的對(duì)稱軸與像素界定層11的縱截面、黑矩陣21的縱截面的對(duì)稱軸重合。縱截面的相關(guān)定義在實(shí)施例一中已進(jìn)行了詳細(xì)說(shuō)明，此處不再贅述。這樣一來(lái)，遮光子部22對(duì)相鄰亞像素區(qū)域a中的發(fā)光層12朝向像素界定區(qū)域a’發(fā)出的光線的反射效果近似相同，使得提高顯示裝置的出光率后，相鄰亞像素區(qū)域a的出光率近似相同，從而保證顯示畫面的均勻性。

此外，遮光子部22的高度會(huì)影響防止發(fā)生像素間漏光的效果。本實(shí)施例中優(yōu)選的，遮光子部22的高度滿足：其中，i用于表示遮光子部22的底部與像素界定層11的頂部之間的距離，w用于表示像素界定層11的頂面的寬度，h用于表示遮光子部22的高度，α用于表示像素界定層11的側(cè)邊中遠(yuǎn)離所述第二基板02的襯底10的部分與第二基板02的襯底10之間的夾角，本實(shí)施例中，α等于第一子像素界定層111的側(cè)邊與第二基板02的襯底10之間的夾角θ。

需要說(shuō)明的是，遮光子部22的底部是指遮光子部22靠近第一基板01的襯底10的一側(cè)表面，像素界定層11的頂部是指像素界定層11背離第二基板02的襯底10的一側(cè)表面。

在一具體實(shí)施例中，像素界定層11的頂面的寬度w＝17μm，遮光子部22的底部與像素界定層11的頂部之間的距離i＝12μm，第一子像素界定層111與第二基板02的襯底10之間的夾角α＝30°，反射層222的厚度為1μm，發(fā)光層12的寬度為24μm，根據(jù)得到7.093≤h≤12(單位為μm)。

在此情況下，當(dāng)遮光子部22的高度h＝12μm時(shí)，遮光子部22的頂面與第一子像素界定層111的頂面相接觸，發(fā)光層12發(fā)出的朝向相鄰像素界定區(qū)域a’的光線可以被遮光子部22完全遮擋，此時(shí)不會(huì)發(fā)生像素間漏光現(xiàn)象；遮光子部22可以對(duì)朝向像素界定區(qū)域a’出射的光線均進(jìn)行反射，以將至少部分光線反射至亞像素區(qū)域a中，從而提高了顯示裝置的出光率。當(dāng)遮光子部22的高度h＝7.093μm時(shí)，沿第一子像素界定層111的側(cè)邊出射的光線可以被遮光子部22遮擋；遮光子部22的頂面與第一子像素界定層111的頂面之間具有一定的間隙，此時(shí)在遮光子部22的頂面與第一子像素界定層111的頂面之間出射的光線出射角度較大，易在第一基板01的襯底10上發(fā)生全反射現(xiàn)象，因此該部分光線在相鄰像素界定區(qū)域a’出射的幾率較低。結(jié)合上述優(yōu)選的，遮光子部22的高度h滿足7.093≤h≤12。

實(shí)施例四

本發(fā)明實(shí)施例提供一種基板，包括實(shí)施例一或?qū)嵤├峁┑幕宓募夹g(shù)特征。在此基礎(chǔ)上，本實(shí)施例提供的基板還包括位于遮光部上、且在像素界定區(qū)域a’內(nèi)的像素界定層11，以及位于亞像素區(qū)域a內(nèi)的發(fā)光層12。其中，發(fā)光層12可以包括陰極、陽(yáng)極以及位于陰極和陽(yáng)極之間的有機(jī)材料發(fā)光層。

需要說(shuō)明的是，像素界定層11和發(fā)光層12位于遮光部上是指：遮光部承載像素界定層11和發(fā)光層12。具體的，首先在襯底10上形成遮光部，然后再形成像素界定層11和發(fā)光層12。本實(shí)施例中，上述基板為底發(fā)射式基板。

實(shí)施例五

本發(fā)明實(shí)施例提供一種顯示裝置，包括實(shí)施例四所述的基板。本實(shí)施例中，顯示裝置為底發(fā)射式顯示裝置。

在此基礎(chǔ)上，顯示裝置還可以包括封裝蓋板，以對(duì)顯示裝置的中發(fā)光層12進(jìn)行保護(hù)，防止水汽侵入，造成發(fā)光層12失效。

以上所述，僅為本發(fā)明的具體實(shí)施方式，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。