本發(fā)明的實(shí)施例涉及一種顯示基板、顯示基板的制作方法以及顯示裝置。

背景技術(shù)：

有機(jī)發(fā)光二極管(organiclightemittingdiode，oled)顯示器因其具有自發(fā)光、對比度高、厚度薄、視角光、響應(yīng)速度快、可彎折以及使用溫度范圍廣等優(yōu)點(diǎn)成為研究的熱點(diǎn)。

另外，隨著可穿戴技術(shù)的不斷發(fā)展，微型顯示器具有廣闊的市場應(yīng)用空間。例如，微型顯示器可用于頭盔顯示器和眼鏡式顯示器等。微型顯示器通過與移動通訊網(wǎng)絡(luò)和衛(wèi)星定位等系統(tǒng)聯(lián)在一起則可在任何地方、任何時間獲得精確的圖像信息，從而具有較廣的應(yīng)用前景。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明實(shí)施例提供一種顯示基板及其制作方法和顯示裝置。該顯示基板通過使反射層和半透半反層構(gòu)成微腔效應(yīng)結(jié)構(gòu)，并且可通過額外設(shè)置的無機(jī)層調(diào)節(jié)反射層和半透半反層之間的距離，從而窄化該陽極結(jié)構(gòu)對應(yīng)的子像素單元的發(fā)光光譜，進(jìn)而提高色純度。

本發(fā)明至少一個實(shí)施例提供一種顯示基板，其包括：襯底基板；陽極結(jié)構(gòu)，設(shè)置在所述襯底基板上；有機(jī)發(fā)光層，設(shè)置在所述陽極結(jié)構(gòu)遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè)；以及陰極層，設(shè)置在所述有機(jī)發(fā)光層遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè)，所述陽極結(jié)構(gòu)包括反射層以及設(shè)置在所述反射層遠(yuǎn)離所述襯底基板一側(cè)的無機(jī)層，所述陰極層包括半透半反層，所述無機(jī)層被配置為調(diào)節(jié)所述反射層與所述半透半反層之間的距離。

例如，在本實(shí)施例一示例提供的顯示基板中，所述反射層與所述半透半反層之間的距離滿足：

d＝j(luò)(λ/2n)

其中，d為所述反射層與所述半透半反層之間的距離，λ為第一顏色的光的波長，n為所述反射層與所述半透半反層之間介質(zhì)的有效折射率，j為正整數(shù)。

例如，在本實(shí)施例一示例提供的顯示基板中，所述陽極結(jié)構(gòu)包括第一陽極結(jié)構(gòu)、第二陽極結(jié)構(gòu)和第三陽極結(jié)構(gòu)，彼此間隔地設(shè)置在所述襯底基板上，所述第一陽極結(jié)構(gòu)包括第一反射層和設(shè)置在所述第一反射層上的第一無機(jī)層，所述第二陽極結(jié)構(gòu)包括第二反射層和設(shè)置在所述第二反射層上的第二無機(jī)層，所述第三陽極結(jié)構(gòu)包括第三反射層和設(shè)置在所述第三反射層上的第三無機(jī)層，所述第一無機(jī)層、所述第二無機(jī)層以及所述第三無機(jī)層的厚度不同。

例如，在本發(fā)明一實(shí)施例提供的顯示基板中，所述顯示基板包括多個子像素，所述多個子像素與所述陽極結(jié)構(gòu)一一對應(yīng)設(shè)置，所述第一陽極結(jié)構(gòu)對應(yīng)的子像素被配置為發(fā)第一顏色的光，所述第二陽極結(jié)構(gòu)對應(yīng)的子像素被配置為發(fā)第二顏色的光，所述第三陽極結(jié)構(gòu)對應(yīng)的子像素被配置為發(fā)第三顏色的光，所述第一顏色的光的波長為λ1、所述第二顏色的光的波長為λ2、所述第三顏色的光的波長為λ3，所述第一陽極結(jié)構(gòu)的第一反射層與所述半透半反層之間的距離d1、所述第二陽極結(jié)構(gòu)的第二反射層與所述半透半反層之間的距離d2以及所述所述第三陽極結(jié)構(gòu)的第三反射層與所述半透半反層之間的距離d3分別滿足：d1＝j(luò)1(λ1/2n)、d2＝j(luò)2(λ2/2n)和d3＝j(luò)3(λ3/2n)，其中，n為所述反射層與所述半透半反層之間介質(zhì)的有效折射率，j1、j2和j3為正整數(shù)。

例如，本實(shí)施例一示例提供的顯示基板還包括：彩膜層，設(shè)置在所述陰極層遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè)，所述彩膜層包括具有第一顏色的第一濾光塊、具有第二顏色的第二濾光塊和具有第三顏色的第三濾光塊，所述第一濾光塊、所述第二濾光塊和所述第三濾光塊分別與所述第一陽極結(jié)構(gòu)、所述第二陽極結(jié)構(gòu)和所述第三陽極結(jié)構(gòu)對應(yīng)設(shè)置。

例如，在本實(shí)施例一示例提供的顯示基板中，所述有機(jī)發(fā)光層和所述陰極層分別整層設(shè)置在所述第一陽極結(jié)構(gòu)、第二陽極結(jié)構(gòu)和第三陽極結(jié)構(gòu)上。

例如，在本實(shí)施例一示例提供的顯示基板中，所述無機(jī)層還被配置為保護(hù)所述反射層。

例如，在本實(shí)施例一示例提供的顯示基板中，所述無機(jī)層的材料包括氧化鉬或氮化鈦。

本發(fā)明至少一個實(shí)施例提供一種顯示基板的制作方法，其包括：在襯底基板上形成陽極結(jié)構(gòu)，所述陽極結(jié)構(gòu)包括反射層以及設(shè)置在所述反射層遠(yuǎn)離所述襯底基板一側(cè)的無機(jī)層；在所述陽極結(jié)構(gòu)遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè)形成有機(jī)發(fā)光層；以及在所述有機(jī)發(fā)光層遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè)形成陰極層，所述陰極層包括半透半反層，所述無機(jī)層被配置為調(diào)節(jié)所述反射層與所述半透半反層之間的距離。

例如，在本實(shí)施例一示例提供的顯示基板的制作方法中，在襯底基板上形成陽極結(jié)構(gòu)包括：采用圖案化工藝在所述襯底基板上形成所述反射層；采用圖案化工藝在所述反射層遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè)形成無機(jī)層，所述無機(jī)層在所述襯底基板上的正投影與所述反射層在所述襯底基板上的正投影完全重疊。

例如，在本實(shí)施例一示例提供的顯示基板的制作方法中，在襯底基板上形成陽極結(jié)構(gòu)包括：在所述襯底基板上形成彼此間隔設(shè)置的第一陽極結(jié)構(gòu)、第二陽極結(jié)構(gòu)和第三陽極結(jié)構(gòu)，所述第一陽極結(jié)構(gòu)包括第一反射層和設(shè)置在所述第一反射層上的第一無機(jī)層，所述第二陽極結(jié)構(gòu)包括第二反射層和設(shè)置在所述第二反射層上的第二無機(jī)層，所述第三陽極結(jié)構(gòu)包括第三反射層和設(shè)置在所述第三反射層上的第三無機(jī)層，所述第一無機(jī)層、所述第二無機(jī)層以及所述第三無機(jī)層的厚度不同。

例如，在本實(shí)施例一示例提供的顯示基板的制作方法中，在所述襯底基板上形成所述第一、第二和第三陽極結(jié)構(gòu)包括：采用圖案化工藝在所述襯底基板上形成所述第一反射層、所述第二反射層以及所述第三反射層。

例如，在本實(shí)施例一示例提供的顯示基板的制作方法中，在所述襯底基板上形成所述第一、第二和第三陽極結(jié)構(gòu)還包括：在所述第一反射層、所述第二反射層以及所述第三反射層遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè)形成第一子無機(jī)層；在所述第一子無機(jī)層遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè)形成第一光刻膠圖案，所述第一光刻膠圖案覆蓋所述第一反射層以及所述第一、第二和第三反射層之間的間隔，并露出所述第二和第三反射層；在所述第一光刻膠圖案和所述第一子無機(jī)層上形成第二子無機(jī)層；在所述第二子無機(jī)層遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè)形成第二光刻膠圖案，所述第二光刻膠圖案覆蓋所述第一反射層、第三反射層以及所述第一、第二和第三反射層之間的間隔；在所述第二光刻膠圖案和所述第二子無機(jī)層上形成第三子無機(jī)層；以及通過顯影將所述第一光刻膠圖案和所述第二光刻膠圖案去除，所述第一無機(jī)層包括所述第一子無機(jī)層，所述第二無機(jī)層包括第一子無機(jī)層、所述第二子無機(jī)層以及所述第三子無機(jī)層，所述第三無機(jī)層包括所述第一子無機(jī)層和所述第二子無機(jī)層。

例如，在本實(shí)施例一示例提供的顯示基板的制作方法中，在所述第一反射層、所述第二反射層以及所述第三反射層遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè)形成第一子無機(jī)層包括：在所述第一反射層、所述第二反射層以及所述第三反射層遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè)形成無機(jī)材料層；以及圖案化所述無機(jī)材料層以形成所述第一子無機(jī)層，所述第一子無機(jī)層在所述襯底基板上的正投影與所述第一反射層、所述第二反射層以及所述第三反射層在所述襯底基板上的正投影完全重疊。

例如，在本實(shí)施例一示例提供的顯示基板的制作方法中，所述反射層的材料包括鋁或銀。

例如，在本實(shí)施例一示例提供的顯示基板的制作方法中，所述無機(jī)層的材料包括氧化鉬或氮化鈦。

本發(fā)明至少一個實(shí)施例提供一種顯示裝置，其包括上述的顯示基板。

附圖說明

為了更清楚地說明本公開實(shí)施例的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅涉及本公開的一些實(shí)施例，而非對本公開的限制。

圖1為一種顯示基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明一實(shí)施例提供的一種顯示基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明一實(shí)施例提供的另一種顯示基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本發(fā)明一實(shí)施例提供的一種顯示基板的制作方法的流程圖；以及

圖5a-5g為本發(fā)明一實(shí)施例提供一種顯示基板的制作方法的步驟示意圖。

具體實(shí)施方式

為使本公開實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本公開實(shí)施例的附圖，對本公開實(shí)施例的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實(shí)施例是本公開的一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；谒枋龅谋竟_的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在無需創(chuàng)造性勞動的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本公開保護(hù)的范圍。

除非另外定義，本公開使用的技術(shù)術(shù)語或者科學(xué)術(shù)語應(yīng)當(dāng)為本公開所屬領(lǐng)域內(nèi)具有一般技能的人士所理解的通常意義。本公開中使用的“第一”、“第二”以及類似的詞語并不表示任何順序、數(shù)量或者重要性，而只是用來區(qū)分不同的組成部分?！鞍ā被蛘摺鞍钡阮愃频脑~語意指出現(xiàn)該詞前面的元件或者物件涵蓋出現(xiàn)在該詞后面列舉的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“連接”或者“相連”等類似的詞語并非限定于物理的或者機(jī)械的連接，而是可以包括電性的連接，不管是直接的還是間接的。

有機(jī)發(fā)光二極管(organiclightemittingdiode，oled)顯示器以其特有的優(yōu)勢也在微型顯示器中占有重要的位置。由于極細(xì)金屬掩模(finemetalmask，fmm)的限制，通常的oled顯示器無法實(shí)現(xiàn)高ppi(pixelperinch)。因此，當(dāng)oled顯示器作為微型顯示器時，oled顯示器采用白光+彩膜的結(jié)構(gòu)。圖1為一種采用白光+彩膜的結(jié)構(gòu)的oled顯示器的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1所示，該oled顯示器包括襯底基板10、設(shè)置在襯底基板10上的陽極20、設(shè)置在陽極20遠(yuǎn)離襯底基板10一側(cè)的空穴注入層30、設(shè)置在空穴傳輸層30遠(yuǎn)離襯底基板10一側(cè)的空穴傳輸層40、設(shè)置在空穴傳輸層40遠(yuǎn)離襯底基板10一側(cè)的有機(jī)發(fā)光層50、設(shè)置在有機(jī)發(fā)光層50遠(yuǎn)離襯底基板10一側(cè)的電子傳輸層60、設(shè)置在電子傳輸層60遠(yuǎn)離襯底基板10一側(cè)的陰極70、設(shè)置在陰極70遠(yuǎn)離襯底基板10一側(cè)的封裝層80以及設(shè)置在封裝層80遠(yuǎn)離襯底基板10一側(cè)的彩膜層90。有機(jī)發(fā)光層50可發(fā)白光，例如，有機(jī)發(fā)光層50可包括發(fā)橙紅光的第一子有機(jī)發(fā)光層51和發(fā)藍(lán)綠光的第二子有機(jī)發(fā)光層52。彩膜層90可包括多種不同顏色濾光塊，例如紅色綠光片、綠色綠光片和藍(lán)色濾光塊，并且各濾光塊與陽極一一對應(yīng)設(shè)置，從而有機(jī)發(fā)光層50發(fā)出的白光經(jīng)過彩膜層90的過濾，從而可顯示彩色。由于陽極和彩膜可通過掩模工藝制作，因此該oled顯示器可達(dá)到較高的ppi。然而，上述的采用白光+彩膜的結(jié)構(gòu)的oled顯示器的色域因此而降低。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種顯示基板及其制作方法和顯示裝置。該顯示基板包括襯底基板、設(shè)置在襯底基板上的陽極結(jié)構(gòu)、設(shè)置在陽極結(jié)構(gòu)遠(yuǎn)離襯底基板的一側(cè)的有機(jī)發(fā)光層以及設(shè)置在有機(jī)發(fā)光層遠(yuǎn)離襯底基板的一側(cè)的陰極層。陽極結(jié)構(gòu)包括反射層以及設(shè)置在反射層遠(yuǎn)離襯底基板一側(cè)的無機(jī)層，陰極層包括半透半反層，無機(jī)層可調(diào)節(jié)反射層與半透半反層之間的距離。由此，反射層和半透半反層可構(gòu)成微腔效應(yīng)結(jié)構(gòu)，并且可通過額外設(shè)置的無機(jī)層調(diào)節(jié)反射層和半透半反層之間的距離，從而窄化該陽極結(jié)構(gòu)對應(yīng)的子像素單元的發(fā)光光譜，進(jìn)而提高色純度。

下面，結(jié)合附圖對本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示基板及其制作方法和顯示裝置進(jìn)行說明。

實(shí)施例一

本實(shí)施例提供一種顯示基板。圖2為根據(jù)本實(shí)施例的一種顯示基板的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖2所示，該顯示基板包括襯底基板101、設(shè)置在襯底基板101上的陽極結(jié)構(gòu)110、設(shè)置在陽極結(jié)構(gòu)110遠(yuǎn)離襯底基板101的一側(cè)的有機(jī)發(fā)光層140以及設(shè)置在有機(jī)發(fā)光層140遠(yuǎn)離襯底基板101的一側(cè)的陰極層180。陽極結(jié)構(gòu)110包括反射層111和設(shè)置在反射層111遠(yuǎn)離襯底基板101的一側(cè)的無機(jī)層112；陰極層180包括半透半反層181，例如，如圖2所示，陰極層180自身可為半透半反層181；無機(jī)層112可調(diào)節(jié)反射層111和半透半反層181之間的距離。需要說明的是，陰極層自身可為半透半反層，也額外設(shè)置一個半透半反層，本發(fā)明實(shí)施例在此不作限制。另外，上述的反射層可為陽極結(jié)構(gòu)中的陽極，也可為額外設(shè)置在陽極上的反射層。當(dāng)反射層為陽極結(jié)構(gòu)中的陽極時，陽極可采用金屬材料制作，例如銀或鋁。

在本實(shí)施例提供的顯示基板中，陽極結(jié)構(gòu)中的反射層和陰極層中的半透半反層可構(gòu)成微腔效應(yīng)結(jié)構(gòu)，設(shè)置在陽極結(jié)構(gòu)和陰極層之間的有機(jī)發(fā)光層可電致發(fā)光，有機(jī)發(fā)光層直接發(fā)出的光和經(jīng)過反射層反射的光可在上述的微腔效應(yīng)結(jié)構(gòu)中發(fā)生相互干涉；通過額外設(shè)置的無機(jī)層調(diào)節(jié)反射層和半透半反層之間的距離，可使得特定波長或特定波長范圍的光增強(qiáng)，而其他波長的光衰弱，從而可窄化該陽極結(jié)構(gòu)對應(yīng)的子像素單元的發(fā)光光譜，進(jìn)而提高色純度。當(dāng)本實(shí)施例提供的顯示基板應(yīng)用于白光+彩膜的結(jié)構(gòu)的oled顯示器時，通過提高各個子像素的色純度，從而可在具有較高的ppi的前提下提高該oled顯示器的色域。

例如，在本實(shí)施例一示例提供的顯示基板中，反射層與半透半反層之間的距離滿足以下公式：

d＝j(luò)(λ/2n)

其中，d為反射層與半透半反層之間的距離，λ為預(yù)定顏色的光的波長，n為反射層與半透半反層之間介質(zhì)的有效折射率，j為正整數(shù)。需要說明的是，上述的反射層與半透半反層之間介質(zhì)的有效折射率是指反射層與半透半反層之間的各膜層(例如有機(jī)層、有機(jī)發(fā)光層以及空穴傳輸層等)介質(zhì)的有效折射率。由此，該顯示基板可通過調(diào)節(jié)額外設(shè)置的無機(jī)層的厚度調(diào)節(jié)反射層和半透半反層之間的距離以使反射層和半透半反層之間的距離滿足上述的公式，從而可使得具有預(yù)定顏色的光增強(qiáng)，而其他顏色的光衰弱，進(jìn)而提高色純度。需要說明的是，上述的反射層與半透半反層之間介質(zhì)的有效折射率是指反射層與半透半反層之間的各層(例如電子阻擋層、空穴傳輸層等)作為一個整體的有效折射率。例如，該有效折射率可通過實(shí)驗(yàn)測得也可通過計(jì)算獲得。

例如，假設(shè)反射層與半透半反層之間介質(zhì)包括四個層結(jié)構(gòu)，其厚度和折射率分別為d1，n1；d2，n2；d3，n3；d4，n4，反射層與半透半反層之間介質(zhì)的有效折射率可等于(d1·n1+d2·n2+d3·n3+d4·n4)/(d1+d2+d3+d4)。

例如，預(yù)定顏色可為紅色、綠色或藍(lán)色，當(dāng)然，本發(fā)明實(shí)施例包括但不限于此。

例如，在本實(shí)施例一示例提供的顯示基板中，如圖2所示，陽極結(jié)構(gòu)可包括第一陽極結(jié)構(gòu)1101、第二陽極結(jié)構(gòu)1102和第三陽極結(jié)構(gòu)1103；第一陽極結(jié)構(gòu)1101、第二陽極結(jié)構(gòu)1102和第三陽極結(jié)構(gòu)1103彼此間隔設(shè)置在襯底基板101上；第一陽極結(jié)構(gòu)1101包括第一反射層1111和設(shè)置在第一反射層1111遠(yuǎn)離襯底基板101的一側(cè)第一無機(jī)層1121；第二陽極結(jié)構(gòu)1102包括第二反射層1112和設(shè)置在第二反射層1112遠(yuǎn)離襯底基板101的一側(cè)第二無機(jī)層1122；第三陽極結(jié)構(gòu)1103包括第三反射層1113和設(shè)置在第三反射層1113遠(yuǎn)離襯底基板101的一側(cè)第三無機(jī)層1123；第一無機(jī)層1121、第二無機(jī)層1122以及第三無機(jī)層1123的厚度不同。由此，第一陽極結(jié)構(gòu)、第二陽極結(jié)構(gòu)和第三陽極結(jié)構(gòu)對應(yīng)的子像素可分別發(fā)出不同的具有較高色純度的光，從而使得采用該顯示基板的oled顯示器具有較高的色域。

例如，在本實(shí)施例一示例提供的顯示基板中，如圖2所示，顯示基板包括多個子像素300，多個子像素300與陽極結(jié)構(gòu)110一一對應(yīng)設(shè)置，第一陽極結(jié)構(gòu)1101對應(yīng)的子像素用于發(fā)第一顏色的光，第二陽極結(jié)構(gòu)1102對應(yīng)的子像素用于發(fā)第二顏色的光，第三陽極結(jié)構(gòu)1103對應(yīng)的子像素用于發(fā)第三顏色的光，第一顏色的光的波長為λ1、第二顏色的光的波長為λ2、第三顏色的光的波長為λ3，第一陽極結(jié)構(gòu)的第一反射層與半透半反層之間的距離d1、第二陽極結(jié)構(gòu)的第二反射層與半透半反層之間的距離d2以及第三陽極結(jié)構(gòu)的第三反射層與半透半反層之間的距離d3分別滿足：d1＝j(luò)1(λ1/2n)、d2＝j(luò)2(λ2/2n)和d3＝j(luò)3(λ3/2n)，其中，n為反射層與半透半反層之間介質(zhì)的有效折射率，j1、j2和j3為正整數(shù)。

例如，第一陽極結(jié)構(gòu)對應(yīng)的子像素可發(fā)出色純度高的紅色光、第二陽極結(jié)構(gòu)對應(yīng)的子像素可發(fā)出色純度高的綠色光，第三陽極結(jié)構(gòu)對應(yīng)的子像素可發(fā)出色純度高的藍(lán)色光。

例如，在第一陽極結(jié)構(gòu)對應(yīng)的子像素中，第一反射層與半透半反層之間的距離可滿足以下公式：

d1＝j(luò)1(λ1/2n)

其中，d1為第一反射層與半透半反層之間的距離，λ1為紅光的波長，n為第一反射層與半透半反層之間介質(zhì)的有效折射率，j1為正整數(shù)。由此，第一陽極結(jié)構(gòu)對應(yīng)的子像素可發(fā)出色純度較高的紅光。

例如，可選取紅光的波長為620納米，可選取第一反射層與半透半反層之間介質(zhì)的有效折射率為1.8，可計(jì)算得到d1為172j1納米。

例如，在第二陽極結(jié)構(gòu)對應(yīng)的子像素中，第二反射層與半透半反層之間的距離可滿足以下公式：

d2＝j(luò)2(λ2/2n)

其中，d2為第二反射層與半透半反層之間的距離，λ2為綠光的波長，n為第二反射層與半透半反層之間介質(zhì)的有效折射率，j2為正整數(shù)。由此，第二陽極結(jié)構(gòu)對應(yīng)的子像素可發(fā)出色純度較高的綠光。

例如，可選取紅光的波長為520納米，可選取第一反射層與半透半反層之間介質(zhì)的有效折射率為1.8，可計(jì)算得到d1為144j2納米。

例如，在第三陽極結(jié)構(gòu)對應(yīng)的子像素中，第三反射層與半透半反層之間的距離可滿足以下公式：

d3＝j(luò)3(λ3/2n)

其中，d3為第三反射層與半透半反層之間的距離，λ3為藍(lán)光的波長，n為第三反射層與半透半反層之間介質(zhì)的有效折射率，j3為正整數(shù)。由此，第三陽極結(jié)構(gòu)對應(yīng)的子像素可發(fā)出色純度較高的藍(lán)光。

例如，可選取紅光的波長為460納米，可選取第一反射層與半透半反層之間介質(zhì)的有效折射率為1.8，可計(jì)算得到d1為127j3納米。

例如，在本實(shí)施例一示例提供的顯示基板中，如圖2所示，該顯示基板還包括設(shè)置在陰極層180遠(yuǎn)離襯底基板101的一側(cè)的彩膜層190。彩膜層190包括具有第一顏色(例如紅色)的第一濾光塊191、具有第二顏色(例如綠色)的第二濾光塊192和具有第三顏色(例如藍(lán)色)的第三濾光塊193。第一濾光塊191、第二濾光塊192和第三濾光塊193分別與第一陽極結(jié)構(gòu)1101、第二陽極結(jié)構(gòu)1102和第三陽極結(jié)構(gòu)1103對應(yīng)設(shè)置。由此，第一濾光塊可將第一陽極結(jié)構(gòu)對應(yīng)的有機(jī)發(fā)光層發(fā)出的光中除了第一顏色的光過濾掉，第二濾光塊可將第二陽極結(jié)構(gòu)對應(yīng)的有機(jī)發(fā)光層發(fā)出的光中除了第二顏色的光過濾掉，第三濾光塊可將第三陽極結(jié)構(gòu)對應(yīng)的有機(jī)發(fā)光層發(fā)出的光中除了第三顏色的光過濾掉，從而進(jìn)一步增強(qiáng)各第一、第二和第三陽極結(jié)構(gòu)所對應(yīng)的子像素的出光色純度。需要說明的是，彩膜層可設(shè)置也可不設(shè)置，本發(fā)明實(shí)施例在此不作限制。

例如，在本實(shí)施例一示例提供的顯示基板中，如圖2所示，有機(jī)發(fā)光層140和陰極層180分別在第一陽極結(jié)構(gòu)1101、第二陽極結(jié)構(gòu)1102和第三陽極結(jié)構(gòu)1103上連續(xù)設(shè)置。也就是說，有機(jī)發(fā)光層140和陰極層180整層設(shè)置在第一陽極結(jié)構(gòu)1101、第二陽極結(jié)構(gòu)1102和第三陽極結(jié)構(gòu)1103上。由此，有機(jī)發(fā)光層140可不用使用極細(xì)金屬掩模板(fmm)，而直接使用openmask制作。一方面，該顯示基板無需使用極細(xì)金屬掩模板(fmm)制作，節(jié)省了成本；另一方面，該顯示基板的ppi也較高。

例如，如圖2所示，有機(jī)發(fā)光層140包括第一子有機(jī)發(fā)光層141和第二子有機(jī)發(fā)光層142。第一子有機(jī)發(fā)光層141可電致發(fā)橙紅光、第二子有機(jī)發(fā)光層142可電致發(fā)藍(lán)綠光。由此，有機(jī)發(fā)光層整體發(fā)白光。當(dāng)然，本發(fā)明實(shí)施例包括但不限于此，有機(jī)發(fā)光層還可為其他結(jié)構(gòu)，只要可發(fā)出白光即可。例如，有機(jī)發(fā)光層可包括三個子有機(jī)發(fā)光層，分別發(fā)紅光、綠光和藍(lán)光。

例如，在本實(shí)施例一示例提供的顯示基板中，如圖2所示，無機(jī)層112設(shè)置在反射層111遠(yuǎn)離襯底基板101的一側(cè)。無機(jī)層112還可作為反射層111的保護(hù)層，用于保護(hù)反射層。

例如，在本實(shí)施例一示例提供的顯示基板中，無機(jī)層的材料可采用氧化鉬。一方面，氧化鉬便于進(jìn)行刻蝕、圖案化；另一方面，氧化鉬還可作為空穴注入層，從而可不用額外設(shè)置空穴注入層。

例如，如圖2所示，該顯示基板還包括設(shè)置在陰極層180和彩膜層190之間的封裝層185，用于將彩膜層190粘結(jié)在顯示基板上。

圖3為根據(jù)本實(shí)施例的另一種顯示基板的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖3所示，該顯示基板還包括設(shè)置在陽極結(jié)構(gòu)110和有機(jī)發(fā)光層140之間的電子阻擋層120，用于阻擋電子，從而提高該顯示基板的穩(wěn)定性。

例如，如圖3所示，該顯示基板還包括設(shè)置在電子阻擋層120和有機(jī)發(fā)光層140之間的空穴傳輸層130，用于傳輸空穴給有機(jī)發(fā)光層。

例如，如圖3所示，該顯示基板還包括設(shè)置在有機(jī)發(fā)光層140和陰極層180之間的空穴阻擋層150和電子傳輸層160。

例如，在本實(shí)施例一示例提供的顯示基板中，電子阻擋層、空穴傳輸層、空穴阻擋層以及電子傳輸層都可在第一陽極結(jié)構(gòu)、第二陽極結(jié)構(gòu)和第三陽極結(jié)構(gòu)上分別連續(xù)設(shè)置。也就是說，電子阻擋層、空穴傳輸層、空穴阻擋層以及電子傳輸層都可整層設(shè)置在第一陽極結(jié)構(gòu)、第二陽極結(jié)構(gòu)和第三陽極結(jié)構(gòu)上。由此，電子阻擋層、空穴傳輸層、空穴阻擋層以及電子傳輸層可不用使用極細(xì)金屬掩模板(fmm)，而直接使用openmask制作。一方面，該顯示基板無需使用極細(xì)金屬掩模板(fmm)制作，節(jié)省了成本；另一方面，該顯示基板的ppi也較高。

實(shí)施例二

本實(shí)施例提供一種顯示基板的制作方法。圖4為根據(jù)本實(shí)施例的一種顯示基板的制作方法的流程圖。如圖4所示，該顯示基板的制作方法包括以下步驟s201-步驟s203。

步驟s201：在襯底基板上形成陽極結(jié)構(gòu)，陽極結(jié)構(gòu)包括反射層以及設(shè)置在反射層遠(yuǎn)離襯底基板一側(cè)的無機(jī)層。

例如，襯底基板可采用玻璃基板、石英基板、塑料基板或其他基板。

步驟s202：在陽極結(jié)構(gòu)遠(yuǎn)離襯底基板的一側(cè)形成有機(jī)發(fā)光層。

例如，有機(jī)發(fā)光層可為有機(jī)電致發(fā)光層，可包括多個子有機(jī)發(fā)光層，例如橙紅子有機(jī)發(fā)光層和藍(lán)綠子有機(jī)發(fā)光層，從而發(fā)白光。

步驟s203：在有機(jī)發(fā)光層遠(yuǎn)離襯底基板的一側(cè)形成陰極層，陰極層包括半透半反層，無機(jī)層可調(diào)節(jié)反射層與半透半反層之間的距離。

例如，陰極層自身可為半透半反層，也可額外設(shè)置一層半透半反層，本發(fā)明實(shí)施例在此不作限制。

在本實(shí)施例提供的顯示基板的制作方法中，在襯底基板上形成的陽極結(jié)構(gòu)中的反射層和陰極層中的半透半反層可構(gòu)成微腔效應(yīng)結(jié)構(gòu)，設(shè)置在陽極結(jié)構(gòu)和陰極層之間的有機(jī)發(fā)光層可電致發(fā)光，有機(jī)發(fā)光層直接發(fā)出的光和經(jīng)過反射層反射的光可在上述的微腔效應(yīng)結(jié)構(gòu)中發(fā)生相互干涉；通過通過額外設(shè)置的無機(jī)層調(diào)節(jié)反射層和半透半反層之間的距離，可使得特定波長或特定波長范圍的光增強(qiáng)，而其他波長的光衰弱，從而可窄化該陽極結(jié)構(gòu)對應(yīng)的子像素單元的發(fā)光光譜，進(jìn)而提高色純度。另外，由于在本實(shí)施例提供的制作方法中，有機(jī)發(fā)光層可用于發(fā)白光，因此也無需使用極細(xì)金屬掩膜(fmm)制作，而直接只用openmask制作，從而也可節(jié)省工藝，降低成本。

例如，在本實(shí)施例一示例提供的顯示基板的制作方法中，在襯底基板上形成陽極結(jié)構(gòu)的步驟s201可包括：采用圖案化工藝在襯底基板上形成反射層；采用圖案化工藝在反射層遠(yuǎn)離襯底基板的一側(cè)形成無機(jī)層，無機(jī)層在襯底基板上的正投影與反射層在襯底基板上的正投影完全重疊。由此，陽極結(jié)構(gòu)的各層可采用掩模工藝制作，而非極細(xì)金屬掩膜(fmm)制作，因此，陽極結(jié)構(gòu)在單位面積上的數(shù)量或密度較高，從而可使采用本實(shí)施例提供的制作方法制作的顯示基板具有較高的ppi。需要說明的是，上述的圖案化工藝可為掩膜工藝或印刷工藝，掩膜工藝可包括曝光、顯影、刻蝕等步驟。

例如，可采用濺射工藝和干刻工藝在襯底基板上形成反射層。

例如，在本實(shí)施例一示例提供的顯示基板的制作方法中，在襯底基板上形成陽極結(jié)構(gòu)可包括：在襯底基板上形成彼此間隔設(shè)置的第一陽極結(jié)構(gòu)、第二陽極結(jié)構(gòu)和第三陽極結(jié)構(gòu)，第一陽極結(jié)構(gòu)包括第一反射層和設(shè)置在第一反射層上的第一無機(jī)層，第二陽極結(jié)構(gòu)包括第二反射層和設(shè)置在第二反射層上的第二無機(jī)層，第三陽極結(jié)構(gòu)包括第三反射層和設(shè)置在第三反射層上的第三無機(jī)層，第一無機(jī)層、第二無機(jī)層以及第三無機(jī)層的厚度不同。由此，第一陽極結(jié)構(gòu)、第二陽極結(jié)構(gòu)和第三陽極結(jié)構(gòu)對應(yīng)的子像素可分別發(fā)出不同的具有較高色純度的光，從而使得采用本實(shí)施例提供的顯示基板的制作方法制作的顯示基板具有較高的色域。

例如，圖5a-5g為根據(jù)本實(shí)施例提供的一種顯示基板的制作方法的步驟示意圖。如圖5a所示，在本實(shí)施例一示例提供的顯示基板的制作方法中，在襯底基板上形成第一陽極結(jié)構(gòu)、第二陽極結(jié)構(gòu)和第三陽極結(jié)構(gòu)包括：采用圖案化工藝在襯底基板101上形成第一反射層1111、第二反射層1112以及第三反射層1113。由此，各反射層可采用掩模工藝制作，而非極細(xì)金屬掩膜(fmm)制作，因此，反射層在單位面積上的數(shù)量或密度較高，從而可使采用本實(shí)施例提供的制作方法制作的顯示基板具有較高的ppi。需要說明的是，上述的第一反射層、第二反射層和第三反射層也可同時作為第一陽極、第二陽極和第三陽極。

例如，在本實(shí)施例一示例提供的顯示基板的制作方法中，如圖5b-5g所示，在襯底基板上形成第一、第二和第三陽極結(jié)構(gòu)還包括：如圖5b所示，在第一反射層1111、第二反射層1112以及第三反射層1113遠(yuǎn)離襯底基板101的一側(cè)形成第一子無機(jī)層171；如圖5c所示，在第一子無機(jī)層171遠(yuǎn)離襯底基板101的一側(cè)形成第一光刻膠圖案210，第一光刻膠圖案210覆蓋第一反射層1111以及第一反射層1111、第二反射層1112和第三反射層1113之間的間隔，并露出第二反射層1112和第三反射層1113；如圖5d所示，在第一光刻膠圖案210和第一子無機(jī)層171上形成第二子無機(jī)層172；如圖5e所示，在第二子無機(jī)層172遠(yuǎn)離襯底基板101的一側(cè)形成第二光刻膠圖案220，第二光刻膠圖案220覆蓋第一反射層1111、第三反射層1113以及第一反射層1111、第二反射層1112和第三反射層1113之間的間隔；如圖5f所示，在第二光刻膠圖案220和第二子無機(jī)層172上形成第三子無機(jī)層173；如圖5g所示，通過顯影將第一光刻膠圖案210和第二光刻膠圖案220去除，并去除第一光刻膠圖案210和第二光刻膠圖案220正上方的第二子無機(jī)層172的部分和第三子無機(jī)層173的部分；此時，第一無機(jī)層為第一子無機(jī)層171，第二無機(jī)層包括第一子無機(jī)層171、第二子無機(jī)層172以及第三子無機(jī)層173，第三無機(jī)層包括第一子無機(jī)層171和第二子無機(jī)層172。由此，可形成厚度不同的第一無機(jī)層、第二無機(jī)層以及第三無機(jī)層。需要說明的是，如圖5c-5f所示，第一光刻膠圖案210也填充在第一反射層1111、第二反射層1112和第三反射層1113之間的間隔中，第二光刻膠圖案220也填充在第一反射層1111、第二反射層1112和第三反射層1113之間的間隔中。當(dāng)然，本發(fā)明實(shí)施例包括但不限于此，也可先在第一反射層、第二反射層以及第三反射層之間形成像素界定層，然后再形成第一光刻膠圖案和第二光刻膠圖案。

例如，當(dāng)?shù)谝环瓷鋵优c半透半反層之間的距離為172j1納米，第二反射層與半透半反層之間的距離為144j2納米，第三反射層與半透半反層之間的距離為127j3納米。由于第一反射層與半透半反層之間的距離為172j1納米較大，可以應(yīng)用為第一周期，即j1＝1；，第二反射層與半透半反層之間的距離以及第三反射層與半透半反層之間的距離較小，可以應(yīng)用于為第二周期，即j2＝2，j3＝3。若反射層與半透半反層之間除了無機(jī)層的其他膜層(例如，電子阻擋層、空穴傳輸層、有機(jī)發(fā)光層、空穴阻擋層以及電子傳輸層)的厚度為160納米，則可求得第一無機(jī)層的厚度12納米，第二無機(jī)層的厚度為94納米，第三無機(jī)層的厚度為120納米。由此，第一子無機(jī)層為12納米，第二子無機(jī)層為82納米，第三子無機(jī)層為26納米。

例如，在本實(shí)施例一示例提供的顯示基板的制作方法中，在第一反射層、第二反射層以及第三反射層遠(yuǎn)離襯底基板的一側(cè)形成第一子無機(jī)層包括：在第一反射層、第二反射層以及第三反射層遠(yuǎn)離襯底基板的一側(cè)形成無機(jī)材料層；以及圖案化無機(jī)材料層以形成第一子無機(jī)層，第一子無機(jī)層在襯底基板上的正投影與第一反射層、第二反射層以及第三反射層在襯底基板上的正投影完全重疊。

例如，在本實(shí)施例一示例提供的顯示基板的制作方法中，反射層的材料包括鋁或銀。由此，反射層即可作為反射層也可作為陽極。

例如，在本實(shí)施例一示例提供的顯示基板的制作方法中，無機(jī)層的材料包括氧化鉬或氮化鈦。一方面，氧化鉬便于進(jìn)行刻蝕、圖案化；另一方面，氧化鉬還可作為空穴注入層，從而可不用額外設(shè)置空穴注入層。

實(shí)施例三

本實(shí)施例提供一種顯示裝置，其包括實(shí)施例一中任一項(xiàng)所描述的顯示基板。因此該顯示裝置可在保證高ppi的前提下具有較高色域。

例如，該顯示裝置可為頭盔顯示裝置和眼鏡式顯示裝置等微型顯示裝置。當(dāng)然，本發(fā)明實(shí)施例包括但不限于此，該顯示裝置也可為筆記本電腦、導(dǎo)航儀、電視、手機(jī)等具有顯示功能的電子設(shè)備。

有以下幾點(diǎn)需要說明：

(1)本發(fā)明實(shí)施例附圖中，只涉及到與本發(fā)明實(shí)施例涉及到的結(jié)構(gòu)，其他結(jié)構(gòu)可參考通常設(shè)計(jì)。

(2)在不沖突的情況下，本發(fā)明同一實(shí)施例及不同實(shí)施例中的特征可以相互組合。

以上所述，僅為本公開的具體實(shí)施方式，但本公開的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本公開揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本公開的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本公開的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。