技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本公開提供一種陣列基板的制造方法，所述制造方法包括：形成薄膜晶體管和外圍電路；形成至少覆蓋薄膜晶體管以及外圍電路的鈍化層；形成貫穿鈍化層且暴露出部分薄膜晶體管的漏極的第一過孔，以及貫穿鈍化層且暴露出部分外圍電路的第二過孔；在鈍化層上形成包括第一導(dǎo)電層的圖形，第一導(dǎo)電層覆蓋第一過孔和第二過孔；在第一導(dǎo)電層上形成包括反射金屬層的圖形和包括第二導(dǎo)電層的圖形，第二導(dǎo)電層覆蓋第二過孔。

技術(shù)研發(fā)人員：白金超;韓笑;桑琦;郭會斌;宋勇志
受保護的技術(shù)使用者：京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.05.12
技術(shù)公布日：2017.07.11