本發(fā)明涉及顯示領(lǐng)域，尤其涉及一種oled器件及制備方法、顯示面板、干燥及電場(chǎng)發(fā)生裝置。

背景技術(shù)：

有機(jī)發(fā)光二極管(organiclightemittingdiode，簡(jiǎn)稱oled)器件因其具有自發(fā)光、輕薄、功耗低、高對(duì)比度、高色域、可實(shí)現(xiàn)柔性顯示等優(yōu)點(diǎn)，成為近年來(lái)人們關(guān)注的熱點(diǎn)，并且人們的關(guān)注焦點(diǎn)也慢慢從前幾十年對(duì)于在新型材料的合成，逐漸轉(zhuǎn)變?yōu)楫?dāng)前對(duì)器件結(jié)構(gòu)的創(chuàng)新。

示意的，如圖1所示，一般情況下，oled器件包括相對(duì)設(shè)置的陽(yáng)極和陰極，以及位于陽(yáng)極和陰極之間的多個(gè)功能層，例如，依次設(shè)置的空穴注入層、空穴傳輸層、有機(jī)發(fā)光層、電子傳輸層，電子注入層。在傳統(tǒng)觀念中，人們認(rèn)為oled器件中有機(jī)發(fā)光層中有機(jī)分子必須是無(wú)定形的，即分子取向是隨機(jī)的和各向同性的，這樣才能確保該有機(jī)薄膜的均一性，繼而確保器件的性能。

然而近些年來(lái)，隨著人類(lèi)對(duì)有機(jī)半導(dǎo)體的深入研究以及對(duì)分子間相互作用的逐漸重視，人們逐漸發(fā)現(xiàn)有機(jī)發(fā)光層中有機(jī)分子的形態(tài)和特定取向?qū)led器件的性能有明顯的改善，例如，當(dāng)有機(jī)發(fā)光層中分子在某種特定的取向的情況下，其可以提高載子的遷移率或者增強(qiáng)出光效率，繼而提高效率或壽命等性能。其中，現(xiàn)有技術(shù)中針對(duì)有機(jī)發(fā)光層中有機(jī)分子的特定取向一般采用在真空蒸鍍時(shí)，通過(guò)控制基板的溫度或者選擇特定的溶劑來(lái)達(dá)到調(diào)節(jié)有機(jī)分子的取向排列的目的。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的實(shí)施例提供一種oled器件及制備方法、顯示面板、干燥及電場(chǎng)發(fā)生裝置，該oled器件中的功能注入層中的分子定向排列，從而提高該oled器件的發(fā)光效率。

為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案：

本發(fā)明實(shí)施例一方面提供一種oled器件，包括在基板上相對(duì)設(shè)置的陽(yáng)極和陰極，以及位于所述陽(yáng)極和所述陰極之間、且依次設(shè)置于所述陽(yáng)極上的空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層；所述oled器件還包括功能注入層，所述功能注入層中的有機(jī)分子在垂直或者近似垂直該層鋪展的方向上定向排布；所述功能注入層為位于所述陽(yáng)極和所述空穴傳輸層之間的空穴注入層，和/或，位于所述陰極和所述電子傳輸層之間電子注入層。

本發(fā)明實(shí)施例另一方面還提供一種oled顯示面板，其特征在于，上述的oled器件。

本發(fā)明實(shí)施例又一方面還提供一種oled器件的制備方法，包括：在基板上形成依次排布的陽(yáng)極、空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層、陰極的步驟，所述制備方法還包括：在基板上形成待干燥的功能注入層，所述待干燥的功能注入層為包括溶劑成分的膜層；對(duì)形成有所述待干燥的功能注入層的基板施加垂直于該基板的電場(chǎng)，并進(jìn)行干燥處理，以形成功能注入層，所述功能注入層為位于所述陽(yáng)極和所述空穴傳輸層之間的空穴注入層，和/或，位于所述陰極和所述電子傳輸層之間電子注入層。

進(jìn)一步的，所述對(duì)形成有所述待干燥的功能注入層的基板施加垂直于該基板的電場(chǎng)，并進(jìn)行干燥處理，以形成功能注入層為：對(duì)形成有所述待干燥的功能注入層的基板先進(jìn)行干燥，且在干燥過(guò)程中，對(duì)該基板施加垂直電場(chǎng)，以形成功能注入層。

進(jìn)一步的，所述在干燥過(guò)程進(jìn)行中，對(duì)該基板施加垂直電場(chǎng)包括：在干燥至所述待干燥的功能注入層中溶劑的質(zhì)量分?jǐn)?shù)達(dá)到10％～20％時(shí)，對(duì)該基板施加垂直電場(chǎng)。

進(jìn)一步的，所述對(duì)形成有所述待干燥的功能注入層的基板施加垂直于該基板的電場(chǎng)，并進(jìn)行干燥處理，以形成功能注入層為：對(duì)形成有所述待干燥的功能注入層的基板同時(shí)進(jìn)行干燥和施加垂直電場(chǎng)，以形成功能注入層。

進(jìn)一步的，所述在基板上形成待干燥的功能注入層為：采用噴墨打印或者旋涂的方法在基板上形成包括有機(jī)溶劑成分的待干燥的功能注入層。

本發(fā)明實(shí)施例又一方面還提供一種干燥及電場(chǎng)發(fā)生裝置，包括電源、基板放置架、抽氣裝置以及與所述抽氣裝置連接的抽氣腔；其中，所述抽氣腔的底面主要由金屬材質(zhì)形成，且所述底面設(shè)置有多個(gè)通孔；所述基板放置架用于承載基板，以便所述基板位于所述抽氣腔的下方，且與所述抽氣腔的底面平行設(shè)置；所述電源的正負(fù)極分別連接所述抽氣腔的底面和所述基板放置架承載的oled器件中第一電極，其中，所述第一電極為所述oled器件中的陰極和陽(yáng)極中靠近基板一側(cè)的電極；或者，所述干燥及電場(chǎng)發(fā)生裝置還包括：位于所述基板放置架的承載面背離所述抽氣腔的底面一側(cè)、且與所述抽氣腔的底面平行設(shè)置的附加電極；所述電源的正負(fù)極分別連接所述抽氣腔的底面和所述附加電極。

進(jìn)一步的，所述第一電極或者所述附加電極與所述抽氣腔的底面之間形成的電場(chǎng)方向，與所述oled器件中的陽(yáng)極與陰極之間的電場(chǎng)方向相同。

進(jìn)一步的，所述多個(gè)通孔的分布密度從所述底面的中間位置向邊緣位置減??；和/或，所述抽氣腔的底面與所述基板放置架承載的oled器件中第一電極之間的距離小于或等于10mm。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種oled器件及制備方法、顯示面板、干燥及電場(chǎng)發(fā)生裝置，該oled器件包括：包括在基板上相對(duì)設(shè)置的陽(yáng)極和陰極，以及位于陽(yáng)極和陰極之間、且依次設(shè)置于陽(yáng)極上的空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層；該oled器件還包括功能注入層，且該功能注入層中的有機(jī)分子在垂直或者近似垂直該層鋪展的方向上定向排布；功能注入層為位于陽(yáng)極和空穴傳輸層之間的空穴注入層，和/或，位于陰極和電子傳輸層之間電子注入層。由于該oled器件中空穴注入層和/或電子注入層中有機(jī)分子在垂直或者近似垂直該層鋪展的方向上定向排布，從而能夠提高載流子的遷移率，進(jìn)而提高該oled器件的發(fā)光效率。

附圖說(shuō)明

為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為現(xiàn)有技術(shù)中提供的一種oled器件的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種oled器件的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種oled器件的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種oled器件的制備方法的部分流程示意圖；

圖5為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種制備oled器件的結(jié)構(gòu)示意圖之一；

圖6為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種制備oled器件的結(jié)構(gòu)示意圖之一；

圖7為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種干燥及電場(chǎng)發(fā)生裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖8為本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種干燥及電場(chǎng)發(fā)生裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

附圖標(biāo)記：

01-oled器件；10-基板；101-陽(yáng)極；102-陰極；02-干燥及電場(chǎng)發(fā)生裝置；21-電源；22-基板放置架；23-抽氣裝置；24-抽氣腔；241-抽氣腔的底面；2411-通孔；25-附加電極。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種oled器件，如圖2所示，該oled器件01包括在基板10上相對(duì)設(shè)置的陽(yáng)極101和陰極102，以及位于陽(yáng)極101和陰極102之間、且依次設(shè)置于陽(yáng)極101上的空穴傳輸層(holetransportationlayer，htl)、發(fā)光層(emissionlayer，eml)、電子傳輸層(electrontransportationlayer，etl)。

如圖2所示，該oled器件還包括功能注入層，該功能注入層為位于陽(yáng)極101和空穴傳輸層htl之間的空穴注入層(holeinjectionlayer，hil)，和/或，位于陰極102和電子傳輸層etl之間的電子注入層(electroninjectionlayer，eil)；且該功能注入層，也即空穴注入層hil，和/或，電子注入層eil中有機(jī)分子在垂直或者近似垂直該層鋪展的方向上定向排布，從而能夠提高載流子的遷移率，進(jìn)而提高該oled器件的發(fā)光效率。

此處需要說(shuō)明的是，上述空穴注入層hil，和/或，電子注入層eil中有機(jī)分子在垂直或者近似垂直該層鋪展的方向上定向排布是指：

可以如圖2所示，在該oled器件同時(shí)包括穴注入層hil和電子注入層eil兩個(gè)功能注入層的情況下，則該兩個(gè)功能注入層中至少一個(gè)功能層中有機(jī)分子在垂直或者近似垂直該層鋪展的方向上定向排布，當(dāng)然也可以是該兩個(gè)功能注入層中的有機(jī)分子均在垂直或者近似垂直該層鋪展的方向上定向排布。

還可以是，在該oled器件僅包括空穴注入層hil和電子注入層eil中的一個(gè)功能注入層的情況下，例如，圖3所示，僅包括空穴注入層hil時(shí)，則該功能注入層中有機(jī)分子在垂直或者近似垂直該層鋪展的方向上定向排布。

當(dāng)然，本領(lǐng)域的技術(shù)應(yīng)當(dāng)理解到，現(xiàn)有的oled器件中大都包括空穴注入層hil，而電子注入層eil可以根據(jù)實(shí)際的需要進(jìn)行選擇設(shè)置，本發(fā)明中，在該oled器件包括空穴注入層hil的情況下，至少保證空穴注入層hil中有機(jī)分子在垂直或者近似垂直該層鋪展的方向上定向排布。

此處還需要說(shuō)明的是，為了保證oled器件的正常發(fā)光，一般的，應(yīng)該保證上述陽(yáng)極101和陰極102中的至少一個(gè)采用透明導(dǎo)電材料制成，例如，ito(indiumtinoxide)透明導(dǎo)電材料。

本發(fā)明實(shí)施例還提供一種oled顯示面板，包括上述的oled器件，具體的，該oled顯示面板一般包括tft(thinfilmtransistor，薄膜晶體管)基板，以及設(shè)置與該tft基板上且陣列排布的上述oled器件。由于該oled顯示面板包括如上所述的oled器件，因此具有與前述實(shí)施例提供的oled器件相同的結(jié)構(gòu)和有益效果。由于前述實(shí)施例已經(jīng)對(duì)oled器件的結(jié)構(gòu)和有益效果進(jìn)行了詳細(xì)的描述，此處不再贅述。

此處需要說(shuō)明的是，上述oled顯示面板可以是在進(jìn)行封裝前的oled陣列基板，也可以是封裝后的oled顯示基板。

本發(fā)明實(shí)施例還提供一種oled器件的制備方法，包括：在基板10上形成依次排布的陽(yáng)極101、空穴傳輸層htl、發(fā)光層eml、電子傳輸層etl、陰極102的步驟(參考圖2)，其中，依次排布的陽(yáng)極101、空穴傳輸層htl、發(fā)光層eml、電子傳輸層etl、陰極102可以是從上到下依次排布，也可以是從下到上依次排布，本發(fā)明對(duì)此不作限制。

如圖4所示，該制備方法還包括：

步驟101、在基板上形成待干燥的功能注入層，其中，待干燥的功能注入層為包括溶劑成分的膜層。

具體的，可以采用噴墨打印(ink-jetprinting)或者旋涂(spin-coating)的方法在基板10(包括電極)上形成包括有機(jī)溶劑成分的待干燥的功能注入層。

步驟102、對(duì)形成有待干燥的功能注入層的基板施加垂直于該基板的電場(chǎng)，并進(jìn)行干燥處理，以形成功能注入層。其中，功能注入層為位于陽(yáng)極101和空穴傳輸層htl之間的空穴注入層hil，和/或，位于陰極102和電子傳輸層etl之間電子注入層eil。

綜上所述，該oled器件中空穴注入層，和/或，電子注入層中極性有機(jī)分子的偶極矩在電場(chǎng)作用下發(fā)生重新排列，沿著電場(chǎng)方向頭尾相連排列，即在垂直或者近似垂直該層鋪展的方向上發(fā)生定向排布，從而能夠提高該oled器件的載流子的遷移率，進(jìn)而提高發(fā)光效率。

以下對(duì)上述步驟s102中，對(duì)形成有待干燥的功能注入層的基板施加垂直于該基板的電場(chǎng)，并進(jìn)行干燥處理，以形成功能注入層做進(jìn)一步的解釋說(shuō)明。

例如，可以是對(duì)形成有待干燥的功能注入層的基板同時(shí)進(jìn)行干燥和施加垂直電場(chǎng)，以形成功能注入層；也即在干燥的整個(gè)過(guò)程中均對(duì)形成有待干燥的功能注入層的基板施加垂直電場(chǎng)。

又例如，還可以是對(duì)形成有待干燥的功能注入層的基板先進(jìn)行干燥，且在干燥過(guò)程進(jìn)行中，對(duì)該基板施加垂直電場(chǎng)，以形成功能注入層；即干燥過(guò)程和施加電場(chǎng)并非同步進(jìn)行，在干燥一定時(shí)間后，開(kāi)始對(duì)基板施加垂直電場(chǎng)。

在此基礎(chǔ)上，為了避免因干燥時(shí)間較長(zhǎng)，造成待干燥的功能注入層中的溶劑大量揮發(fā)，導(dǎo)致該待干燥的功能注入層中的有機(jī)分子濃度過(guò)大、造成一定程度的不定向排列，并且在電場(chǎng)的作用下無(wú)法進(jìn)行有效的定向排布，因此，本發(fā)明優(yōu)選的，在干燥至待干燥的功能注入層中溶劑的質(zhì)量分?jǐn)?shù)達(dá)到10％～20％時(shí)，例如15％，對(duì)該基板施加垂直電場(chǎng)。

其中，需要說(shuō)明的是，上述干燥至待干燥的功能注入層中溶劑的質(zhì)量分?jǐn)?shù)達(dá)到10％～20％是指，在干燥至某一時(shí)刻時(shí)，待干燥的功能注入層中溶劑占該時(shí)刻整個(gè)膜層的質(zhì)量分?jǐn)?shù)。在實(shí)際的干燥過(guò)程中，可以根據(jù)經(jīng)驗(yàn)觀察該待干燥的功能注入層的粘稠程度，以判斷該待干燥的功能注入層中溶劑的質(zhì)量分?jǐn)?shù)；當(dāng)然也可以通過(guò)測(cè)定干燥裝置收集到的揮發(fā)的溶劑質(zhì)量來(lái)推算待干燥的功能注入層剩余的溶劑含量，來(lái)估算該待干燥的功能注入層中溶劑的質(zhì)量分?jǐn)?shù)。

以制作oled顯示面板為例，通過(guò)具體實(shí)施例，對(duì)上述oled器件的制備方法做進(jìn)一步的說(shuō)明。

具體的，oled顯示面板的制作過(guò)程，上述oled器件中的基板為tft基板(tftarray)。

首先，如圖5所示，在tft基板10上形成陣列排布的第一電極，例如，可以是ito材料形成的陽(yáng)極101，當(dāng)然并不限制于此；接下來(lái)在該形成陽(yáng)極101的基板10上形成像素界定層，以使得陣列排布的陽(yáng)極101通過(guò)像素界定層中的阻擋墻(bank)界定隔離開(kāi)。

然后，如圖6所示，在該形成陽(yáng)極101以及像素界定層的基板10上采用噴墨打印的方法形成待干燥的空穴注入層hil，此時(shí)該待干燥的空穴注入層hil具有大量的有機(jī)溶劑成分。

接下來(lái)，對(duì)待干燥的空穴注入層hil進(jìn)行干燥并施加垂直電場(chǎng)e，以形成有機(jī)分子在垂直或者近似垂直該層鋪展的方向上定向排布的空穴注入層hil。

本發(fā)明實(shí)施例還提供一種干燥及電場(chǎng)發(fā)生裝置，如圖7或圖8所示，該干燥及電場(chǎng)發(fā)生裝置02，包括電源21、基板放置架22、抽氣裝置23以及與抽氣裝置23連接的抽氣腔24。

抽氣腔的底面241主要由金屬材質(zhì)形成，且該抽氣腔的底面241設(shè)置有多個(gè)通孔2411。一般的，該抽氣腔24為上小下大的錐形鐘罩結(jié)構(gòu)，通過(guò)開(kāi)啟抽氣裝置23使得位于抽氣腔24的底面241下方的基板上的溶劑能夠通過(guò)抽氣腔24快速揮發(fā)，以達(dá)到干燥的目的。

基板放置架22用于承載基板10，以便基板10位于抽氣腔24的下方，且與抽氣腔24的底面241平行設(shè)置。

在此情況下，對(duì)于電場(chǎng)發(fā)生部分：

可以如圖7所示，電源21的正負(fù)極分別連接抽氣腔的底面241和基板放置架22承載的oled器件中第一電極，其中，第一電極為oled器件01中的陰極和陽(yáng)極中靠近基板10一側(cè)的電極，例如，可以為陽(yáng)極101，這樣一來(lái)，可以在陽(yáng)極101與抽氣腔的底面241之間形成垂直于基板10的電場(chǎng)，以使得位于陽(yáng)極101上的空穴注入層hil位于該垂直電場(chǎng)中。

也可以如圖8所示，該干燥及電場(chǎng)發(fā)生裝置02還包括：位于基板放置架22的承載面背離抽氣腔的底面241一側(cè)、且與抽氣腔的底面241平行設(shè)置的附加電極25；電源21的正負(fù)極分別連接抽氣腔的底面241和附加電極25，這樣一來(lái)，可以在抽氣腔的底面241和附加電極25之間形成垂直于基板10的電場(chǎng)。

此處需要說(shuō)明的是，對(duì)于上述電源21的正負(fù)極的連接情況，實(shí)際中可以將上述電源21的正負(fù)極互相調(diào)換連接，只要保證上述第一電極或者附加電極25與抽氣腔的底面241之間形成垂直電場(chǎng)即可。

然而，為了盡可能的保證在干燥過(guò)程中，待干燥的功能注入層所處的電場(chǎng)方向，與該oled器件在正常工作狀態(tài)下功能注入層所處的電場(chǎng)方向一致，以使得在干燥過(guò)程形成的功能注入層的分子排布趨勢(shì)，與在工作狀態(tài)下功能注入層的分子具有相同的排布趨勢(shì)，進(jìn)而保證該功能注入層穩(wěn)定性。因此，本發(fā)明優(yōu)選的，上述第一電極或者附加電極25與抽氣腔的底面241之間形成的電場(chǎng)方向，與oled器件中的陽(yáng)極與陰極之間的電場(chǎng)方向相同。

具體的，以基板10上的第一電極為陽(yáng)極101，且在形成有陽(yáng)極101的基板上形成待干燥的功能注入層(空穴注入層hil)為例，可以如圖7所示，電源21的正極與陽(yáng)極101連接，負(fù)極與抽氣腔的底面214連接；或者，如圖8所示，電源21的正極與附加電極25連接，負(fù)極與抽氣腔的底面214連接；這樣一來(lái)，能夠使得第一電極與抽氣腔的底面241之間形成的電場(chǎng)方向，與oled器件中的陽(yáng)極與陰極之間的電場(chǎng)方向相同，以保證該oled器件的穩(wěn)定性。

另外，本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該理解到，在干燥以及施加電場(chǎng)過(guò)程中，基板放置架22承載的oled器件中的基板10直接與基板放置架22接觸，在基板10上制作的其他膜層朝向該干燥及電場(chǎng)發(fā)生裝置02。

另外，本發(fā)明優(yōu)選的，上述位于抽氣腔的底面241的多個(gè)通孔2411的分布密度從底面的中間位置向邊緣位置減小，以使得對(duì)形成有待干燥的功能注入層的基板進(jìn)行干燥時(shí)，保證整個(gè)待干燥的功能注入層均勻干燥。

具體的，由于待干燥的功能注入層中間位置處與邊緣位置處的環(huán)境具有差異，即中間位置處在溶劑揮發(fā)過(guò)程中受四周的溶劑影響，揮發(fā)程度難于邊緣位置處的溶劑揮發(fā)的程度，因此，設(shè)置抽氣腔的底面中的通孔的分布密度從底面的中間位置向邊緣位置減小，以使得待干燥的功能注入層能夠均勻干燥。

此處需要說(shuō)明的是，上述通孔的分布密度是指，在通孔的大小形狀一致的情況下，單位面積內(nèi)通孔的分布個(gè)數(shù)。

此外，本發(fā)明優(yōu)選的，抽氣腔的底面241與基板放置架承載22的oled器件中第一電極之間的距離小于或等于10mm，例如，可以使設(shè)置抽氣腔的底面241與基板放置架承載22的oled器件中第一電極之間的距離為1mm；這樣一來(lái)，一方面能夠保證溶劑的有效揮發(fā)；另一方面，在電源21的正負(fù)極分別連接抽氣腔的底面241和基板放置架22承載的oled器件中第一電極，且電源功率一定的情況下，能夠保證位于第一電極上的待干燥的功能注入層能夠處于較強(qiáng)的電場(chǎng)中，以使得有機(jī)分子沿電場(chǎng)方向有效的定向排列。

本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以理解：實(shí)現(xiàn)上述方法實(shí)施例的全部或部分步驟可以通過(guò)程序指令相關(guān)的硬件來(lái)完成，前述的程序可以存儲(chǔ)于一計(jì)算機(jī)可讀取存儲(chǔ)介質(zhì)中，該程序在執(zhí)行時(shí)，執(zhí)行包括上述方法實(shí)施例的步驟；而前述的存儲(chǔ)介質(zhì)包括：rom、ram、磁碟或者光盤(pán)等各種可以存儲(chǔ)程序代碼的介質(zhì)。

以上所述，僅為本發(fā)明的具體實(shí)施方式，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。