技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種制備集成電感多元復(fù)合磁芯層的方法，涉及微電子與印制電路板領(lǐng)域。本發(fā)明能夠克服現(xiàn)有技術(shù)化學(xué)共沉積法難以獲得的多元合金磁芯材料，避免了化學(xué)共沉積法將所有金屬離子的析出電位調(diào)整至相近水平實施困難的缺陷；本發(fā)明利用Ni或Co的自催化性能，將Ni或Co與磁芯顆粒共沉積到電感的目標(biāo)沉積區(qū)域形成具有雙相結(jié)構(gòu)的多元復(fù)合磁芯層，制得的磁芯層能夠使得電感器的電感增值大，同時本發(fā)明的制備方法相比濺射法具有工藝簡單、成膜速度快，耗能少的優(yōu)勢。

技術(shù)研發(fā)人員：周國云;何迪;何為;李永強;王守緒;陳苑明;王翀
受保護的技術(shù)使用者：電子科技大學(xué)
技術(shù)研發(fā)日：2017.04.13
技術(shù)公布日：2017.07.04