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基板處理裝置及基板處理方法與流程

文檔序號:11516473閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明的基板處理裝置及基板處理方法通過高效地生成亞硝酸,生成具有適合蝕刻的亞硝酸濃度的蝕刻液,提高了蝕刻的效率。該基板處理裝置(10)使用含有氫氟酸及硝酸的蝕刻液(L)對半導(dǎo)體晶片(W)進行處理,其具備:儲存蝕刻液(L)的儲存箱(210)、測量蝕刻液(L)中的亞硝酸的濃度的濃度傳感器(256)、向蝕刻液(L)供給IPA而將亞硝酸的濃度維持在規(guī)定值以上的醇供給部(310)、將儲存箱(210)內(nèi)的蝕刻液(L)向半導(dǎo)體晶片(W)供給的基板處理單元(100)。

技術(shù)研發(fā)人員:齊藤裕樹;林航之介;大田垣崇;長島裕次
受保護的技術(shù)使用者:芝浦機械電子株式會社
技術(shù)研發(fā)日:2017.03.07
技術(shù)公布日:2017.10.17
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