本發(fā)明涉及一種電極,具體涉及一種具有柔性自支撐結(jié)構(gòu)的電極及其制備方法與應(yīng)用,屬于電化學(xué)儲能技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù):
隨著社會的快速發(fā)展,人們對電能的需求越來越大。目前常見的電能存儲器件主要為蓄電池和電容器,而超級電容器是一種同時具有這兩種器件優(yōu)點的新型儲電器件,其同時具有高的能量密度與功率密度,從而具有充放電速度快、循環(huán)壽命長和環(huán)境友好等優(yōu)點。柔性、輕便、高能量密度的超級電容器具有便攜實用的特點,現(xiàn)已成為超級電容器的主要研究方向之一。超級電容器的電極是整體器件的關(guān)鍵元件,電極一般由導(dǎo)電襯底和活性材料構(gòu)成,電極的導(dǎo)電襯底一般由鋁片、銅片等金屬片構(gòu)成,占整體器件的很大重量。為減小器件重量,提高器件便攜性,可去除導(dǎo)電襯底,直接由活性層導(dǎo)電,即自支撐結(jié)構(gòu)電極。
目前,自支撐結(jié)構(gòu)電極的制備中,一般會添加聚合物或其他粘合劑,工藝較為復(fù)雜;并且,一般會進(jìn)行高溫高壓操作,成本較高;且制得的電極應(yīng)用于超級電容器時,性能有待提高。石墨烯具有比表面積大、質(zhì)量輕、高導(dǎo)電性、高機械強度等優(yōu)點,可應(yīng)用于超級電容器的柔性自支撐結(jié)構(gòu)電極。
中國專利“一種柔性自支撐紙狀石墨烯膜及其復(fù)合膜的制備方法”(申請?zhí)枺?01310185640.x)公開了一種柔性自支撐紙狀石墨烯膜及其復(fù)合膜的制備方法:按照改進(jìn)的hummers法,以石墨為原料,制備濃度為0.5~12.0mg/ml的氧化石墨烯(go)水溶液;將go水溶液或go和功能化處理的碳納米管混合水溶液注入0.2~11.0mg/ml的羥胺乙醇溶液或鹽酸羥胺乙醇溶液的底部,靜置凝固;低溫加熱,蒸發(fā)乙醇溶劑,得到氮摻雜的柔性自支撐紙狀石墨烯膜及其復(fù)合膜。這種方法盡管簡單,但性能不高。
nguyenvanchuc(journalofmaterialsscience&technology31(2015)479–483)等人提出采用化學(xué)氣相沉積法制備石墨烯-碳納米管雜化薄膜,這種方法成本較高,工藝復(fù)雜;liwei等人(journalofsolidstatechemistry224(2015)45–51)提出了一種在高溫環(huán)境下制備石墨烯紙的方法,其工藝復(fù)雜,成本較高。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
針對上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問題,本發(fā)明提供一種具有柔性自支撐結(jié)構(gòu)的電極及其制備方法與應(yīng)用,制得的電極內(nèi)阻低、面積比電容高。
為了實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提出一種具有柔性自支撐結(jié)構(gòu)的電極,該電極具有三明治結(jié)構(gòu),包括第一rgo薄膜層、納米碳層和第二rgo薄膜層,所述納米碳層設(shè)置在第一、第二rgo薄膜層之間,所述rgo薄膜層即還原氧化石墨烯薄膜層。
另外,本發(fā)明還提供了一種上述具有柔性自支撐結(jié)構(gòu)電極的制備方法,具體包括以下步驟:
1)清洗金屬基底;
2)對清洗后金屬基底作親水處理,平放在燒杯底部,向燒杯內(nèi)加入go水溶液,加熱蒸發(fā),至金屬基底表面沉積一層go薄膜;
3)再向燒杯中加入go的還原溶液,使溶液蒸發(fā),在基底上制得一層rgo薄膜;
4)對金屬基底作親水處理,同時配制過渡金屬鹽、表面活性劑和銅鹽的混合溶液,且將該溶液旋涂于金屬基底上,將金屬基底置于酒精燈火焰中,燃燒2-10min,制備納米碳層;
5)重復(fù)步驟2)-3)的操作,在納米碳層上再制作一層rgo薄膜;
6)待金屬基底自然干燥后,將制得的薄膜從基底上剝落,即得電極。
作為改進(jìn),所述步驟1)中采用的金屬基底為鈦金屬片。
作為改進(jìn),所述步驟2)中的親水處理是對金屬基底進(jìn)行臭氧表面化學(xué)改性處理,處理時間為20-40min。
作為改進(jìn),所述步驟2)、3)中的蒸發(fā)溫度為60-80℃。
作為改進(jìn),所述步驟3)中采用的還原溶液為抗壞血酸(vc)水溶液,其中vc的濃度為8.00mg·ml-1-16.00mg·ml-1。
作為改進(jìn),所述步驟4)中的過渡金屬鹽為六水合硫酸鎳、六水合三氯化鐵中的一種或其混合;
所述表面活性劑為十二烷基硫酸鈉(k12)、十二烷基苯磺酸鈉(sds)中的一種或其混合;
所述銅鹽為五水合硫酸銅、三水合硝酸銅中的一種或其混合。
作為改進(jìn),所述步驟4)中采用的過渡金屬鹽、銅鹽、表面活性劑的摩爾比為1:(0.4-0.8):(0.00008-0.0016)。
作為改進(jìn),所述步驟2)中采用的go水溶液的濃度為0.05mg·ml-1-0.20mg·ml-1。
本發(fā)明的具有柔性自支撐結(jié)構(gòu)的電極可作為超級電容器電極應(yīng)用。應(yīng)用于超級電容器時,面積比電容最大為1.06f·cm-2。
本發(fā)明的電極制備原理:
制得的電極具有三明治結(jié)構(gòu),其由下層的rgo薄膜、中間的納米碳薄膜、上層的rgo薄膜共同構(gòu)成。制備下層rgo薄膜時,首先將金屬基底沉浸于go溶液中,通過溶液的蒸發(fā),使go在基底上堆疊成薄膜;接著,加入vc溶液,還原go薄膜為rgo薄膜,作為導(dǎo)電襯底;制備中間的納米碳薄膜時,先將過渡金屬鹽、銅鹽、表面活性劑配置成前驅(qū)溶液,將基底進(jìn)行臭氧表面化學(xué)改性處理,接著在基底上旋涂此前驅(qū)溶液,使得前驅(qū)溶液能夠在基底表面形成均勻的溶液膜,然后將基底在火焰中燃燒,從而得到一層納米碳薄膜。由實驗結(jié)果分析可得,鎳鹽為納米碳的催化劑,在火焰中會生成納米碳;銅鹽會使納米碳具有螺旋結(jié)構(gòu);表面活性劑會使納米碳結(jié)構(gòu)更加多孔。這種結(jié)構(gòu)能夠有效增加活性儲能物質(zhì)的表面積,保證電荷與離子的有效傳輸;上層的rgo薄膜制備方法與下層的相同,用于增強電極整體的機械性能。在電極中,三層結(jié)構(gòu)互相配合,整體形成自支撐結(jié)構(gòu),這種電極不僅用作導(dǎo)電襯底,而且用作電荷存儲。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明具有以下優(yōu)點:
1)本發(fā)明通過燃燒法制備納米碳層時,前驅(qū)溶液同時含有過渡金屬鹽、銅鹽與表面活性劑,這種前驅(qū)溶液配方還未見報道,此外,基于這種前驅(qū)溶液制得的納米碳具有螺旋結(jié)構(gòu);
2)制得的電極應(yīng)用于超級電容器時,面積比電容最大為1.06f·cm-2的,相比于現(xiàn)有報道,性能較高;
3)采用本發(fā)明方法制得的電極大小、厚度靈活可調(diào),能夠被大規(guī)模生產(chǎn)與應(yīng)用;
4)本發(fā)明制得的電極具有自支撐的三維多孔結(jié)構(gòu),高柔韌性、高導(dǎo)電性,應(yīng)用于超級電容器時,具有高面積比電容、長壽命和高穩(wěn)定性。
附圖說明
圖1為本發(fā)明的電極結(jié)構(gòu)示意圖,圖中:1、第一rgo薄膜層,2、納米碳層,3、第二rgo薄膜層;
圖2為實施例一中旋涂第一前驅(qū)溶液的電極的掃描電子顯微鏡圖;
圖3為實施例一中旋涂第二前驅(qū)溶液的電極的掃描電子顯微鏡圖;
圖4為實施例一中兩個電極的恒流充放電曲線圖;
圖5為實施例一中兩個電極進(jìn)行恒流循環(huán)充放電1000次時,面積比電容的變化曲線圖;
具體實施方式
下述實施例是對于本發(fā)明內(nèi)容的進(jìn)一步說明以作為對本發(fā)明技術(shù)內(nèi)容的闡釋,但本發(fā)明的實質(zhì)內(nèi)容并不僅限于下述實施例所述,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以且應(yīng)當(dāng)知曉任何基于本發(fā)明實質(zhì)精神的簡單變化或替換均應(yīng)屬于本發(fā)明所要求的保護(hù)范圍。
一種具有柔性自支撐結(jié)構(gòu)的電極,如圖1所示,該電極具有三明治結(jié)構(gòu),包括第一rgo薄膜層1、納米碳層2和第二rgo薄膜層3,所述納米碳層2設(shè)置在第一、第二rgo薄膜層之間;
當(dāng)該電極用于超級電容器時,其面積比電容最大為1.06f·cm-2。
實施例一
一種具有柔性自支撐結(jié)構(gòu)電極的制備方法,具體包括以下步驟:
1)以高純度鈦片為基底,用砂紙打磨鈦片基底以去除其表面油漬和雜質(zhì),然后,依次用丙酮、乙醇、去離子水超聲清洗15分鐘,干燥處理;
2)取兩片厚度均為0.20mm、面積均為15mm×20mm的鈦片基底,臭氧處理30分鐘,然后將其平放在裝有3.00ml濃度為0.20mg·ml-1的go水溶液的燒杯底部,將燒杯置于65℃水浴中,使溶液蒸發(fā),形成一層go薄膜;
3)向燒杯中加入2.00ml濃度為8.00mg·ml-1的vc水溶液,繼續(xù)在65℃水浴中,使溶液蒸發(fā),從而在鈦片基底上制得一層rgo薄膜;
4)配制第一前驅(qū)水溶液,其含有1.50mniso4、12.00mmk12;配制第二前驅(qū)水溶液,其含有1.50mniso4、12.00mmk12、1.20mcuso4;對兩片基底均臭氧處理30分鐘,對一片金屬基底旋涂第一前驅(qū)水溶液,另一片金屬基底旋涂第二前驅(qū)水溶液,然后將基底置于酒精燈火焰中,燃燒約5分鐘,從而在rgo薄膜上生成一層納米碳薄膜;
5)對由4)處理過的基底臭氧處理30分鐘,將其平放在裝有3.00ml濃度為0.05mg·ml-1go水溶液的燒杯底部,將燒杯轉(zhuǎn)移到65℃水浴環(huán)境中,使溶液蒸發(fā),形成一層go薄膜,待自然干燥后,加入2.00ml濃度為16.00mg·ml-1vc水溶液,65℃水浴處理10分鐘,從而在基底上生成一層rgo薄膜,干燥處理;
6)將薄膜從基底上剝落,從而制得柔性的自支撐結(jié)構(gòu)的電極。
將制成的電極、鉑片與甘汞電極分別作為工作電極、對電極與參比電極,以0.50m的硫酸鈉(na2so4)水溶液為電解質(zhì)溶液,采用恒流充放電系統(tǒng)進(jìn)行電容測量。測試中,恒流充電電流和恒流放電電流皆為0.05ma,電壓窗口設(shè)為0~0.80v。
經(jīng)多次測試得知,經(jīng)旋涂第一前驅(qū)水溶液的電極的面積比電容為0.52f·cm-2,其掃描電子顯微鏡圖如圖2所示;而經(jīng)旋涂第二前驅(qū)水溶液的電極的面積比電容為1.06f·cm-2,其掃描電子顯微鏡圖如圖3所示;由此可知,后者比前者的面積比電容增加了103.14%。上述兩電極的恒流充放電曲線如圖4所示。對兩電極進(jìn)行1000次恒流循環(huán)充放電,其面積比電容的變化曲線如圖5所示,分析可知,旋涂第一前驅(qū)水溶液的電極的面積比電容能保持初始值的72.92%,旋涂第二前驅(qū)水溶液的電極的面積比電容能保持初始值的93.02%,后者比前者的面積比電容保持率增加了20.10%。
由此說明,本發(fā)明中,前驅(qū)溶液中的銅鹽極大的提升了超級電容器電極的面積比電容、電容的循環(huán)穩(wěn)定性。
實施例二
一種具有柔性自支撐結(jié)構(gòu)電極的制備方法,具體包括以下步驟:
1)以高純度鈦片為基底,用砂紙打磨鈦片基底以去除其表面油漬和雜質(zhì),然后,依次用丙酮、乙醇、去離子水超聲清洗15分鐘,干燥處理;
2)取兩片厚度均為0.20mm、面積均為15mm×20mm的鈦片基底,臭氧表面化學(xué)改性處理25分鐘,然后將其平放在裝有3.00ml濃度為0.20mg·ml-1go水溶液的燒杯底部,將燒杯置于60℃水浴中,使溶液蒸發(fā),形成一層go薄膜;
3)向燒杯中加入2.00ml濃度為8.00mg·ml-1vc水溶液,繼續(xù)在60℃水浴中,使溶液蒸發(fā),從而在鈦片基底上制得一層rgo薄膜;
4)配制第一前驅(qū)水溶液,其含有1.50mniso4、12.00mmk12;配制第二前驅(qū)水溶液,其含有1.50mniso4、12.00mmk12、1.20mcu(no3)2;對兩片基底均臭氧處理30分鐘,對一片基底旋涂第一前驅(qū)水溶液,另一片旋涂第二前驅(qū)水溶液,然后將基底置于酒精燈火焰中,燃燒2分鐘,從而在rgo薄膜上生成一層納米碳薄膜;
5)對由4)處理過的金屬基底臭氧處理30分鐘,將其平放在裝有3.00ml濃度為0.05mg·ml-1的go水溶液的燒杯底部,將燒杯轉(zhuǎn)移到65℃水浴環(huán)境中,使溶液蒸發(fā),形成一層go薄膜,待自然干燥后,加入2.00ml濃度為16.00mg·ml-1vc水溶液,65℃水浴處理10分鐘,從而在基底上生成一層rgo薄膜,干燥處理;
6)將薄膜從基底上剝落,從而制得柔性的自支撐結(jié)構(gòu)的電極。
將制成的電極、鉑片與甘汞電極分別作為工作電極、對電極與參比電極,以0.50m的na2so4水溶液為電解質(zhì)溶液,采用恒流充放電系統(tǒng)進(jìn)行電容測量。測試中,恒流充電電流和恒流放電電流皆為0.05ma,電壓窗口設(shè)為0~0.80v。
經(jīng)多次測試得到,經(jīng)旋涂第一前驅(qū)水溶液的電極的面積比電容為0.52f·cm-2,而經(jīng)旋涂第二前驅(qū)水溶液的電極的面積比電容為0.79f·cm-2,后者比前者的面積比電容增加了51.51%。
由此說明,本發(fā)明中,前驅(qū)溶液中的銅鹽極大的提升了超級電容器電極的面積比電容。
實施例三
一種具有柔性自支撐結(jié)構(gòu)電極的制備方法,具體包括以下步驟:
1)以高純度鈦片為基底,用砂紙打磨鈦片基底以去除其表面油漬和雜質(zhì),然后,依次用丙酮、乙醇、去離子水超聲清洗15分鐘,干燥處理;
2)取兩片厚度均為0.20mm、面積均為15mm×20mm的鈦片基底,臭氧處理40分鐘,然后將其平放在裝有3.00ml濃度為0.20mg·ml-1的go水溶液的燒杯底部,將燒杯置于80℃水浴中,使溶液蒸發(fā),形成一層go薄膜;
3)向燒杯中加入2.00ml濃度為8.00mg·ml-1的vc水溶液,繼續(xù)在80℃水浴中,使溶液蒸發(fā),從而在鈦片基底上制得一層rgo薄膜;
4)配制第一前驅(qū)水溶液,其含有2.00mniso4、16.00mmk12;配制第二前驅(qū)水溶液,其含有2.00mniso4、16.00mmk12、1.00mcuso4;對兩片基底均臭氧處理30分鐘,對一片基底旋涂第一前驅(qū)溶液,另一片旋涂第二前驅(qū)溶液,然后將基底置于酒精燈火焰中,燃燒約10分鐘,從而在rgo薄膜上生成一層納米碳薄膜;
5)對由4)處理過的基底臭氧處理30分鐘,將其平放在裝有3.00ml濃度為0.05mg·ml-1的go水溶液的燒杯底部,將燒杯轉(zhuǎn)移到65℃水浴環(huán)境中,使溶液蒸發(fā),形成一層go薄膜,待自然干燥后,加入2.00ml濃度為16.00mg·ml-1vc水溶液,65℃水浴處理10分鐘,從而在基底上生成一層rgo薄膜,干燥處理;
6)將薄膜從基底上剝落,從而制得柔性的自支撐結(jié)構(gòu)的電極。
將制成的電極、鉑片與甘汞電極分別作為工作電極、對電極與參比電極,以0.50m的na2so4水溶液為電解質(zhì)溶液,采用恒流充放電系統(tǒng)進(jìn)行電容測量。測試中,恒流充電電流和恒流放電電流皆為0.05ma,電壓窗口設(shè)為0~0.80v。
經(jīng)多次測試得到,經(jīng)旋涂第一前驅(qū)溶液的電極的面積比電容為0.42f·cm-2,而經(jīng)旋涂第二前驅(qū)溶液的電極的面積比電容為0.68f·cm-2,后者比前者的面積比電容增加了60.98%。
由此說明,本發(fā)明中,前驅(qū)溶液中的銅鹽極大的提升了超級電容器電極的面積比電容。
實施例四
一種具有柔性自支撐結(jié)構(gòu)電極的制備方法,具體包括以下步驟:
1)以高純度鈦片為基底,用砂紙打磨鈦片基底以去除其表面油漬和雜質(zhì),然后,依次用丙酮、乙醇、去離子水超聲清洗15分鐘,干燥處理;
2)取兩片厚度均為0.20mm、面積均為15mm×20mm的鈦片基底,臭氧處理20分鐘,然后將其平放在裝有3.00ml濃度為0.20mg·ml-1go水溶液的燒杯底部,將燒杯置于65℃水浴中,使溶液蒸發(fā),形成一層go薄膜;
3)向燒杯中加入2.00ml8.00mg·ml-1vc水溶液,繼續(xù)在65℃水浴中,使溶液蒸發(fā),從而在鈦片基底上制得一層rgo薄膜;
4)配制第一前驅(qū)水溶液,其含有2.00mniso4、16.00mmsds;配制第二前驅(qū)水溶液,其含有2.00mniso4、16.00mmsds、1.00mcuso4;對兩片基底均臭氧處理35分鐘,對一片基底旋涂第一前驅(qū)溶液,另一片旋涂第二前驅(qū)溶液,然后將基底置于酒精燈火焰中,燃燒約8分鐘,從而在rgo薄膜上生成一層納米碳薄膜;
5)對由4)處理過的基底臭氧處理30分鐘,將其平放在裝有3.00ml濃度為0.05mg·ml-1go水溶液的燒杯底部,將燒杯轉(zhuǎn)移到70℃水浴環(huán)境中,使溶液蒸發(fā),形成一層go薄膜,待自然干燥后,加入2.00ml濃度為16.00mg·ml-1vc水溶液,70℃水浴處理10分鐘,從而在基底上生成一層rgo薄膜,干燥處理;
6)將薄膜從基底上剝落,從而制得柔性的自支撐結(jié)構(gòu)的電極。
將制成的電極、鉑片與甘汞電極分別作為工作電極、對電極與參比電極,以0.50m的na2so4水溶液為電解質(zhì)溶液,采用恒流充放電系統(tǒng)進(jìn)行電容測量。測試中,恒流充電電流和恒流放電電流皆為0.05ma,電壓窗口設(shè)為0~0.80v。
經(jīng)多次測試得到,經(jīng)旋涂第一前驅(qū)溶液的電極的面積比電容為0.47f·cm-2,而經(jīng)旋涂第二前驅(qū)溶液的電極的面積比電容為0.76f·cm-2,后者比前者的面積比電容增加了60.54%。
由此說明,本發(fā)明中,前驅(qū)溶液中的銅鹽極大的提升了超級電容器電極的面積比電容。
實施例五
一種具有柔性自支撐結(jié)構(gòu)電極的制備方法,具體包括以下步驟:
1)以高純度鈦片為基底,用砂紙打磨鈦片基底以去除其表面油漬和雜質(zhì),然后,依次用丙酮、乙醇、去離子水超聲清洗15分鐘,干燥處理;
2)取兩片厚度均為0.20mm、面積均為15mm×20mm的鈦片基底,臭氧處理30分鐘,然后將其平放在裝有3.00ml0.20mg·ml-1go水溶液的燒杯底部,將燒杯置于65℃水浴中,使溶液蒸發(fā),形成一層go薄膜;
3)向燒杯中加入2.00ml濃度為8.00mg·ml-1vc水溶液,繼續(xù)在65℃水浴中,使溶液蒸發(fā),從而在鈦片基底上制得一層rgo薄膜;
4)配制第一前驅(qū)水溶液,其含有0.10mfecl3、1.00mniso4、5.00mmk12;配制第二前驅(qū)水溶液,其含有0.10mfecl3、1.00mniso4、5.00mmk12、1.20mcuso4;對兩片基底均臭氧處理30分鐘,對一片基底旋涂第一前驅(qū)溶液,另一片旋涂第二前驅(qū)溶液,然后將基底置于酒精燈火焰中,燃燒約5分鐘,從而在rgo薄膜上生成一層納米碳薄膜;
5)對由4)處理過的基底臭氧處理30分鐘,將其平放在裝有3.00ml0.05mg·ml-1go水溶液的燒杯底部,將燒杯轉(zhuǎn)移到65℃水浴環(huán)境中,使溶液蒸發(fā),形成一層go薄膜,待自然干燥后,加入2.00ml16.00mg·ml-1vc水溶液,65℃水浴處理10分鐘,從而在基底上生成一層rgo薄膜,干燥處理;
6)將薄膜從基底上剝落,從而制得柔性的自支撐結(jié)構(gòu)的電極。
將制成的電極、鉑片與甘汞電極分別作為工作電極、對電極與參比電極,以0.50m的na2so4水溶液為電解質(zhì)溶液,采用恒流充放電系統(tǒng)進(jìn)行電容測量。測試中,恒流充電電流和恒流放電電流皆為0.05ma,電壓窗口設(shè)為0~0.80v。
經(jīng)多次測試得到,經(jīng)旋涂第一前驅(qū)溶液的電極的面積比電容為0.13f·cm-2,而經(jīng)旋涂第二前驅(qū)溶液的電極的面積比電容為0.44f·cm-2,后者比前者的面積比電容增加了248.43%。
由此說明,本發(fā)明中,前驅(qū)溶液中的銅鹽極大的提升了超級電容器電極的面積比電容。
實施例六
一種具有柔性自支撐結(jié)構(gòu)電極的制備方法,具體包括以下步驟:
1)以高純度鈦片為基底,用砂紙打磨鈦片基底以去除其表面油漬和雜質(zhì),然后,依次用丙酮、乙醇、去離子水超聲清洗15分鐘,干燥處理;
2)取兩片厚度均為0.20mm、面積均為15mm×20mm的鈦片基底,臭氧處理30分鐘,然后將其平放在裝有3.00ml濃度為0.20mg·ml-1go水溶液的燒杯底部,將燒杯置于65℃水浴中,使溶液蒸發(fā),形成一層go薄膜;
3)向燒杯中加入2.00ml8.00mg·ml-1vc水溶液,繼續(xù)在65℃水浴中,使溶液蒸發(fā),從而在鈦片基底上制得一層rgo薄膜;
4)配制第一前驅(qū)水溶液,其含有0.10mfecl3、1.00mniso4、5.00mmsds;配制第二前驅(qū)水溶液,其含有0.10mfecl3、1.00mniso4、5.00mmsds、1.20mcuso4;對兩片基底均臭氧處理30分鐘,對一片基底旋涂第一前驅(qū)溶液,另一片旋涂第二前驅(qū)溶液,然后將基底置于酒精燈火焰中,燃燒約5分鐘,從而在rgo薄膜上生成一層納米碳薄膜;
5)對由4)處理過的基底臭氧處理30分鐘,將其平放在裝有3.00ml0.05mg·ml-1go水溶液的燒杯底部,將燒杯轉(zhuǎn)移到65℃水浴環(huán)境中,使溶液蒸發(fā),形成一層go薄膜,待自然干燥后,加入2.00ml16.00mg·ml-1vc水溶液,65℃水浴處理10分鐘,從而在基底上生成一層rgo薄膜,干燥處理;
6)將薄膜從基底上剝落,從而制得柔性的自支撐結(jié)構(gòu)的電極。
將制成的電極、鉑片與甘汞電極分別作為工作電極、對電極與參比電極,以0.50m的na2so4水溶液為電解質(zhì)溶液,采用恒流充放電系統(tǒng)進(jìn)行電容測量。測試中,恒流充電電流和恒流放電電流皆為0.05ma,電壓窗口設(shè)為0~0.80v。
經(jīng)多次測試得到,經(jīng)旋涂第一前驅(qū)溶液的電極的面積比電容為0.19f·cm-2,而經(jīng)旋涂第二前驅(qū)溶液的電極的面積比電容為0.33f·cm-2,后者比前者的面積比電容增加了80.68%。
由此說明,本發(fā)明中,前驅(qū)溶液中的銅鹽極大的提升了超級電容器電極的面積比電容。
本發(fā)明提出了一種具有獨特三明治結(jié)構(gòu)的柔性自支撐電極,其上下層均為rgo層,中間為納米碳層。在制備過程中,上下層采用簡單的溶液蒸發(fā)的方式制得,中間層采用燃燒法制得,制備方法簡單。中間層的制備方法獨特,采用過渡金屬鹽、銅鹽、表面活性劑為前驅(qū)物。此外,這種制備方法使得納米碳形成了獨特的螺旋狀結(jié)構(gòu),這種結(jié)構(gòu)不僅提高了電荷的存儲能力,而且增加了電極整體的循環(huán)穩(wěn)定性。采用這種方法制得的電極應(yīng)用于超級電容器時,其面積比電容最高為1.06f·cm-2。
以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例而已,并不用以限制本發(fā)明,凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換或改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。