1.一種有機電致發(fā)光顯示裝置的制作方法，其特征在于，包括：
提供下支撐基板和上支撐基板；
在下支撐基板上依次制作下柔性基板和有機電致發(fā)光器件層，且在上支撐基板上依次制作上柔性基板和粘合層；
對位下支撐基板和上支撐基板，以使粘合層與有機電致發(fā)光器件層粘合；
剝離下支撐基板和上支撐基板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作方法，其特征在于，在下支撐基板上制作下柔性基板的方法包括：利用涂布工藝在下支撐基板上涂覆柔性材料，并對所述柔性材料進(jìn)行固化，或者將已制作完成的下柔性基板通過粘附劑貼附在下支撐基板上；
在上支撐基板上制作上柔性基板的方法包括：利用涂布工藝在上支撐基板上涂覆柔性材料，并對所述柔性材料進(jìn)行固化，或者將已制作完成的上柔性基板通過粘附劑貼附在上支撐基板上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的制作方法，其特征在于，剝離下支撐基板的方法包括：在下柔性基板與下支撐基板之間設(shè)置離型膜層，以使下支撐基板和下柔性基板自動分離，或者利用準(zhǔn)分子鐳射使下支撐基板和下柔性基板分離；
剝離上支撐基板的方法包括：在上柔性基板與上支撐基板之間設(shè)置離型膜層，以使上支撐基板和上柔性基板自動分離，或者利用準(zhǔn)分子鐳射使上支撐基板和上柔性基板分離。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作方法，其特征在于，在上柔性基板上制作粘合層之前，所述制作方法還包括：在上柔性基板上制作鈍化層，所述鈍化層用于提高所述上柔性基板的水氧阻隔能力。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作方法，其特征在于，在下支撐基板上制作下柔性基板之前，所述制作方法還包括：在下柔性基板上制作光提取層，所述光提取層用于提高所述下柔性基板的水氧阻隔能力且能夠提高光透過率。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制作方法，其特征在于，在離型膜層上設(shè)置下柔性基板之前，所述制作方法還包括：在離型膜層上制作光提取層，所述光提取層用于提高所述下柔性基板的水氧阻隔能力且能夠提高光透過率。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制作方法，其特征在于，所述離型膜層的制作材料為感光光阻或有機硅。
8.根據(jù)權(quán)利要求3或6所述的制作方法，其特征在于，所述光提取層的制作材料為二氧化鈦。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述粘結(jié)層的制作材料為紫外光固化膠。
10.一種由權(quán)利要求1至9中任一項所述的制作方法制作的有機電致發(fā)光顯示裝置。