1.一種薄膜晶體管，包括：
襯底基板；以及
設(shè)置于所述襯底基板上的柵電極、柵絕緣層、有源層、和源漏電極層，所述源漏電極層包括源電極和漏電極，
其中所述薄膜晶體管還包括設(shè)置在所述有源層周圍的擋光層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜晶體管，其中，
所述擋光層與所述源漏電極層同層且同材料設(shè)置；或者
所述擋光層與所述有源層同層且同材料設(shè)置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的薄膜晶體管，其中，所述擋光層與所述源電極和所述漏電極中的一個連接，且與所述源電極和所述漏電極中的一個間隔開。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的薄膜晶體管，其中，在所述擋光層與所述有源層同層設(shè)置的情形下，所述擋光層與所述有源層間隔開。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜晶體管，其中，所述擋光層包括絕緣材料。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一所述的薄膜晶體管，其中，
所述擋光層的遠離所述襯底基板的表面至所述襯底基板的距離大于或等于所述有源層的遠離所述襯底基板的表面至所述襯底基板的距離；和/或
所述擋光層的靠近所述襯底基板的表面至所述襯底基板的距離小于或等于所述有源層的靠近所述襯底基板的表面至所述襯底基板的距離。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項所述的薄膜晶體管，其中，所述擋光層包括多個彼此分離的分部，該多個分部設(shè)置為在平行于所述襯底基板的方向上所述有源層被所述擋光層遮擋。
8.一種陣列基板，包括權(quán)利要求1-7任一所述的薄膜晶體管。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的陣列基板，還包括多條柵線和多條數(shù)據(jù)線，其中，
所述多條柵線和所述多條數(shù)據(jù)線彼此交叉以限定多個子像素區(qū)域，每個所述子像素區(qū)域包括所述薄膜晶體管和像素電極，所述薄膜晶體管的所述柵電極與對應(yīng)的所述柵線電連接，所述源電極與對應(yīng)的所述數(shù)據(jù)線電連接，且所述漏電極與所述像素電極電連接；并且
每個所述子像素區(qū)域包括顯示區(qū)域和非顯示區(qū)域，所述擋光層位于每個所述子像素區(qū)域的所述非顯示區(qū)域。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的陣列基板，其中，所述擋光層的一端與所述數(shù)據(jù)線連接，另一端與所述漏電極間隔開。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的陣列基板，其中，所述擋光層設(shè)置在所述薄膜晶體管周圍。
12.一種顯示面板，包括權(quán)利要求8-11任一所述的陣列基板和與所述陣列基板對盒設(shè)置的對置基板。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的顯示面板，其中，所述對置基板和所述陣列基板之間設(shè)置有隔墊物，所述隔墊物與所述陣列基板上的薄膜晶體管在垂直于所述陣列基板的方向上相對設(shè)置，并且所述隔墊物包括遮光材料。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的顯示面板，其中，所述遮光材料包括炭黑和/或黑色樹脂。
15.一種薄膜晶體管的制備方法，包括：
提供襯底基板；以及
在所述襯底基板上形成柵電極、柵絕緣層、有源層和源漏電極層，所述源漏電極層包括源電極和漏電極，
其中所述方法還包括在所述有源層周圍形成擋光層。