1.一種顯示面板，其特征在于，包括柔性基板，所述柔性基板包括顯示區(qū)和非顯示區(qū)，所述柔性基板的非顯示區(qū)設(shè)置有至少一個(gè)焊盤，所述焊盤包括：
焊盤本體，位于所述柔性基板上；
焊盤墊高層，位于所述焊盤本體遠(yuǎn)離所述柔性基板一側(cè)的表面上；
焊盤導(dǎo)電層，覆蓋所述焊盤墊高層的表面，并與所述焊盤本體電接觸；
焊盤保護(hù)層；
其中，若所述焊盤導(dǎo)電層未覆蓋所述焊盤本體的端部，則所述焊盤保護(hù)層至少覆蓋所述焊盤本體的端部；
若所述焊盤導(dǎo)電層覆蓋所述焊盤本體的端部，則所述焊盤保護(hù)層覆蓋所述焊盤導(dǎo)電層的端部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，若所述焊盤導(dǎo)電層未覆蓋所述焊盤本體的端部，則所述焊盤保護(hù)層同時(shí)覆蓋所述焊盤本體的端部以及所述焊盤導(dǎo)電層的端部。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述焊盤導(dǎo)電層距所述柔性基板最遠(yuǎn)的表面不低于所述焊盤保護(hù)層遠(yuǎn)離所述柔性基板一側(cè)的表面，或低于所述焊盤保護(hù)層遠(yuǎn)離所述柔性基板一側(cè)的表面且低于的值不超過0.1μm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述焊盤墊高層的厚度為0.1-10μm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述焊盤導(dǎo)電層的厚度為10nm-1μm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述焊盤保護(hù)層的厚度為0.1-10μm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述焊盤墊高層包括有機(jī)層和/或無機(jī)層。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述顯示區(qū)包括多個(gè)薄膜晶體管，覆蓋所述薄膜晶體管的平坦化層，位于所述平坦化層遠(yuǎn)離所述薄膜晶體管一側(cè)的多個(gè)像素單元，以及用于界定所述像素單元的像素定義層；所述薄膜晶體管包括柵極，以及同層設(shè)置的源極和漏極，以及位于所述柵極和漏極之間的層間絕緣層，所述像素單元包括陽極和陰極，所述陽極通過過孔與所述漏極電連接。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示面板，其特征在于，所述焊盤本體與所述柵極采用同一工藝同時(shí)制備，所述焊盤導(dǎo)電層與位于所述柵極上方的漏極、陽極和陰極中的任一層采用同一工藝同時(shí)制備。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示面板，其特征在于，所述焊盤本體與所述漏極采用同一工藝同時(shí)制備，所述焊盤導(dǎo)電層與位于所述柵極上方的陽極或陰極采用同一工藝同時(shí)制備。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯示面板，其特征在于，所述焊盤墊高層與所述層間絕緣層采用同一工藝同時(shí)制備。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的顯示面板，其特征在于，所述焊盤墊高層與所述平坦化層采用同一工藝同時(shí)制備。
13.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示面板，其特征在于，所述焊盤本體與所述陰極和所述陽極中位于下方的電極采用同一工藝同時(shí)制備，所述焊盤導(dǎo)電層與所述陽極和陰極中位于上方的電極采用同一工藝同時(shí)制備。
14.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示面板，其特征在于，所述焊盤保護(hù)層與所述像素定義層采用同一工藝同時(shí)制備。
15.一種顯示面板的制備方法，其特征在于，包括：
提供一柔性基板，所述柔性基板包括顯示區(qū)和非顯示區(qū)；
在所述柔性基板的非顯示區(qū)形成至少一焊盤本體；
在所述焊盤本體遠(yuǎn)離所述柔性基板一側(cè)的表面上形成焊盤墊高層；
在所述焊盤墊高層的表面覆蓋焊盤導(dǎo)電層，且所述焊盤導(dǎo)電層與所述焊盤本體電接觸；
在所述焊盤導(dǎo)電層未覆蓋所述焊盤本體的端部時(shí)，在至少所述焊盤本體的端部覆蓋焊盤保護(hù)層；或者，
在所述焊盤導(dǎo)電層覆蓋所述焊盤本體的端部時(shí)，在所述焊盤導(dǎo)電層的端部覆蓋焊盤保護(hù)層。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，包括：
在所述顯示區(qū)設(shè)置多個(gè)薄膜晶體管；
在所述薄膜晶體管上覆蓋平坦化層；
在所述平坦化層遠(yuǎn)離所述薄膜晶體管一側(cè)設(shè)置多個(gè)像素單元；
在所述像素單元周邊設(shè)置用于界定所述像素單元的像素定義層；
其中，所述薄膜晶體管包括柵極，以及同層設(shè)置的源極和漏極，以及設(shè)置于所述柵極和源極/漏極之間的層間絕緣層，所述像素單元包括陽極和陰極，所述陽極通過過孔與所述漏極電連接。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，采用同一工藝制備所述焊盤本體與所述柵極，并采用同一工藝制備所述焊盤導(dǎo)電層與位于所述柵極上方的漏極、陽極和陰極中的任一層。
18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，采用同一工藝制備所述焊盤本體與所述漏極，并采用同一工藝制備所述焊盤導(dǎo)電層與位于所述柵極上方的陽極或陰極。
19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，采用同一工藝制備所述焊盤墊高層與所述層間絕緣層。
20.根據(jù)權(quán)利要求18所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，采用同一工藝制備所述焊盤墊高層與所述平坦化層。
21.根據(jù)權(quán)利要求16所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，采用同一工藝制備所述焊盤本體與所述陰極和所述陽極中位于下方的電極，并采用同一工藝制備所述焊盤導(dǎo)電層與所述陽極和陰極中位于上方的電極。
22.根據(jù)權(quán)利要求16所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，采用同一工藝制備所述焊盤保護(hù)層與所述像素定義層。