相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用本申請(qǐng)要求于2015年1月22日提交的標(biāo)題為“玻耐腐蝕磁性制品”的美國申請(qǐng)序列第14/603,027號(hào)的權(quán)益，該美國申請(qǐng)的內(nèi)容通過參考結(jié)合于本文。發(fā)明領(lǐng)域本發(fā)明涉及經(jīng)涂敷的磁性制品。技術(shù)背景美國專利申請(qǐng)公開號(hào)us2013/0345646a1(伯特蘭等人)描述了一種可植入生理分流系統(tǒng)，該系統(tǒng)在外部調(diào)節(jié)工具和內(nèi)部磁轉(zhuǎn)子組件之間采用磁耦合。分流系統(tǒng)可以包括鎖定特征，以避免當(dāng)分流器曝露于強(qiáng)外部磁場(chǎng)中時(shí)無意識(shí)的設(shè)定變化。當(dāng)用于控制腦積水病人腦室的腦脊液(csf)流動(dòng)的分流器在磁共振成像(mri)期間曝露于外部磁場(chǎng)時(shí)，該特征特別重要。然而，如果設(shè)定分流器鎖，則還可以防止內(nèi)部磁體與外部磁場(chǎng)對(duì)齊，而在足夠強(qiáng)的外部磁場(chǎng)中內(nèi)部磁體可以變得消磁或反轉(zhuǎn)磁化。如果發(fā)生了此種情況，那么可能需要進(jìn)行分流器的外科替換。例如，在某些mri掃描儀中產(chǎn)生高達(dá)3特斯拉的外部磁場(chǎng)。該強(qiáng)度的磁場(chǎng)能夠?qū)︶熲?smco)磁性材料進(jìn)行消磁或反轉(zhuǎn)磁化。ndfeb(釹)稀土永磁體具有足夠高的矯頑磁性(hci)以在該磁場(chǎng)中抵抗消磁或反轉(zhuǎn)磁化，但是其具有非常差的耐腐蝕性。磁性強(qiáng)度的損失通常與由腐蝕引起的質(zhì)量損失成正比。ndfeb磁體通常通過施加保護(hù)涂層例如鍍層(例如鎳鍍層、或銅和鎳鍍層)、粉末涂層或涂料。然而，當(dāng)該保護(hù)性涂敷的ndfeb磁體浸沒在鹽水溶液中時(shí)，在某些情況下保護(hù)性涂層會(huì)在開始曝露后24小時(shí)內(nèi)破裂。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：所公開的發(fā)明一方面提供一種含有ndfeb磁體的磁性制品，在所述ndfeb磁體上具有基本連續(xù)的耐腐蝕屏障，所述耐腐蝕屏障含有氟化聚對(duì)二甲苯保形涂層，所述保形涂層被熱塑性聚砜覆蓋層覆蓋。所公開的發(fā)明另一方面提供了一種包含ndfeb磁體的磁性制品，在所述磁體上具有基本連續(xù)的耐腐蝕屏障，所述耐腐蝕屏障包含熔點(diǎn)至少約430℃且在90％rh和37℃下的濕氣滲透率低于約0.5克-毫米/平方米/天的聚對(duì)二甲苯保形涂層，所述聚對(duì)二甲苯保形涂層被熱塑性聚砜覆蓋層覆蓋。在另一方面，所公開的發(fā)明還提供了一種用于制造經(jīng)涂覆的磁性制品的方法，所述方法包括：在ndfeb磁體上氣相沉積一層或多層氟化聚對(duì)二甲苯保形涂層，并將熔融的聚砜施加在所述聚對(duì)二甲苯保形涂層上，以在磁體上提供基本連續(xù)的耐腐蝕屏障。在另一方面，所公開的發(fā)明還提供一種用于制造經(jīng)涂覆的磁性制品的方法，所述方法包括：在ndfeb磁體上氣相沉積一層或多層熔點(diǎn)至少約430℃且在90％rh和37℃下的濕氣滲透率低于約0.5克-毫米/平方米/天的聚對(duì)二甲苯保形涂層，并將熔融的聚砜施加在聚對(duì)二甲苯保形涂層上，以在磁體上提供基本連續(xù)的耐腐蝕屏障。在另一方面中，所公開的發(fā)明提供包括經(jīng)涂覆的磁性制品的可植入醫(yī)療裝置，所述磁性制品包含ndfeb磁體，在所述磁體上具有基本連續(xù)的耐腐蝕屏障，所述耐腐蝕屏障含有氟化聚對(duì)二甲苯保形涂層，所述保形涂層被熱塑性聚砜覆蓋層覆蓋。在另一方面，所公開的發(fā)明還提供了一種包括經(jīng)涂覆的磁性制品的可植入醫(yī)療裝置，所述磁性制品包含ndfeb磁體，在所述磁體上具有基本連續(xù)的耐腐蝕屏障，所述耐腐蝕屏障包含熔點(diǎn)至少約430℃且在90％rh和37℃下的濕氣滲透率低于約0.5克-毫米/平方米/天的聚對(duì)二甲苯保形涂層，所述保形涂層被熱塑性聚砜覆蓋層覆蓋。附圖簡要說明圖1是用聚(四氟對(duì)二甲苯)保形涂層涂敷的ndfeb磁體的截面?zhèn)纫晥D；圖2是用熱塑性聚砜覆蓋層覆蓋的圖1的磁體的截面?zhèn)纫晥D；圖3a是部分封裝的ndfeb磁體的截面?zhèn)纫晥D，所述磁體的未封裝表面用聚(四氟對(duì)二甲苯)保形涂層涂敷；圖3b是具有熱塑性聚砜覆蓋層的圖3a的磁體的截面?zhèn)纫晥D；圖4a是部分封裝的ndfeb磁體的截面?zhèn)纫晥D，所述磁體用聚(四氟對(duì)二甲苯)保形涂層部分涂敷；圖4b是進(jìn)一步具有聚(四氟對(duì)二甲苯)保形涂層和熱塑性聚砜覆蓋層的圖4a的磁體的截面?zhèn)纫晥D；圖5是部分以虛影表示的用聚(四氟對(duì)二甲苯)保形涂層涂敷的ndfeb環(huán)形磁體的透視圖；以及圖6是部分以虛影表示的用熱塑性聚砜覆蓋層覆蓋的圖5的磁體的透視圖。附圖中不同附圖里的相同附圖標(biāo)記表示相同的元件。附圖中的各個(gè)元件并未按比例繪制。詳述以下詳細(xì)說明描述了某些實(shí)施方式，而不被認(rèn)為是限制性的。如下所示術(shù)語具有下述含義：使用端點(diǎn)描述數(shù)字范圍包括該范圍內(nèi)包含的所有數(shù)字(例如，1-5包括1、1.5、2、2.75、3、3.80、4、5等)。術(shù)語“一個(gè)”、“一種”、“該”、“至少一個(gè)(種)”以及“一個(gè)“(種)或多個(gè)(種)”可以互換使用。因此，例如，用“一”層涂敷的制品表示制品可以用“一層或多層”的層進(jìn)行涂敷。當(dāng)方向的術(shù)語“頂部”、“在……之上”、“最頂部”、“在……之下/下層”等在本文中使用涉及了在所公開經(jīng)涂敷制品中的各種不同元件，它們表示一個(gè)元件相對(duì)水平設(shè)置、面朝上的基材或該元件支承件的相對(duì)位置。其并不意味著所公開的經(jīng)涂敷制品應(yīng)當(dāng)在其制造期間或在其制造之后在空間上具有任何特定的取向。術(shù)語“屏障”是指阻礙氣體(例如，氧氣、空氣、或水蒸氣)、液體(例如，水)、或離子(例如，鈉離子或氯離子)傳輸?shù)交幕蛑С屑畠?nèi)或之外的一層或多層材料。術(shù)語“涂層”是指覆蓋至少部分支承件或基材的薄(例如，小于0.5mm平均厚度)層。術(shù)語“冷凝”是指在支承件或基材上收集液態(tài)或固態(tài)形態(tài)的氣相材料。當(dāng)相對(duì)于在ndfeb磁體上的屏障使用時(shí)，術(shù)語“耐腐蝕”是指磁體在37℃生理鹽水溶液中浸沒2天后并未呈現(xiàn)出可見的腐蝕。當(dāng)相對(duì)于在基材或支承體上的涂層使用時(shí)，術(shù)語“保形”是指涂層具有與下方的基材或支承體形貌相同的形狀，所述形貌包括一些特征，例如裂隙、點(diǎn)和邊緣。當(dāng)相對(duì)于基材或支承體上的屏障、涂層、覆蓋層、或覆蓋模制層(overmolding)使用時(shí)，術(shù)語“連續(xù)”是指該屏障、涂層、覆蓋層、或覆蓋模制層覆蓋了下方的基材或支承件而在覆蓋中沒有將會(huì)直接將基材或支承件曝露于外部氣體(例如，環(huán)境空氣)或外部流體(例如，在可植入醫(yī)療裝置的情況下，為體液)的可測(cè)量的間隙、裂縫、針孔或其它不連續(xù)結(jié)構(gòu)。術(shù)語“基本連續(xù)”是指屏障、涂層、覆蓋層、覆蓋模制層覆蓋了下方的基材或支承件，而在覆蓋中沒有肉眼可見的間隙、裂縫、或其它不連續(xù)結(jié)構(gòu)。術(shù)語“二聚體”是指兩個(gè)單體組合的低聚物。術(shù)語“氣密”是指在所公開磁性制品的典型預(yù)計(jì)使用壽命中，對(duì)于引發(fā)腐蝕的量的氣體(例如，氧氣，空氣或水蒸氣)以及流體(例如，水)的傳輸基本不可滲透的材料。術(shù)語“磁體”是指體積為至少1mm3且具有磁性或可磁化性能的制品。術(shù)語“單體”是指能夠與其本身或與其它單體或低聚物結(jié)合以形成其它低聚物或聚合物的單個(gè)單元的分子。術(shù)語“低聚物”是指2個(gè)或更多個(gè)(并且，典型地是2、3、或4、至多約6個(gè))單體(但是還不足以大到成為聚合物)組合的化合物。術(shù)語“覆蓋層”是指在基材或支承件頂部的薄(例如，小于0.5mm的平均厚度)層材料或厚(例如，大于0.5mm的平均厚度)層材料。該層可以使用熱塑性材料，通過將熱塑性材料例如熔融并浸涂、熔融并噴涂、或熔融并注塑在支承體或基材上而形成。覆蓋層可以通過保形涂層例如如上所述的聚(四氟對(duì)二甲苯)保形涂層、以及通過在保形涂層之上或之下的一層或多層可選的額外層，與基材或支承體分離。覆蓋層可以具有恒定厚度或具有可變厚度。如果存在，可變厚度可以產(chǎn)生于凹陷低于支承體或載體平均厚度或凸起超過支承體或載體平均厚度的支承體或基材中的一個(gè)或多個(gè)特征、或者產(chǎn)生自凹陷低于覆蓋層平均厚度或凸起超過覆蓋層平均厚度的覆蓋層中的一個(gè)或多個(gè)特征。示例性的該特征可以包括：槽、凹口、定位器、狹縫、嵌入榫、突出部、擋塊、階梯、密封表面、樞軸點(diǎn)、軸、支承面、顯示方向(例如，流體流動(dòng)或磁化方向)的指示器、彈簧固定套環(huán)、閥門、閥門驅(qū)動(dòng)器以及其他的凹陷或凸起。術(shù)語“覆蓋模制層”是指通過注塑制造的覆蓋層。術(shù)語“聚合物”是指具有數(shù)個(gè)有規(guī)或無規(guī)排列的含碳單體或低聚物重復(fù)單元的有機(jī)分子。術(shù)語“優(yōu)選”和“優(yōu)選地”是指能夠在特定條件下可以產(chǎn)生某些益處的本發(fā)明的實(shí)施方式。然而，在相同條件或其它條件下，其它實(shí)施方式也可以是優(yōu)選的。此外，一個(gè)或多個(gè)優(yōu)選實(shí)施方式的描述并不意味著其它實(shí)施方式是不可用的，并且不旨在將其他實(shí)施方式排除在本發(fā)明公開的范圍之外。圖1是自立式的ndfeb磁體100的截面?zhèn)纫晥D。磁體100用作其上可以形成上述保形涂層的基材或支承體，如圖1所示的保形涂層為聚(四氟對(duì)二甲苯)層102和104。為了說明的目的，層102和104以夸大的厚度顯示。層102和104可以具有相同或不同的平均厚度，并且可以是例如，各自為至少約1微米厚、至少約2微米厚、至少約5微米厚、至少約10微米厚、或至少約20微米厚，并且可以是例如小于約100微米厚、小于約80微米厚、小于約60微米厚、小于約50微米厚、或小于約40微米厚。在層102的一些部分中的小的不連續(xù)結(jié)構(gòu)106、108和在層104的一些部分中的小的不連續(xù)結(jié)構(gòu)110、112是產(chǎn)生于層102和104形成期間與對(duì)磁體100進(jìn)行支撐的夾持固定裝置(未在圖1中顯示)接觸的人工結(jié)構(gòu)。在形成各自層之前需要采用不同的固定裝置和/或不同的夾持位置，以確保不連續(xù)結(jié)構(gòu)106、108、110、和112各自僅限制在層102或104的小部分中而沒有重疊，以確保連續(xù)保形涂層的整體形成。圖2是圖1的磁體100的截面?zhèn)纫晥D，其中層104用熱塑性聚砜覆蓋層114覆蓋。覆蓋層114的平均厚度優(yōu)選至少數(shù)倍(例如，至少2倍、至少3倍、至少5倍、或至少10倍以上)于層102和104的總厚度。如圖2所示，覆蓋層114包括特征116和118，所述特征116和118分別表示低于覆蓋層110平均層厚的凹陷和超出覆蓋層110平均層厚的凸起。圖3a和3b是所公開磁性制品的另一實(shí)施方式的截面?zhèn)纫晥D。如圖3a所示，ndfeb磁體300用封裝材料302進(jìn)行部分封裝。封裝材料302可以由各種非磁性材料(例如，鋅、鋁或各種可硬化有機(jī)封裝化合物)形成。封裝材料302優(yōu)選足夠厚，并且由具有以下特性的材料制成：該材料適用于通過與封裝材料302接觸而提供相對(duì)于磁體300一些部分的氣密結(jié)構(gòu)。此外，在封裝材料302中磁體300的封裝優(yōu)選不會(huì)過度影響磁體300的磁性或可磁化性能。未封裝磁體表面304、306、和308以及封裝材料302的上表面310用聚(四氟對(duì)二甲苯)保形涂層的層312涂敷。在施加保形涂層312期間，磁體300可以通過例如夾持封裝材料302進(jìn)行固定，因此，施加單獨(dú)層的涂層312可以在所曝露的部分磁體300上提供連續(xù)涂層。如果需要，封裝化合物302的部分或全部暴露上表面可以在施加涂層材料312之前用將會(huì)在隨后加工前去除的掩模進(jìn)行遮蔽。在另一實(shí)施方式中，在施加涂層材料312之后從封裝化合物302的部分或全部的曝露上表面上去除過量的涂層材料312(例如，使用溶劑、磨料、或本領(lǐng)域技術(shù)人員熟知的其它技術(shù))。如圖3a所示，沒有施加掩模，并且沒有去除涂層材料312，因此層312的一些部分朝著離開磁體300的方向延伸，并位于封裝化合物302的頂部。如圖3b所示，層312用熱塑性聚砜覆蓋層314進(jìn)行覆蓋。如圖3b所示，覆蓋層314包括特征316和318，所述特征316和318分別表示低于覆蓋層314平均厚度的凹陷和超出覆蓋層314平均厚度的凸起。圖4a和圖4b是所公開磁性制品的另一實(shí)施方式的截面?zhèn)纫晥D。如圖4a所示，ndfeb磁體400用聚(四氟對(duì)二甲苯)保形涂層的層401部分覆蓋。磁體400的未涂覆部分是產(chǎn)生于層401形成期間夾持固定裝置(未在圖4a中顯示)與被支撐的磁體400的接觸的人工結(jié)構(gòu)(artifact)。封裝材料402與層401的浸沒部分接觸。封裝材料402可以由各種非磁性材料(例如，鋅、鋁或各種可硬化有機(jī)封裝化合物)形成，并優(yōu)先由聚砜(例如，模塑)形成。如圖4b所示，在圖4a中曝露的ndfeb磁體400和層401的一些部分用額外的聚(四氟對(duì)二甲苯)保形涂層的層401覆蓋。如圖4b所示，封裝材料402和層404用熱塑性聚砜覆蓋層406進(jìn)行覆蓋。將掩模(未在圖4b中顯示)用于限制層404的延伸，并防止層404覆蓋在圖4a中曝露的封裝材料402的一些部分?？梢圆捎酶鞣N遮蔽技術(shù)，并可以仔細(xì)地提供如下實(shí)施方式：其中層401和404合并以提供層厚明顯均勻的單獨(dú)層。界限408表示在封裝材料402和覆蓋層406之間的接觸區(qū)域。當(dāng)封裝材料402和覆蓋層406都是由聚砜制成時(shí)，界限408優(yōu)選由于封裝材料402的一部分熔融并在覆蓋層406形成時(shí)與覆蓋層406合并而不可識(shí)別。如圖4b所示，覆蓋層406包括特征410和412，所述特征410和412分別表示低于覆蓋層406平均層厚的凹陷和超出覆蓋層406平均層厚的凸起。圖5和圖6是部分為虛線的所公開磁性制品的另一實(shí)施方式的透視圖。如圖5所示，ndfeb環(huán)形磁體500用聚(四氟對(duì)二甲苯)保形涂層502進(jìn)行涂敷。磁體500包括中心孔504和凹口(notch)506。箭頭508表示磁體500的磁化方向。如圖6所示，圖5的磁體500用熱塑性聚砜覆蓋層610進(jìn)行覆蓋。如圖6所示，覆蓋層601包括通過磁體中心的孔612、在磁體500剩余部分上方凸起的彈簧固定套環(huán)(springretainingcollar)614、以及在磁體500剩余部分下方凸起的閥門驅(qū)動(dòng)突出部(tab)616。各種ndfeb磁體可以用于制造所公開的磁性制品以及可植入醫(yī)療裝置。磁體可以是例如通過對(duì)所選ndfeb合金進(jìn)行模塑或機(jī)械加工制成的整體式、均質(zhì)固體制品。作為替代，磁體也可以是例如通過將所選ndfeb合金的顆粒燒結(jié)在一起或通過在合適的粘結(jié)劑中模塑該顆粒而制造的非均質(zhì)制品。在一些實(shí)施方式中，可以優(yōu)選固體磁體，以使得其磁性強(qiáng)度最大化。磁體可以具有各種尺寸，例如可以具有至少2mm3、至少5mm3、至少10mm3、或至少25mm3的體積。磁體可以具有各種磁性能，例如可以具有至少28百萬高斯奧斯特(mgoe)、至少30百萬高斯奧斯特、至少32百萬高斯奧斯特、或至少35百萬高斯奧斯特的磁性強(qiáng)度(最大磁能積或bh最大)。作為附加或者替代，磁體還可以具有至少10千奧斯特(koe)、至少14千奧斯特、至少20千奧斯特、至少25千奧斯特、或至少30千奧斯特、或至少35千奧斯特的內(nèi)稟矯頑力(hci)。作為附加或者替代，磁體還可以具有至少300℃、至少310℃、至少320℃、或至少330℃的居里溫度(tc)。在一些實(shí)施方式中，可以優(yōu)選至少25、至少30、或至少35的hci值，以降低由于外部施加的磁場(chǎng)例如mri磁場(chǎng)導(dǎo)致的消磁可能性。在包括由厚注塑聚砜覆蓋層覆蓋的較小體積磁體的一些實(shí)施方式，可以優(yōu)選至少310℃、至少320℃、或至少330℃的tc值，以降低覆蓋層形成步驟期間的消磁可能性。如果需要，磁體可以在處理(例如，為了易于機(jī)械加工、或因?yàn)樵诖朋w處理期間施加熱導(dǎo)致的結(jié)果)期間可以消磁，并且在稍后的時(shí)間(例如在保形涂層或覆蓋層形成步驟之前、之間或之后)進(jìn)行重新磁化。磁體可具有各種形狀，包括球形、棒狀、桿狀(例如圓柱體)、環(huán)狀、部分環(huán)狀(例如馬蹄形)、和板狀(例如矩形)。磁體可以具有主平面表面或主軸，其磁化極性相對(duì)主平面表面或主軸平行或成一定角度。示例性的磁性材料的供應(yīng)商包括：聯(lián)盟有限責(zé)任公司(alliance,llc)、德科斯特磁體(dextermagnetics)、麥葛斯特技術(shù)公司(magstartechnologies,inc.,)、日立公司(hitachicorporation)、迪麥格電機(jī)(寧波)有限公司(dailymagmotor(ningbo)limited)、寧波鑫豐磁業(yè)有限公司(ningboxinfengmagnetindustryco.,ltd.,)、深圳非亞磁鐵有限公司(shenzhenfeiyamagnetco.,ltd)、余姚科力磁有限公司(yuyaokeylimagneticsco.,ltd)。所公開的磁性裝置可以采用各種保形涂層。在一些實(shí)施方式中，聚對(duì)二甲苯進(jìn)行氟化，例如，在芳族環(huán)上具有氟原子(即，氟代芳族基團(tuán))、芳族環(huán)之間的氟代脂肪族基團(tuán)、或同時(shí)包括此兩者。在一些該實(shí)施方式中，芳族環(huán)、氟代脂肪族基團(tuán)、或這兩者是全氟化的，并因此不具有氫原子。合適的氟化聚對(duì)二甲苯保形涂層材料包括具有如下所示式i的聚(四氟對(duì)二甲苯)，其可以通用名聚對(duì)二甲苯af-4獲得：-[cf2c6h4cf2]n-i。示例性的市售可得的聚對(duì)二甲苯af-4材料包括：來自特種涂料系統(tǒng)公司的聚對(duì)二甲苯httm，據(jù)其制造商所說，其mp大于500℃、在100％的相對(duì)濕度(rh)和38℃下mvt為0.22。另一合適的聚對(duì)二甲苯af-4材料是來自吉世科保形涂料公司(kiscoconformalcoating,llc)的dixsftm，據(jù)其制造商所說，其mp為450℃、并且在37°下mvt為0.21。其它合適的具有如下所示式ii的氟化聚對(duì)二甲苯可以通用名聚對(duì)二甲苯vt-4獲得：-[ch2c6f4ch2]n-ii。在一些實(shí)施方式中，聚對(duì)二甲苯的熔點(diǎn)(mp)為至少約430℃、在90％rh和37℃下的濕氣滲透率小于約0.5克-毫米/平方米/天。如上所述的一些氟化聚對(duì)二甲苯也滿足該條件。在一些實(shí)施方式中，聚對(duì)二甲苯的mp為至少約450℃、至少約475℃、或至少約500℃。在一些實(shí)施方式中，作為附加或者替換，聚對(duì)二甲苯的在90％rh和37℃下的mvt還可以為小于約0.4克-毫米/平方米/天或小于約0.3克-毫米/平方米/天。合適的熔點(diǎn)為至少約430℃、在90％rh和37℃下的濕氣滲透率小于約0.5克-毫米/平方米/天的聚對(duì)二甲苯包括來自吉世科保形涂料公司(kiscoconformalcoating,llc)的dixcftm聚對(duì)二甲苯，據(jù)其制造商所說，其mp為434℃的、并且在37°下mvt為0.28。。該聚對(duì)二甲苯也可以是氟化的聚對(duì)二甲苯，但是據(jù)其制造商所說，其具有專用配方且其結(jié)構(gòu)似乎并未公開。使用聚對(duì)二甲苯制造的涂層優(yōu)選評(píng)級(jí)為熱穩(wěn)定的，或者評(píng)級(jí)為適合用于在溫度至少200℃、至少250℃、或至少300℃的空氣中連續(xù)使用、或在溫度至少300℃、至少350℃、或至少400℃的無氧環(huán)境中連續(xù)使用。聚對(duì)二甲苯保形涂層典型地通過以下方式形成：使用蒸發(fā)器和熱解儀(pyrolizer)將固態(tài)的聚對(duì)二甲苯二聚體轉(zhuǎn)化為氣相聚對(duì)二甲苯自由基，并在合適的沉積室或涂敷室中將所述自由基沉積在曝露表面或ndfeb磁體的表面上。美國專利序列號(hào)4,508,760(奧爾森等人)、4,758,288(寫作‘288)和5,069,972(寫作‘972)中描述的保形涂層方法可以用于該目的，而需要注意的是，這些專利描述了聚對(duì)二甲苯沉積到微?；蛭⒛z囊上、而不是沉積在離散的磁體上，并且他們采用的非鹵化或氯化聚對(duì)二甲苯具有較低的熔點(diǎn)、并且具有低于如上所述聚對(duì)二甲苯的二聚體蒸發(fā)溫度。其它涂敷聚對(duì)二甲苯的方法如特種涂料系統(tǒng)公司2007年標(biāo)題為“scs聚對(duì)二甲苯性能”的技術(shù)報(bào)告和特種涂料系統(tǒng)公司2011年標(biāo)題為“scs醫(yī)療涂層”的技術(shù)報(bào)告所述。由此形成的一層或數(shù)層聚對(duì)二甲苯涂層厚度范圍可以為埃到微米或密耳，并且例如可以具有每一層涂層或每數(shù)層涂層約2～100μm的厚度。對(duì)于受到支撐或者以其它方式固定而沒有覆蓋任何待涂敷表面的磁體，所公開的磁性制品優(yōu)選具有至少一層保形涂層。對(duì)于需要支撐或覆蓋待涂敷表面一部分的其它固定裝置的磁體，所公開的磁性制品可具有至少兩層保形涂層，在施加第一涂層和施加隨后的一層或數(shù)層涂層之間對(duì)磁體進(jìn)行重新定位或重新固定，以確保完全覆蓋。表面預(yù)處理或底漆涂層(例如等離子蝕刻預(yù)處理或由溶液或通過氣相沉積施加有機(jī)硅烷底漆)可以在沉積聚對(duì)二甲苯保形涂層之前或在涂敷層之間使用。如果需要，聚對(duì)二甲苯保形涂層可以包括染料、指示劑或其它佐劑，例如，以便于檢測(cè)和確認(rèn)連續(xù)保形涂層的獲得。如果需要，聚對(duì)二甲苯保形涂層可以進(jìn)行退火(例如，對(duì)于聚對(duì)二甲苯af-4材料在約300℃退火)，以增加結(jié)晶度，由此改進(jìn)物理性能，例如耐切穿性能、硬度、或耐磨性。所公開的磁性裝置可以采用各種聚砜材料。示例性的聚砜包括：結(jié)晶或無定形材料，例如聚醚砜(pes、psu或pesu)、磺化聚醚砜(spes或spsf)、以及聚苯砜(ppsf或ppsu)。示例性的聚砜包括：購自索爾維塑料公司(solvayplastics)的udeltmpsu、veradeltmpesu和radeltmppsu、acudeltm改性ppsu和epispiretmhts高溫砜。對(duì)于某些實(shí)施方式，優(yōu)選低粘度到中粘度或高流動(dòng)速率到中流動(dòng)速率的注塑級(jí)，例如udelp-1700、udelp-1710、udelp-1750mr、udelp-3700hcpes、udelp-3703、verradel3250mr、veradel3300prem、veradel3400、veradela-301、radelr-5000、radelr-5100、radelr-5600、radelr-5800、radelr-5900、radelr-5900mr、radelr-7159、radelr-7300、radelr-7400、radelr-7535、radelr-7558和radelr-7625(都購自索爾維塑料公司(solvayplastics))。所公開的可植入醫(yī)療裝置優(yōu)選使用通過合適監(jiān)管機(jī)構(gòu)核準(zhǔn)用于在醫(yī)療裝置中使用的聚砜材料制造。聚砜覆蓋層可使用本領(lǐng)域技術(shù)人員熟知的各種技術(shù)形成，對(duì)于某些實(shí)施方式優(yōu)選使用一步法或多步(例如，兩步)法進(jìn)行注塑，對(duì)于其它實(shí)施方式，優(yōu)選浸涂、粉末涂敷、噴涂、或充分包封或者以其它方式覆蓋聚對(duì)二甲苯保形涂層的技術(shù)。聚砜覆蓋層可以具有各種平均厚度，并且例如可以具有至少0.5mm、至少1mm、至少2mm、或至少5mm的平均厚度。聚砜覆蓋層可以具有與在經(jīng)涂覆磁性制品中獲得足夠磁性強(qiáng)度相符的任何需要的最大平均厚度，并且可以是例如小于100mm、小于50mm、小于25mm、小于10mm、小于5mm或小于1mm。推薦的熔融溫度或模塑溫度典型地取決于包括如下的因素而改變：所選的磁性材料、所選的聚對(duì)二甲苯、所選的聚砜、以及(當(dāng)使用時(shí))所選的模具。聚砜可以在熔融或模塑之前進(jìn)行干燥，例如，以提供在干燥產(chǎn)品中小于約0.1％或小于約0.05％的含水量。聚砜的熔點(diǎn)或模塑溫度優(yōu)選低于聚對(duì)二甲苯的熔點(diǎn)，并且更優(yōu)選還小于磁體的居里溫度tc。高于tc的聚砜熔融溫度或模塑溫度會(huì)引起磁性強(qiáng)度的損失。然而，快速模塑循環(huán)、小體積覆蓋層或大體積磁體的使用可以減輕強(qiáng)度的損失。在覆蓋層形成之后可以采用重新磁化，以恢復(fù)磁性強(qiáng)度。例如，示例性聚砜干燥環(huán)境和熔融溫度或模塑溫度如2013年標(biāo)題為“注塑psu、ppsu、pesu、改性ppsu的快速指引”的索爾維技術(shù)報(bào)告中所述。所公開的屏障有助于降低磁體由于曝露到氣體(例如，氧氣、空氣、或水蒸氣)、液體(例如，水、血液或其它體液)、或離子(例如，鈉離子或氯離子)中的腐蝕。在一些實(shí)施方式中，所公開的經(jīng)涂敷磁性制品在37℃生理鹽水溶液中浸沒5天、10天、或20天后并未呈現(xiàn)出可見的腐蝕。所公開磁性制品的優(yōu)選實(shí)施方式同時(shí)保留了其全部磁性強(qiáng)度，并且在87℃生理鹽水溶液中浸沒5天、10天、20天或甚至28天后并未呈現(xiàn)出可見的腐蝕。與未浸沒磁性制品而制備的鹽水對(duì)照相比，在該浸沒后的鹽溶液電感耦合等離子(icp)質(zhì)譜分光光度分析優(yōu)選未發(fā)現(xiàn)可檢測(cè)的磁性元素。所公開的磁性制品可以是檢測(cè)器、驅(qū)動(dòng)器、閂鎖(latch)、指示器、或其它機(jī)械系統(tǒng)、電氣系統(tǒng)或其它系統(tǒng)的一部分。如果容納在較大的裝置之內(nèi)或之上，磁體可以是固定的或可在該裝置之內(nèi)或之上可移動(dòng)，并且如果可移動(dòng)，可以是可滑動(dòng)、可樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)(pivotable)的或可旋轉(zhuǎn)。磁體可以負(fù)載在裝置的一部分上、或者移動(dòng)裝置的另一部分。磁體可以是在該裝置之內(nèi)或之上的單個(gè)磁體或多個(gè)磁體。裝置可以是可植入醫(yī)療裝置，例如，在上述伯特蘭等人的申請(qǐng)中描述的可植入csf分流閥、尿道控制裝置(諸如美國專利號(hào)7,223,228b2(蒂姆等人)中所示)、可植入血液泵(諸如美國專利號(hào)8,512,013b2(拉羅斯等人)中所示)、起搏器、可植入藥物泵、以及醫(yī)學(xué)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員熟悉的其它裝置。如果是可植入醫(yī)療裝置的一部分，則該裝置可以無菌包裝出售并設(shè)計(jì)為一次性使用。示例性滅菌技術(shù)對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員來說是熟知的，并且包括熱加工、蒸汽加工、化學(xué)加工(例如環(huán)氧乙烷、二氧化氮、漂白劑或各種醛)和輻射(例如，uv、γ輻射或電子束加工)。磁體可以是各種非可植入醫(yī)療設(shè)備的一部分，所述設(shè)備包括助聽器、外部藥物泵和牙科或正畸矯治器(例如，齒橋、板(plate)、假牙和畸齒矯正裝置)。磁體還可以是用于包括船舶、汽車和國防系統(tǒng)用途的各種非醫(yī)療設(shè)備的一部分，所述設(shè)備包括傳感器、開關(guān)、閥、指示器、或信號(hào)裝置。所公開發(fā)明的其它實(shí)施方式包括：―包含ndfeb磁體的磁性制品，在所述磁體上具有基本連續(xù)的耐腐蝕屏障，所述耐腐蝕屏障包含熔點(diǎn)至少約430℃且在90％rh和37℃下的濕氣滲透率低于約0.5克-毫米/平方米/天的聚對(duì)二甲苯保形涂層，所述聚對(duì)二甲苯保形涂層被熱塑性聚砜覆蓋層覆蓋，或者―用于制造經(jīng)涂敷的磁性制品的方法，所述方法包括：在ndfeb磁體上氣相沉積一層或多層聚(四氟對(duì)二甲苯)保形涂層，并將熔融的聚砜覆蓋層施加在聚(四氟對(duì)二甲苯)保形涂層上，以在磁體上提供基本連續(xù)的耐腐蝕屏障，或者―用于制造經(jīng)涂敷的磁性制品的方法，所述方法包括：在ndfeb磁體上氣相沉積一層或多層熔點(diǎn)至少約430℃且在90％rh和37℃下的濕氣滲透率低于約0.5克-毫米/平方米/天的聚對(duì)二甲苯保形涂層，并將熔融的聚砜覆蓋層施加在聚對(duì)二甲苯保形涂層上，以在磁體上提供基本連續(xù)的耐腐蝕屏障，或者―包括經(jīng)涂敷的磁性制品的可植入醫(yī)療裝置，所述經(jīng)涂敷的磁性制品包括ndfeb磁體，在所述磁體上具有基本連續(xù)的耐腐蝕屏障，所述耐腐蝕屏障含有氟化聚(四氟對(duì)二甲苯)保形涂層，所述保形涂層被熱塑性聚砜覆蓋層覆蓋，或者―包括經(jīng)涂敷的磁性制品的可植入醫(yī)療裝置，所述磁性制品包含ndfeb磁體，在所述磁體上具有基本連續(xù)的耐腐蝕屏障，所述耐腐蝕屏障包含熔點(diǎn)至少約430℃且在90％rh和37℃下的濕氣滲透率低于約0.5克-毫米/平方米/天的聚對(duì)二甲苯保形涂層，所述保形涂層被熱塑性聚砜覆蓋層覆蓋，并且，其中是單獨(dú)地、或者任意組合地具有以下特性：―磁體的最大磁能積bh最大為至少28百萬高斯奧斯特、內(nèi)稟矯頑力hci為至少10千奧斯特、并且居里溫度tc為至少300℃，或者―磁體的最大磁能積bh最大為至少32百萬高斯奧斯特、內(nèi)稟矯頑力hci為至少35千奧斯特、并且居里溫度tc為至少310℃，或者―磁體包括棒、桿、環(huán)、部分環(huán)或板，或者―保形涂層的厚度為2-100μm，或者―覆蓋層包含聚醚砜，或者―覆蓋層包含磺化聚醚砜或聚苯砜，或者―覆蓋層的平均厚度為0.5mm-10mm，或者―覆蓋層具有可變厚度，或者―覆蓋層是覆蓋模制層，或者―聚砜的熔點(diǎn)低于聚對(duì)二甲苯的熔點(diǎn)，或者―聚砜的熔點(diǎn)還低于磁體的居里溫度tc，或者―保形涂層的厚度小于0.5mm，并且覆蓋層的平均厚度大于0.5mm，或者―磁體或覆蓋層具有凹陷或凸起，或者―凹陷或凸起包括：槽、凹口、定位器、狹縫、嵌入榫、突出部、擋塊、階梯、密封表面、樞軸點(diǎn)、軸、支承面、顯示流體流動(dòng)或磁化方向的指示器、彈簧固定套環(huán)、閥門或閥門驅(qū)動(dòng)器，或者―磁體在37℃生理鹽水溶液中浸沒5天后并未呈現(xiàn)出可見的腐蝕，或者―所述磁體在87℃生理鹽水溶液中浸沒20天后保持其全部的磁性強(qiáng)度而并未呈現(xiàn)出可見的腐蝕。實(shí)施例1具有32百萬高斯奧斯特bh最大值且形狀如圖5所示磁體500的ndfeb環(huán)狀磁體用兩層17μm厚的對(duì)二甲苯ht(購自特種涂料系統(tǒng)公司)保形涂層進(jìn)行涂敷。在施加保形涂層之前，磁體在不同固定位置進(jìn)行夾持，以確保施加連續(xù)的保形涂層。由此涂敷的磁體使用兩步注塑工藝用聚醚砜覆蓋，以生產(chǎn)如圖6所示的包封的、涂敷屏障層的磁體。磁體在87℃生理鹽水溶液中浸沒28天，并隨后取出用于評(píng)估。磁體并未呈現(xiàn)出可見的腐蝕，并且保留了其浸沒前的全部磁性強(qiáng)度。與未浸沒磁體而制備的鹽水對(duì)照相比，在該浸沒后的鹽溶液電感耦合等離子(icp)質(zhì)譜分光光度分析并未發(fā)現(xiàn)可檢測(cè)的磁性元素。對(duì)比例1如實(shí)施例1中所使用的ndfeb環(huán)狀磁體可以用使用聚對(duì)二甲苯c(-[ch2(c6h3cl)ch2]n-，購自特種涂料系統(tǒng)公司)制造的保形涂層進(jìn)行涂敷。聚對(duì)二甲苯c具有遠(yuǎn)低于聚醚砜的熔點(diǎn)(即，聚對(duì)二甲苯c為290℃，聚對(duì)二甲苯ht為約360℃)。采用聚醚砜的覆蓋模制層預(yù)期將會(huì)破壞保形涂層。對(duì)比例2如實(shí)施例1中所使用的ndfeb環(huán)狀磁體可以用使用聚對(duì)二甲苯n(-[ch2(c6h4)ch2]n-，購自特種涂料系統(tǒng)公司)制造的保形涂層進(jìn)行涂敷。聚對(duì)二甲苯n的熔點(diǎn)為420℃，并由此可以用聚醚砜進(jìn)行覆蓋模制。然而，聚對(duì)二甲苯n還具有低于聚對(duì)二甲苯ht的耐溫性(即，聚對(duì)二甲苯n的短期服務(wù)溫度評(píng)級(jí)為80℃，而聚對(duì)二甲苯ht則為450℃，并且聚對(duì)二甲苯n的連續(xù)服務(wù)溫度評(píng)級(jí)為60℃，而聚對(duì)二甲苯ht則為350℃)。具有聚醚砜的覆蓋模制層將會(huì)需要額外保護(hù)，以避免損害保形涂層。聚對(duì)二甲苯n還具有高于聚對(duì)二甲苯ht的濕氣滲透率(即，聚對(duì)二甲苯c在90％rh和37℃下為0.59克-毫米/平方米/天，聚對(duì)二甲苯ht在100％rh和37℃下為0.22克-毫米/平方米/天)。使用用聚醚砜覆蓋模制的聚對(duì)二甲苯n制造的屏障預(yù)期將會(huì)提供低于實(shí)施例1屏障的耐腐蝕性。對(duì)比例3如實(shí)施例1中所使用的ndfeb環(huán)狀磁體可以用使用聚對(duì)二甲苯d(-[ch2(c6h2cl2)ch2]n-，購自特種涂料系統(tǒng)公司)制造的保形涂層進(jìn)行涂敷。聚對(duì)二甲苯d具有380℃的熔點(diǎn)，其比聚醚砜略高。聚對(duì)二甲苯d具有低于聚對(duì)二甲苯ht的耐溫性(即，聚對(duì)二甲苯n的短期服務(wù)溫度評(píng)級(jí)為120℃，連續(xù)服務(wù)溫度評(píng)級(jí)為100℃)。具有聚醚砜的覆蓋模制層將會(huì)需要額外保護(hù)，以避免損害保形涂層。實(shí)施例2如實(shí)施例1中所述的屏障經(jīng)涂覆的磁體可以用作磁轉(zhuǎn)子組件，以控制在例如上述伯特蘭等人的申請(qǐng)中所示的分流閥中csf流體的流動(dòng)。在初始的現(xiàn)場(chǎng)試驗(yàn)(fieldtrial,)中，含有所公開經(jīng)涂覆屏障的磁體的分流閥和磁體轉(zhuǎn)子組件成功地外科植入13位病人，并且確認(rèn)了可操作。轉(zhuǎn)子組件預(yù)期能夠抵抗體液的腐蝕，以及當(dāng)曝露于3特斯拉mri磁場(chǎng)時(shí)抵抗轉(zhuǎn)子(即，壓力)設(shè)定中的非故意變化、消磁和再磁化。所有引用的專利、專利申請(qǐng)、技術(shù)報(bào)告和其它出版物均獨(dú)立地通過引用其全文納入本文。雖然在具體實(shí)施方式和某些優(yōu)選實(shí)施方式的情況下已經(jīng)進(jìn)行了說明和描述，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解通過計(jì)算以實(shí)現(xiàn)相同目的的各種替代或等同實(shí)施方式可以用于替代如上所示和如上所述的具體實(shí)施方式。本申請(qǐng)意圖覆蓋本文討論的實(shí)施方式的各種調(diào)整或變化。因此，顯然意圖使得本發(fā)明僅受權(quán)利要求數(shù)和其等同項(xiàng)限定。當(dāng)前第1頁12當(dāng)前第1頁12