本實(shí)用新型涉及導(dǎo)電薄膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及用于電容性觸摸面板等的透明導(dǎo)電薄膜。

背景技術(shù)：

目前透明導(dǎo)電薄膜絕大部分是通過在基材相對(duì)的兩表面上設(shè)置硬涂層來避免其表面被刮傷，提高其防損傷的能力。

在實(shí)際生產(chǎn)過程中，即使是透明導(dǎo)電薄膜的兩表面上含有硬涂層，在將其卷曲透明導(dǎo)電薄膜使其為筒狀時(shí)，存在相鄰的透明導(dǎo)電薄膜表面彼此產(chǎn)生壓接和褶皺的問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

基于此，本實(shí)用新型旨在提供一種既能保證基材的表面不容易受到損傷，又能解決在卷取透明導(dǎo)電薄膜使其為筒狀時(shí)，存在相鄰的透明導(dǎo)電薄膜相對(duì)兩表面彼此產(chǎn)生壓接和褶皺的問題的透明導(dǎo)電薄膜。

一種透明導(dǎo)電薄膜，其具有：基材，所述基材包括第一表面和第二表面，所述第一表面上依次形成有第一硬涂層和第一透明導(dǎo)體層，和所述第二表面上依次形成有第二硬涂層和第二透明導(dǎo)體層，所述第一硬涂層遠(yuǎn)離所述基材的表明上層嵌設(shè)有多個(gè)顆粒，所述顆粒的粒徑小于顆粒所在第一硬涂層的厚度；所述第一透明導(dǎo)體層的表面具有多個(gè)凸部，所述凸部起因于所述第一硬涂層的表面上嵌設(shè)有多個(gè)顆粒。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述顆粒的粒徑為10nm～1μm，所述第一硬涂層和/第二硬涂層的厚度為0.5～3μm。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第一透明導(dǎo)體層和第一硬涂層之間設(shè)置有第一光學(xué)調(diào)整層，和/或所述第二透明導(dǎo)體層和第二硬涂層之間設(shè)置有第二光學(xué)調(diào)整層。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第一透明導(dǎo)體層遠(yuǎn)離第一光學(xué)調(diào)整層的表面上設(shè)置有第一金屬層，和/或所述第二透明導(dǎo)體層遠(yuǎn)離第二光學(xué)調(diào)整層的表面上設(shè)置有第二金屬層。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第二硬涂層遠(yuǎn)離所述基材的表面嵌入多個(gè)顆粒。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第一透明導(dǎo)體層和第一硬涂層之間設(shè)置有第一光學(xué)調(diào)整層，和/或所述第二透明導(dǎo)體層和第二硬涂層之間設(shè)置有第二光學(xué)調(diào)整層。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第一透明導(dǎo)體層遠(yuǎn)離第一光學(xué)調(diào)整層的表面上設(shè)置有第一金屬層，和/或所述第二透明導(dǎo)體層遠(yuǎn)離第二光學(xué)調(diào)整層的表面上設(shè)置有第二金屬層。

一種透明導(dǎo)電薄膜，其具有：基材，所述基材包括第一表面和第二表面，所述第一表面上依次形成有第一硬涂層、第一光學(xué)調(diào)整層和第一透明導(dǎo)體層，和所述第二表面依次形成有第二硬涂層、第二光學(xué)調(diào)整層和第二透明導(dǎo)體層，所述第一光學(xué)調(diào)整層遠(yuǎn)離所述第一硬涂層的表面上嵌設(shè)有多個(gè)顆粒，所述顆粒的粒徑小于顆粒所在的第一光學(xué)調(diào)整層的厚度，所述第一透明導(dǎo)體層的表面具有多個(gè)凸部，所述凸部起因于所述第一光學(xué)調(diào)整層的表面上嵌設(shè)有多個(gè)顆粒。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第二光學(xué)調(diào)整層遠(yuǎn)離所述第二硬涂層的表面上嵌設(shè)有多個(gè)顆粒。

其中一個(gè)實(shí)施例中，所述顆粒的粒徑為50nm～1μm。

其中所述第一透明導(dǎo)體層遠(yuǎn)離第一光學(xué)調(diào)整層的表面上設(shè)置有第一金屬層，和/或所述第二透明導(dǎo)體層遠(yuǎn)離第二光學(xué)調(diào)整層的表面上設(shè)置有第二金屬層。

上述透明導(dǎo)電薄膜通過在第一硬涂層、第二硬涂層表面上均嵌設(shè)有多個(gè)顆粒既能保證基材的表面不容易受到損傷，又能解決在卷取透明導(dǎo)電薄膜使其為筒狀時(shí)，存在相鄰的透明導(dǎo)電薄膜相對(duì)兩表面彼此產(chǎn)生壓接和褶皺的問題。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型第一實(shí)施例所提供的透明導(dǎo)電薄膜的截面示意圖。

圖2為本實(shí)用新型第二實(shí)施例所提供的透明導(dǎo)電薄膜的截面示意圖。

圖3為本實(shí)用新型第三實(shí)施例所提供的透明導(dǎo)電薄膜的截面示意圖。

圖4為本實(shí)用新型第四實(shí)施例所提供的透明導(dǎo)電薄膜的截面示意圖。

圖5為本實(shí)用新型第五實(shí)施例所提供的透明導(dǎo)電薄膜的截面示意圖。

圖6為本實(shí)用新型第六實(shí)施例所提供的透明導(dǎo)電薄膜的截面示意圖。

圖7為本實(shí)用新型第七實(shí)施例所提供的透明導(dǎo)電薄膜的截面示意圖。

圖8為本實(shí)用新型第八實(shí)施例所提供的透明導(dǎo)電薄膜的截面示意圖。

圖9為本實(shí)用新型第九實(shí)施例所提供的透明導(dǎo)電薄膜的截面示意圖。

圖10為本實(shí)用新型第十實(shí)施例所提供的透明導(dǎo)電薄膜的截面示意圖。

具體實(shí)施方式

本實(shí)用新型提供的透明導(dǎo)電薄膜可以用于手機(jī)、平板電腦等需要電容式觸控面板的顯示終端。

如圖1所示，本實(shí)用新型中第一實(shí)施例中的透明導(dǎo)電薄膜10具備基材11、第一硬涂層12、第一透明導(dǎo)體層14、第二硬涂層22和第二透明導(dǎo)體層24。所述基材11包括第一表面和第二表面，第一硬涂層12和第一透明導(dǎo)體層14依次設(shè)置在基材11的第一表面上(即圖1中上表面)，第二硬涂層22和第二透明導(dǎo)體層24設(shè)置在基材11的第二表面上(即圖1中的下表面)。所述第一硬涂層12遠(yuǎn)離所述基材11的表面嵌設(shè)有多個(gè)顆粒16，而第二硬涂層22的遠(yuǎn)離所述基材11的表面并沒有嵌入顆粒。顆粒16的粒徑小于所述顆粒16所在的第一硬涂層12的厚度。本實(shí)用新型中所述的顆粒16嵌設(shè)在第一硬涂層12遠(yuǎn)離所述基材11的表面是指顆粒16僅有部分埋入第一硬涂層12中，還有部分未埋入第一硬涂層12中，即顆粒16還有部分處于露出的狀態(tài)。

基材11可以由非晶性聚合物薄膜或者結(jié)晶性聚合物薄膜形成。因?yàn)榛?1的材質(zhì)可以為非結(jié)晶性材質(zhì)或者結(jié)晶性材質(zhì)，因此在實(shí)際生產(chǎn)過程中可以根據(jù)實(shí)際需要靈活選擇，從而降低生產(chǎn)成本。第一硬涂層12的遠(yuǎn)離基材11的表面嵌設(shè)有多個(gè)顆粒16，且顆粒16可以無規(guī)則地嵌設(shè)在第一硬涂層12的遠(yuǎn)離基材11的表面上，當(dāng)然顆粒16也可以一定的規(guī)則例如均勻地嵌設(shè)在第一硬涂層12的遠(yuǎn)離基材11的表面上，因此第一硬涂層12的遠(yuǎn)離基材11的表面中嵌設(shè)有顆粒16的部分會(huì)相對(duì)于不嵌設(shè)有顆粒16的部分凸起。由于第一透明導(dǎo)體層14設(shè)置在第一硬涂層12遠(yuǎn)離基材11的表面上，所以第一透明導(dǎo)體層14的表面形狀反映了第一硬涂層12的遠(yuǎn)離基材11表面形狀，在有顆粒16位置處具有凸部18，而不含顆粒16的位置處是平坦的；由于第二透明導(dǎo)體層24設(shè)置在第二硬涂層22遠(yuǎn)離基材11的表面上，所以第二透明導(dǎo)體層24的表面形狀反映了第二硬涂層12的遠(yuǎn)離基材11表面形狀，所以第二透明導(dǎo)體層24的整個(gè)表面都是平坦的。所述凸部18在第一硬涂層12中的分布密度為50～5000個(gè)/mm²。

在本實(shí)用新型有的一些實(shí)施例中，第一硬涂層12、第二硬涂層22的厚度優(yōu)選為500nm～3000nm，便于在保證透明導(dǎo)電薄膜抗損傷性能不降低的情況下，降低導(dǎo)電薄膜的整體厚度，為后續(xù)提供超薄電子產(chǎn)品或者移動(dòng)終端提供條件。

在一些實(shí)施例中，所述顆粒16的粒徑為10nm～1μm。由于當(dāng)顆粒16粒徑太大會(huì)導(dǎo)致透明導(dǎo)電薄膜10的霧度值過大，使其光透過率降低，嚴(yán)重影響透明導(dǎo)電薄膜10的外觀和光學(xué)效果；而當(dāng)顆粒16的粒徑太小時(shí)，又會(huì)導(dǎo)致透明導(dǎo)電薄膜10卷繞成筒狀時(shí)其抗壓接和褶皺的能力下降，導(dǎo)致壓接不良的問題增大，達(dá)不到預(yù)期的作用，因此將顆粒的粒徑設(shè)置在10nm～1μm，既能保證透明導(dǎo)電薄膜10的防壓接的效果，要有能使得透明導(dǎo)電薄膜10的霧度值不會(huì)提高太多，以致降低其光透過率，影響光線效果。

在一些實(shí)施例中，顆粒為16為球狀，且其直徑為10nm～1μm。本實(shí)用新型中球狀顆?？梢越档凸に囯y度，適于批量生產(chǎn)，另外球狀顆粒16可以減少導(dǎo)電薄膜在卷繞成筒狀時(shí)由于不定形顆粒的尖銳的輪廓刺破導(dǎo)電薄膜現(xiàn)象的出現(xiàn)，提高生產(chǎn)良率，降低成本。

本實(shí)用新型中第一硬涂層12遠(yuǎn)離基材的表面上嵌設(shè)有顆粒16的有益效果為：可以使得設(shè)置在其表面的第一透明導(dǎo)體層14的表面形成凸起18，因此可以防止透明導(dǎo)電薄膜卷繞成筒狀時(shí)，透明導(dǎo)電薄膜10的相對(duì)的兩表面是凸起18和第二硬涂層24的表面接觸，即是點(diǎn)和面的接觸，而不是面對(duì)面接觸，因此可以減少透明導(dǎo)電薄膜的壓接損傷。

本實(shí)用新型的透明導(dǎo)電薄膜10的基材11當(dāng)使用雙折射率小并且均勻的非晶性聚合物薄膜時(shí)，因此可解決透明導(dǎo)電薄膜10中的顏色不均勻的問題。由于第一透明導(dǎo)體層14的表面具有凸部18，因此在卷繞透明導(dǎo)電薄膜10成筒狀時(shí)，第一透明導(dǎo)體層14與第二導(dǎo)體層24成為點(diǎn)和面接觸。由此可減少第一導(dǎo)體層14與第二導(dǎo)體層24產(chǎn)生壓接。

為了避免本實(shí)用新型的透明導(dǎo)電薄膜10的損傷、壓接，可利用卷對(duì)卷工藝(roll to roll process)來制造長條的透明導(dǎo)電薄膜10。另外，可以以長條的透明導(dǎo)電薄膜10卷繞成的透明導(dǎo)電薄膜筒的形態(tài)進(jìn)行保存、運(yùn)輸以及加工。因此本實(shí)用新型的透明導(dǎo)電薄膜10生產(chǎn)效率高。

本實(shí)用新型第二實(shí)施例中的透明導(dǎo)電薄膜20如圖2所示。透明導(dǎo)電薄膜20和第一實(shí)施例中的透明導(dǎo)電薄膜10基本相同，不同之處在于：透明導(dǎo)電薄膜20在第一透明導(dǎo)體層14和第一硬涂層12之間設(shè)置有第一光學(xué)調(diào)整層13，在第二透明導(dǎo)體層24和第二硬涂層22之間設(shè)置有第二光學(xué)調(diào)整層23。在其他實(shí)施例中，也可以只在第一透明導(dǎo)體層14和第一硬涂層12之間設(shè)置有第一光學(xué)調(diào)整層13或者只在在第二透明導(dǎo)體層24和第二硬涂層22之間設(shè)置有第二光學(xué)調(diào)整層23。如此可以簡化工藝，節(jié)省材料。

在本實(shí)用新型的一些其他實(shí)施例中，第一光學(xué)調(diào)整層13和/或第二光學(xué)調(diào)整層23為含有有機(jī)硅類聚合物、丙烯酸酯類聚合物、芳環(huán)或萘環(huán)聚合物、氧化鋯、氧化鈦、氧化銻等中的一種或幾種的涂層，可以根據(jù)實(shí)際生產(chǎn)需要選擇合適的光學(xué)調(diào)整層材料。

第一光學(xué)調(diào)整層13可以在后工序中將第一透明導(dǎo)體層14圖案化后，使有第一透明導(dǎo)體層14的部分和沒有其的部分的反射率之差減少，使第一透明導(dǎo)體層14的圖案難以辨認(rèn)，提高光透過率。第二光學(xué)調(diào)整層23的功能也相同。

第一光學(xué)調(diào)整層13和/或第二光學(xué)調(diào)整層23的厚度優(yōu)選為100nm～2000nm，便于在保證透明導(dǎo)電薄膜透光率不降低的情況下，可盡可能的降低導(dǎo)電薄膜的整體厚度，為后續(xù)提供超薄電子產(chǎn)品或者移動(dòng)終端提供條件。

本實(shí)用新型第三實(shí)施例中的透明導(dǎo)電薄膜30如圖3所示。透明導(dǎo)電薄膜30和第二實(shí)施例中的透明導(dǎo)電薄膜20基本相同，不同之處在于：透明導(dǎo)電薄膜30在其第一透明導(dǎo)體層14遠(yuǎn)離第一光學(xué)調(diào)整層13的表面上設(shè)置有第一金屬層15，在所述第二透明導(dǎo)體層24遠(yuǎn)離第二光學(xué)調(diào)整層23的表面上設(shè)置有第二金屬層25。在本實(shí)用新型其他實(shí)施例中，也可以第一透明導(dǎo)體層14遠(yuǎn)離第一光學(xué)調(diào)整層13的表面上設(shè)置有第一金屬層15或者只第二透明導(dǎo)體層24遠(yuǎn)離第二光學(xué)調(diào)整層23的表面上設(shè)置有第二金屬層25。如此可以簡化工藝，節(jié)省材料。

在透明導(dǎo)電薄膜30中設(shè)置有第一金屬層15和第二金屬層25便于將本實(shí)用新型的透明導(dǎo)電性薄膜30用于觸摸面板時(shí)，用于在觸摸面板的非顯示區(qū)域形成電極走線。如此可以避免使用與透明導(dǎo)體層(14或24)相同的阻抗較大的材料(常用的是氧化銦錫(ITO))來制作邊框電極走線，而導(dǎo)致信號(hào)傳輸?shù)撵`敏度下降，功耗增加的問題。

本實(shí)用新型第四實(shí)施例中的透明導(dǎo)電薄膜40如圖4所示。透明導(dǎo)電薄膜40和第一實(shí)施例中的透明導(dǎo)電薄膜10基本相同，不同之處在于：透明導(dǎo)電薄膜40在其第二硬涂層遠(yuǎn)離基材11的表面嵌設(shè)有多個(gè)顆粒26。顆粒26可以無規(guī)則地分布第二硬涂層22的遠(yuǎn)離基材11的表面上，當(dāng)然顆粒26也可以一定的規(guī)則例如均勻地分布第二硬涂層22的遠(yuǎn)離基材11的表面上，因此第二硬涂層22的遠(yuǎn)離基材11的表面中含有顆粒26的部分會(huì)相對(duì)于不含顆粒16的部分凸起。由于第二透明導(dǎo)體層24設(shè)置在第二硬涂層22遠(yuǎn)離基材11的表面上，所以第二透明導(dǎo)體層24的表面形狀反映了第二硬涂層22的遠(yuǎn)離基材11表面形狀，在有顆粒26位置處具有凸部28，而不含顆粒26的位置處27是平坦的；所述凸部28在第二硬涂層22中的分布密度為50～5000個(gè)/mm²。顆粒26的材質(zhì)和粒徑等性質(zhì)和顆粒16是相同的。

相對(duì)于第一實(shí)施例中的透明導(dǎo)電薄膜10，第四實(shí)施例中透明導(dǎo)電薄膜40，在第一硬涂層12遠(yuǎn)離基材11的表面上和第二硬涂層22遠(yuǎn)離基材11的表面上均嵌設(shè)有顆粒，可以使得第一透明導(dǎo)體層14表面和第二透明導(dǎo)體層24的表面分別形成凸起18和28，因此可以防止透明導(dǎo)電薄膜40卷繞成筒狀時(shí)，透明導(dǎo)電薄膜40的相對(duì)的兩表面是凸起18和凸起28相互接觸，即是點(diǎn)與點(diǎn)的接觸，而不是點(diǎn)對(duì)面接觸，因此可以進(jìn)一步提高透明導(dǎo)電薄膜的防壓接效果。

本實(shí)用新型第五實(shí)施例中的透明導(dǎo)電薄膜50如圖5所示。透明導(dǎo)電薄膜50和第四實(shí)施例中的透明導(dǎo)電薄膜40基本相同，不同之處在于：透明導(dǎo)電薄膜50在第一透明導(dǎo)體層14和第一硬涂層12之間設(shè)置有第一光學(xué)調(diào)整層13，在第二透明導(dǎo)體層24和第二硬涂層22之間設(shè)置有第二光學(xué)調(diào)整層23。在其他實(shí)施例中，也可以只在第一透明導(dǎo)體層14和第一硬涂層12之間設(shè)置有第一光學(xué)調(diào)整層13或者只在在第二透明導(dǎo)體層24和第二硬涂層22之間設(shè)置有第二光學(xué)調(diào)整層23。如此可以簡化工藝，節(jié)省材料。

第一光學(xué)調(diào)整層13可以在后工序中將第一透明導(dǎo)體層14圖案化后，使有第一透明導(dǎo)體層14的部分和沒有其的部分的反射率之差減少，使第一透明導(dǎo)體層14的圖案難以辨認(rèn)，提高光透過率。第二光學(xué)調(diào)整層23的功能也相同。

第一光學(xué)調(diào)整層13和/或第二光學(xué)調(diào)整層23的厚度優(yōu)選為100nm～2000nm，便于在保證透明導(dǎo)電薄膜透光率不降低的情況下，可盡可能的降低導(dǎo)電薄膜的整體厚度，為后續(xù)提供超薄電子產(chǎn)品或者移動(dòng)終端提供條件。

本實(shí)用新型第六實(shí)施例中的透明導(dǎo)電薄膜60如圖6所示。透明導(dǎo)電薄膜60和第五實(shí)施例中的透明導(dǎo)電薄膜50基本相同，不同之處在于：透明導(dǎo)電薄膜60在其第一透明導(dǎo)體層14遠(yuǎn)離第一光學(xué)調(diào)整層13的表面上設(shè)置有第一金屬層15，在所述第二透明導(dǎo)體層24遠(yuǎn)離第二光學(xué)調(diào)整層23的表面上設(shè)置有第二金屬層25。在本實(shí)用新型其他實(shí)施例中，也可以第一透明導(dǎo)體層14遠(yuǎn)離第一光學(xué)調(diào)整層13的表面上設(shè)置有第一金屬層15或者只第二透明導(dǎo)體層24遠(yuǎn)離第二光學(xué)調(diào)整層23的表面上設(shè)置有第二金屬層25。如此可以簡化工藝，節(jié)省材料。

在透明導(dǎo)電薄膜60中設(shè)置有第一金屬層15和第二金屬層25便于將本實(shí)用新型的透明導(dǎo)電性薄膜60用于觸摸面板時(shí)，用于在觸摸面板的非顯示區(qū)域形成電極走線。如此可以避免使用與透明導(dǎo)體層(14或24)相同的阻抗較大的材料(常用的是氧化銦錫(ITO))來制作邊框電極走線，而導(dǎo)致信號(hào)傳輸?shù)撵`敏度下降，功耗增加的問題。

本實(shí)用新型第七實(shí)施例中的透明導(dǎo)電薄膜70如圖7所述。透明導(dǎo)電薄膜70和第二實(shí)施例中的透明導(dǎo)電薄膜20基本相同，不同之處在于：透明導(dǎo)電薄膜70中的顆粒是16是嵌設(shè)在第一光學(xué)調(diào)整層13遠(yuǎn)離第一硬涂層12的表面上，所述顆粒16的粒徑小于顆粒16所在的第一光學(xué)調(diào)整層13的厚度。本實(shí)施例中所述的顆粒16嵌設(shè)在第一光學(xué)調(diào)整層32遠(yuǎn)離所述第一光學(xué)調(diào)整層13的表面是指顆粒16僅有部分埋入第一光學(xué)調(diào)整層13中，還有部分未埋入第一光學(xué)調(diào)整層13中，即顆粒16還有部分處于露出的狀態(tài)。

相對(duì)于透明導(dǎo)電薄膜12,而言，透明導(dǎo)電薄膜70通過顆粒16嵌設(shè)在第一光學(xué)調(diào)整層13遠(yuǎn)離第一硬涂層12的表面上可以保證第一硬涂層12的厚度均勻，在保證其抗損傷作用不降低的情況下可以確保在第一透明導(dǎo)體14表面形成凸部18，使得透明導(dǎo)電薄膜70卷繞成筒狀時(shí)其抗壓接和褶皺能力不變。

本實(shí)用新型第八實(shí)施例中的透明導(dǎo)電薄膜80如圖8所述。透明導(dǎo)電薄膜80和第七實(shí)施例中的透明導(dǎo)電薄膜70基本相同，不同之處在于：透明導(dǎo)電薄膜70在其第一透明導(dǎo)體層14遠(yuǎn)離第一光學(xué)調(diào)整層13的表面上設(shè)置有第一金屬層15，在所述第二透明導(dǎo)體層24遠(yuǎn)離第二光學(xué)調(diào)整層23的表面上設(shè)置有第二金屬層25。在本實(shí)用新型其他實(shí)施例中，也可以第一透明導(dǎo)體層14遠(yuǎn)離第一光學(xué)調(diào)整層13的表面上設(shè)置有第一金屬層15或者只第二透明導(dǎo)體層24遠(yuǎn)離第二光學(xué)調(diào)整層23的表面上設(shè)置有第二金屬層25。如此可以簡化工藝，節(jié)省材料。

在透明導(dǎo)電薄膜80中設(shè)置有第一金屬層15和第二金屬層25便于將本實(shí)用新型的透明導(dǎo)電性薄膜80用于觸摸面板時(shí)，用于在觸摸面板的非顯示區(qū)域形成電極走線。如此可以避免使用與透明導(dǎo)體層(14或24)相同的阻抗較大的材料(常用的是氧化銦錫(ITO))來制作邊框電極走線，而導(dǎo)致信號(hào)傳輸?shù)撵`敏度下降，功耗增加的問題。

本實(shí)用新型第九實(shí)施例中的透明導(dǎo)電薄膜90如圖9所述。透明導(dǎo)電薄膜90和第七實(shí)施例中的透明導(dǎo)電薄膜70基本相同，不同之處在于：透明導(dǎo)電薄膜90在其第二光學(xué)調(diào)整層23遠(yuǎn)離第二硬涂層22的表面嵌設(shè)有多個(gè)顆粒26。顆粒26可以無規(guī)則地分布第二光學(xué)調(diào)整層23遠(yuǎn)離第二硬涂層22的表面上，當(dāng)然顆粒26也可以一定的規(guī)則例如均勻地分布第二光學(xué)調(diào)整層23的遠(yuǎn)離第二硬涂層22的表面上，因此第二光學(xué)調(diào)整層23遠(yuǎn)離第二硬涂層22的表面中含有顆粒26的部分會(huì)相對(duì)于不含顆粒26的部分凸起。由于第二透明導(dǎo)體層24設(shè)置在第二光學(xué)調(diào)整層23遠(yuǎn)離第二硬涂層22的表面上，所以第二透明導(dǎo)體層24的表面形狀反映了第二光學(xué)調(diào)整層23遠(yuǎn)離第二硬涂層22表面形狀，在有顆粒26位置處具有凸部28，而不含顆粒26的位置處27是平坦的；所述凸部28在第二光學(xué)調(diào)整層22中的分布密度為50～5000個(gè)/mm²。顆粒26的材質(zhì)和粒徑等性質(zhì)和顆粒16是相同的。

相對(duì)于第七實(shí)施例中的透明導(dǎo)電薄膜70，第九實(shí)施例中透明導(dǎo)電薄膜90，在第一光學(xué)調(diào)整層13遠(yuǎn)離第一硬涂層12的表面上和第二光學(xué)調(diào)整層層23遠(yuǎn)離第二硬涂層22的表面上均嵌設(shè)有顆粒，可以使得第一透明導(dǎo)體層14表面和第二透明導(dǎo)體層24的表面分別形成凸起18和28，因此可以防止透明導(dǎo)電薄膜90卷繞成筒狀時(shí)，透明導(dǎo)電薄膜90的相對(duì)的兩表面是凸起18和凸起28相互接觸，即是點(diǎn)與點(diǎn)的接觸，而不是點(diǎn)對(duì)面接觸，因此可以進(jìn)一步提高透明導(dǎo)電薄膜的防壓接效果。

本實(shí)用新型第十實(shí)施例中的透明導(dǎo)電薄膜100如圖10所述。透明導(dǎo)電薄膜100和第九實(shí)施例中的透明導(dǎo)電薄膜90基本相同，不同之處在于：透明導(dǎo)電薄膜100在其第一透明導(dǎo)體層14遠(yuǎn)離第一光學(xué)調(diào)整層13的表面上設(shè)置有第一金屬層15，在所述第二透明導(dǎo)體層24遠(yuǎn)離第二光學(xué)調(diào)整層23的表面上設(shè)置有第二金屬層25。在本實(shí)用新型其他實(shí)施例中，也可以第一透明導(dǎo)體層14遠(yuǎn)離第一光學(xué)調(diào)整層13的表面上設(shè)置有第一金屬層15或者只第二透明導(dǎo)體層24遠(yuǎn)離第二光學(xué)調(diào)整層23的表面上設(shè)置有第二金屬層25。如此可以簡化工藝，節(jié)省材料。

在透明導(dǎo)電薄膜100中設(shè)置有第一金屬層15和第二金屬層25便于將本實(shí)用新型的透明導(dǎo)電性薄膜100用于觸摸面板時(shí)，用于在觸摸面板的非顯示區(qū)域形成電極走線。如此可以避免使用與透明導(dǎo)體層(14或24)相同的阻抗較大的材料(常用的是氧化銦錫(ITO))來制作邊框電極走線，而導(dǎo)致信號(hào)傳輸?shù)撵`敏度下降，功耗增加的問題。

在本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中，第一硬涂層12、第二硬涂層22都含有粘結(jié)性樹脂，且兩者之一或者兩者的折射率均為1.35～2.0，優(yōu)選為1.35～1.65。在另外一些實(shí)施例中，所述第一折射率調(diào)整層13、第二折射率調(diào)整層23也含有粘結(jié)性樹脂，且兩者之一或者兩只的光折射率均為1.5～2.0，優(yōu)選1.55～1.85。通過設(shè)置有以上折射率的硬涂層和折射率調(diào)整層，可以提高導(dǎo)電薄膜10的透光率，為后續(xù)其應(yīng)用到觸控面板中提高視覺效果提供了條件。

基材

基材11可以由非晶性聚合物薄膜或結(jié)晶性聚合物薄膜形成。優(yōu)選由非晶性聚合物薄膜形成。由于非晶性聚合物薄膜比結(jié)晶聚合物薄膜雙折射率小并且均勻，可消除本實(shí)用新型的透明導(dǎo)電薄膜中的顏色不均勻。用于本實(shí)用新型的非晶性聚合物薄膜的面內(nèi)的雙折射率優(yōu)選為0～0.001，進(jìn)一步優(yōu)選為0～0.0005。用于本實(shí)用新型的非晶性聚合物薄膜的面內(nèi)的雙折射率的偏差優(yōu)選為0.0005以下，進(jìn)一步優(yōu)選為0.0003以下。前述雙折射率和其偏差可通過選擇適宜的種類的非晶性聚合物薄膜而達(dá)成。

形成非晶性聚合物薄膜的材料沒有特別的限制，優(yōu)選為聚碳酸酯或聚環(huán)烯烴或聚酰亞胺。由非晶性聚合物薄膜形成的基材11的厚度例如為20μm～200μm。非晶性聚合物薄膜也可以在表面具有例如由聚氨酯或聚丙烯酸酯類等聚合物形成的薄的易粘結(jié)層(未圖示)。

硬涂層

第一硬涂層12形成在基材11的第一表面上，第二硬涂層22形成在基材11的第二表面上。所述第一硬涂層12和第二硬涂層22均包含粘結(jié)劑樹脂。該粘結(jié)劑樹脂包含例如基于紫外線、電子射線的固化性樹脂組合物。固化性樹脂組合物優(yōu)選包含丙烯酸縮水甘油酯系聚合物與丙烯酸進(jìn)行加成反應(yīng)而得到的聚合物?；蛘?，固化性樹脂組合物優(yōu)選包含多官能丙烯酸酯聚合物(季戊四醇、二季戊四醇等)。固化性樹脂組合物還包含聚合引發(fā)劑。第一硬涂層12、第二硬涂層22的厚度為500nm-3000nm。

透明導(dǎo)電薄膜的第一硬涂層12背向基材11的表面上、第二硬涂層22背向基材11的表面上嵌設(shè)有多個(gè)顆粒16、26。該顆粒16、26是在第一硬涂層12和第二硬涂層22的成型過程中分別嵌設(shè)在第一硬涂層12遠(yuǎn)離基材11的表面上、第二硬涂層22遠(yuǎn)離基材11的表面上。顆粒16和26例如由丙烯酸類聚合物、有機(jī)硅聚合物、苯乙烯聚合物、或無機(jī)二氧化硅形成。顆粒16和26的形狀例如為球狀。當(dāng)顆粒16和26為球狀時(shí)，其直徑優(yōu)選為10nm～1μm。當(dāng)顆粒16和26不為球狀時(shí)(例如為不定形)，其高度(與基材11的表面垂直的方向的尺寸)優(yōu)選為10nm～1μm。顆粒16和26不為球狀時(shí)(例如為不定形時(shí))、該優(yōu)選的高度為最頻粒徑(表示粒徑分布的極大值的粒徑)是優(yōu)選的。

第一硬涂層12的表面的算術(shù)平均粗糙度Ra優(yōu)選為0.0005μm～0.05μm，最大高度Rz優(yōu)選為0.05μm～2.5μm。第二硬涂層22的表面的算術(shù)平均粗糙度Ra、以及最大高度Rz也同樣。

光學(xué)調(diào)整層

本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中的透明導(dǎo)電薄膜，在第一硬涂層12與第一透明導(dǎo)體層14之間具有第一光學(xué)調(diào)整層13(index matching layer)。另外，在第二硬涂層22與第2透明導(dǎo)體層24之間具有第2光學(xué)調(diào)整層23。關(guān)于第一光學(xué)調(diào)整層13，在后工序中將第一透明導(dǎo)體層14圖案化后，使有第一透明導(dǎo)體層14的部分和沒有其的部分的反射率之差減少，使第一透明導(dǎo)體層14的圖案難以辨認(rèn)。第二光學(xué)調(diào)整層23的功能也相同。

第一光學(xué)調(diào)整層13的光學(xué)優(yōu)選設(shè)定為在第一硬涂層12的光學(xué)與第一透明導(dǎo)體層14的光學(xué)之間的數(shù)值。形成第一光學(xué)調(diào)整層13的材料例如為有機(jī)硅類聚合物、丙烯酸酯類聚合物、芳環(huán)或萘環(huán)聚合物、氧化鋯、氧化鈦、氧化銻中的一種或者幾種的涂層。第一光學(xué)調(diào)整層13的厚度為100nm～2000nm。對(duì)于第二光學(xué)調(diào)整層23也同樣。

透明導(dǎo)體層

在沒有第一光學(xué)調(diào)整層13時(shí)，第一透明導(dǎo)體層14形成在第一硬涂層12上。有第一光學(xué)調(diào)整層13時(shí)，第一透明導(dǎo)體層14形成在第一光學(xué)調(diào)整層13的表面上。第一透明導(dǎo)體層14由在可見光區(qū)域(380nm～780nm)中透射率高(80％以上)、且每單位面積的表面電阻值(單位：Ω/m²：ohms per square)為500Ω/m²以下的層形成。第一透明導(dǎo)體層14的厚度優(yōu)選15nm～100nm、更優(yōu)選的為15nm～50nm。第一透明導(dǎo)體層14例如由銦錫氧化物(ITO：Indium Tin Oxide)、銦錫氧化物、或者氧化銦-氧化鋅復(fù)合物的任一種形成。第二透明導(dǎo)體層24形成于第二光學(xué)調(diào)整層23遠(yuǎn)離第2硬涂層23的表面上。第二透明導(dǎo)體層24的物性、材料與第一透明導(dǎo)體層14相同。沒有第二光學(xué)調(diào)整層23時(shí)，第二透明導(dǎo)體層24形成在第二硬涂層22的表面上。有第二光學(xué)調(diào)整層23時(shí)，第二透明導(dǎo)體層24形成在第二光學(xué)調(diào)整層23的表面上。第二透明導(dǎo)體層24的物性、材料與第一透明導(dǎo)體層14相同。

金屬層

第一金屬層15形成在第一透明導(dǎo)體層14的表面上。第一金屬層15在本實(shí)用新型的透明導(dǎo)電性薄膜用于例如觸摸面板時(shí)，用于在觸摸輸入?yún)^(qū)域的外側(cè)形成布線。關(guān)于形成第一金屬層15的材料，有代表性的是銅、銀，也可使用除此以外的導(dǎo)電性優(yōu)異的任意的金屬。第一金屬層15的厚度優(yōu)選為50nm～500nm、更優(yōu)選為100nm～300nm。第二金屬層25形成在第二透明導(dǎo)體層24的表面上。第二金屬層25的用途、材料、厚度與第一金屬層15相同。

第一金屬層15的表面與第一透明導(dǎo)體層14的表面形狀類似，具有無規(guī)則分布的凸部18。凸部18的分別密度優(yōu)選為100個(gè)/mm²～2000個(gè)/mm²，更優(yōu)選為100個(gè)/mm²～1000/mm²。第一金屬層15的表面的算術(shù)平均粗糙度Ra優(yōu)選為0.005μm～0.05μm，更優(yōu)選為0.005μm～0.03μm。第一金屬層15的表面的最大高度Rz優(yōu)選為0.5μm～2.5μm、更優(yōu)選為0.5μm～2.0μm。第一金屬層15的表面的算術(shù)平均粗糙度Ra和最大高度Rz可通過調(diào)整顆粒16的形狀、尺寸以及含量來改變。第二金屬層25的表面反映第二透明導(dǎo)體層24的表面形狀，具有無規(guī)則地分布的凸部28。第二金屬層25的表面粗糙度與第一金屬層15的表面粗糙度相同。

卷繞本實(shí)用新型的透明導(dǎo)電性薄膜60時(shí)，第一金屬層15的表面與第二金屬層25的表面接觸。第一金屬層15的表面有無規(guī)則地分布的凸部18，第二金屬層25的表面有無規(guī)則分布的凸部28。因此，第一金屬層15的表面與第二金屬層25的表面成為點(diǎn)和點(diǎn)接觸。由此，可防止第一金屬層15與第二金屬層25的壓接。

制造方法

對(duì)本實(shí)用新型的透明導(dǎo)電薄膜60的制造方法的一個(gè)例子進(jìn)行說明。該顆粒16、26是在第一硬涂層12和第二硬涂層22的成型過程中分別嵌設(shè)在第一硬涂層12遠(yuǎn)離基材11的表面上、第二硬涂層22遠(yuǎn)離基材11的表面上。顆。接著在第一硬涂層12的表面涂布光學(xué)調(diào)整劑、在第二硬涂層22的表面涂布光學(xué)調(diào)整劑。接著對(duì)第一硬涂層12上的光學(xué)調(diào)整劑和第二硬涂層22上的光學(xué)調(diào)整劑照射紫外線而使光學(xué)調(diào)整劑固化，形成第一光學(xué)調(diào)整層13和第二光學(xué)調(diào)整層23。接著利用濺射法等在第一光學(xué)調(diào)整層13的表面依次層疊第一透明導(dǎo)體層14和第一金屬層15。第一透明導(dǎo)體層14和第一金屬層15可通過在濺射裝置內(nèi)設(shè)置透明導(dǎo)體層用靶材和金屬層用靶材而連續(xù)地層疊。對(duì)第二光學(xué)調(diào)整層23的表面也同樣地操作，依次層疊第二透明導(dǎo)體層24和第二金屬層25。

本實(shí)用新型通過在第一硬涂層、第二硬涂層表面上均嵌設(shè)有多個(gè)顆粒既能保證基材的表面不容易受到損傷，又能解決在卷取透明導(dǎo)電薄膜使其為筒狀時(shí)，存在相鄰的透明導(dǎo)電薄膜相對(duì)兩表面彼此產(chǎn)生壓接和褶皺的問題。另外通過設(shè)置有第一光學(xué)調(diào)整層和第二光學(xué)調(diào)整層可以調(diào)節(jié)中其光折射率，可以提高導(dǎo)電薄膜的透光率，以便提高其應(yīng)用產(chǎn)品的可視效果，增強(qiáng)用戶體驗(yàn)。

以上所述實(shí)施例的各技術(shù)特征可以進(jìn)行任意的組合，為使描述簡潔，未對(duì)上述實(shí)施例中的各個(gè)技術(shù)特征所有可能的組合都進(jìn)行描述，然而，只要這些技術(shù)特征的組合不存在矛盾，都應(yīng)當(dāng)認(rèn)為是本說明書記載的范圍。

以上所述實(shí)施例僅表達(dá)了本實(shí)用新型的幾種實(shí)施方式，其描述較為具體和詳細(xì)，但并不能因此而理解為對(duì)實(shí)用新型專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。因此，本實(shí)用新型專利的保護(hù)范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。