本實(shí)用新型涉及廢氣處理領(lǐng)域，特別涉及一種半導(dǎo)體蝕刻間污染物處理系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，半導(dǎo)體的清洗和蝕刻等過程產(chǎn)生大量的分子級污染物，為了防止污染，實(shí)際生產(chǎn)中設(shè)置用于加工半導(dǎo)體的蝕刻間，并對室外引入的新風(fēng)進(jìn)行簡單過濾處理，因此污染有效去除蝕刻間因半導(dǎo)體加工產(chǎn)生的污染物，因此不能保證半導(dǎo)體生產(chǎn)所需的潔凈度，最終影響半導(dǎo)體成品的質(zhì)量。

可見，現(xiàn)有技術(shù)還有待改進(jìn)和提高。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)的不足之處，本實(shí)用新型的目的在于提供一種半導(dǎo)體蝕刻間污染物處理系統(tǒng)，旨在有效處理半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的污染物并提高半導(dǎo)體生產(chǎn)的潔凈度。

為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型采取了以下技術(shù)方案：

一種半導(dǎo)體蝕刻間污染物處理系統(tǒng)，包括設(shè)置于蝕刻間外的新風(fēng)機(jī)，所述新風(fēng)機(jī)通過管道與蝕刻間側(cè)面的回風(fēng)夾道連接，還包括將半導(dǎo)體清洗機(jī)、蝕刻機(jī)在蝕刻間中進(jìn)行隔離的隔離間，設(shè)置于半導(dǎo)體清洗機(jī)上方的排風(fēng)罩，通過管道與所述排風(fēng)罩連通的無機(jī)廢氣處理系統(tǒng)，通過管道與所述隔離間下部連通的有機(jī)廢氣處理系統(tǒng)，以及設(shè)置于蝕刻間及隔離間上方的若干個(gè)風(fēng)機(jī)過濾單元。

所述的半導(dǎo)體蝕刻間污染物處理系統(tǒng)中，所述有機(jī)廢氣處理系統(tǒng)包括沸石轉(zhuǎn)輪濃縮設(shè)備和焚化爐。

所述的半導(dǎo)體蝕刻間污染物處理系統(tǒng)中，所述無機(jī)廢氣處理系統(tǒng)包括一水洗式洗滌塔。

所述的半導(dǎo)體蝕刻間污染物處理系統(tǒng)中，所述連接水洗式洗滌塔與排風(fēng)罩的管道中還設(shè)置有第一化學(xué)過濾器。

所述的半導(dǎo)體蝕刻間污染物處理系統(tǒng)中，所述蝕刻間的下方連通有回風(fēng)層，所述回風(fēng)層與回風(fēng)夾道之間設(shè)置有水噴淋設(shè)備。

所述的半導(dǎo)體蝕刻間污染物處理系統(tǒng)中，所述蝕刻間與回風(fēng)層之間設(shè)置有第二化學(xué)過濾器。

所述的半導(dǎo)體蝕刻間污染物處理系統(tǒng)中，所述第二化學(xué)過濾器包括上下兩層疊置的圓筒化學(xué)過濾器，上層化學(xué)過濾器填裝有經(jīng)氫氧化鉀浸漬過的活性炭，下層化學(xué)過濾器填裝有經(jīng)硫酸銅和硫酸浸漬過的活性炭。

所述的半導(dǎo)體蝕刻間污染物處理系統(tǒng)中，各個(gè)所述風(fēng)機(jī)過濾單元的入口分別設(shè)置有第三化學(xué)過濾器。

有益效果：

本實(shí)用新型提供了一種半導(dǎo)體蝕刻間污染物處理系統(tǒng)，包括設(shè)置于蝕刻間外的新風(fēng)機(jī)，將半導(dǎo)體清洗機(jī)、蝕刻機(jī)在蝕刻間中進(jìn)行隔離的隔離間，設(shè)置于半導(dǎo)體清洗機(jī)上方的排風(fēng)罩，通過管道與所述排風(fēng)罩連通的無機(jī)廢氣處理系統(tǒng)，通過管道與所述隔離間下部連通的有機(jī)廢氣處理系統(tǒng)，以及設(shè)置于蝕刻間及隔離間上方的若干個(gè)風(fēng)機(jī)過濾單元。本實(shí)用新型提供的半導(dǎo)體蝕刻間污染物處理系統(tǒng)有效去除了半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的分子級污染物，提高了半導(dǎo)體生產(chǎn)的潔凈度。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型提供的半導(dǎo)體蝕刻間污染物處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為本實(shí)用新型提供的半導(dǎo)體蝕刻間污染物處理系統(tǒng)中，第二化學(xué)過濾器的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3為為本實(shí)用新型提供的半導(dǎo)體蝕刻間污染物處理系統(tǒng)中，第三化學(xué)過濾器及風(fēng)機(jī)過濾單元的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

本實(shí)用新型提供一種半導(dǎo)體蝕刻間污染物處理系統(tǒng)，為使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及效果更加清楚、明確，以下參照附圖并舉實(shí)施例對本實(shí)用新型進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。

請參閱圖1，本實(shí)用新型提供一種半導(dǎo)體蝕刻間污染物處理系統(tǒng)。

所述的半導(dǎo)體蝕刻間污染物處理系統(tǒng)包括設(shè)置于蝕刻間901外的新風(fēng)機(jī)10，所述新風(fēng)機(jī)10通過管道與蝕刻間901側(cè)面的回風(fēng)夾道903連接，還包括將半導(dǎo)體清洗機(jī)801、蝕刻機(jī)802在蝕刻間901中進(jìn)行隔離的隔離間91，設(shè)置于半導(dǎo)體清洗機(jī)801上方的排風(fēng)罩401，通過管道與所述排風(fēng)罩401連通的的無機(jī)廢氣處理系統(tǒng)，通過管道與所述隔離間91下部連通的有機(jī)廢氣處理系統(tǒng)，以及設(shè)置于蝕刻間901及隔離間91上方的若干個(gè)風(fēng)機(jī)過濾單元20。

具體地，設(shè)置于蝕刻間上方的風(fēng)機(jī)過濾單元吸入循環(huán)風(fēng)經(jīng)過濾后垂直向下送入蝕刻間，進(jìn)一步進(jìn)入蝕刻間側(cè)面的回風(fēng)夾道；所述新風(fēng)機(jī)吸入室外新風(fēng)進(jìn)行凈化處理后輸送至回風(fēng)夾道與循環(huán)風(fēng)混合，混合后的循環(huán)風(fēng)送至蝕刻間上方，如此形成循環(huán)，保證了蝕刻間空氣的潔凈。此外，半導(dǎo)體清洗機(jī)、蝕刻機(jī)（通常還包括其他工藝設(shè)備）被隔離間隔離開來，操作人員位于隔離間外，蝕刻間上方的風(fēng)機(jī)過濾單元將循環(huán)風(fēng)的分子級污染物過濾將循環(huán)風(fēng)垂直送入隔離間。半導(dǎo)體蝕刻前通常需要進(jìn)行清洗，該工藝過程中產(chǎn)生的分子級污染物主要是酸性、堿性廢氣，設(shè)置于半導(dǎo)體清洗機(jī)上方的排風(fēng)罩手機(jī)所述酸性、堿性廢氣并輸送至后續(xù)的無機(jī)廢氣處理系統(tǒng)進(jìn)行處理，然后排放至大氣。半導(dǎo)體蝕刻去膠工藝中產(chǎn)生的分子級污染物主要是有機(jī)廢氣，通過垂直向下的氣流送入連通蝕刻間下方的無機(jī)廢氣處理系統(tǒng)，經(jīng)處理后排放至大氣。由此可見，本實(shí)用新型通過設(shè)置隔離間以及與隔離間連通的無機(jī)廢氣處理系統(tǒng)和有機(jī)廢氣處理系統(tǒng)，有效地去除了半導(dǎo)體加工過程中產(chǎn)生的廢氣，保證了半導(dǎo)體生產(chǎn)的潔凈度，因此提高了半導(dǎo)體成品的質(zhì)量。

由于半導(dǎo)體加工過程中產(chǎn)生的分子級污染物主要在隔離間中，優(yōu)選地，在隔離間的上方布滿風(fēng)機(jī)過濾單元，以提高隔離間空氣的潔凈度;而在隔離區(qū)以外的蝕刻間的上方設(shè)置的風(fēng)機(jī)過濾單元數(shù)量可相對減少。

進(jìn)一步的，所述的半導(dǎo)體蝕刻間污染物處理系統(tǒng)中，所述有機(jī)廢氣處理系統(tǒng)包括沸石轉(zhuǎn)輪濃縮設(shè)備501和焚化爐502。所述沸石轉(zhuǎn)輪濃縮設(shè)備501用于將收集的有機(jī)廢氣處理為低風(fēng)量、高濃度的廢氣，然后送至焚化爐502焚燒處理。

進(jìn)一步的，所述的半導(dǎo)體蝕刻間污染物處理系統(tǒng)中，所述無機(jī)廢氣處理系統(tǒng)包括一水洗式洗滌塔403。所述水洗式洗滌塔403對酸性、堿性廢氣進(jìn)行水洗，處理后的廢氣排放至大氣。水洗式洗滌塔對酸性、堿性廢氣的吸收效率高且成本低，因此在滿足無機(jī)廢氣處理效果的同時(shí)降低了制作成本。

進(jìn)一步的，所述的半導(dǎo)體蝕刻間污染物處理系統(tǒng)中，所述連接水洗式洗滌塔403與排風(fēng)罩401的管道中還設(shè)置有第一化學(xué)過濾器402。具體地，所述第一化學(xué)過濾器402為筒式化學(xué)過濾器，排風(fēng)罩收集的無機(jī)廢氣經(jīng)第一化學(xué)過濾器進(jìn)行預(yù)處理，再經(jīng)水洗式洗滌塔進(jìn)行吸收，因此提高了無機(jī)廢氣的處理效果。

進(jìn)一步的，所述的半導(dǎo)體蝕刻間污染物處理系統(tǒng)中，所述蝕刻間901的下方連通有回風(fēng)層902，所述回風(fēng)層902與回風(fēng)夾道903之間設(shè)置有水噴淋設(shè)備30。所述水噴淋設(shè)備30對回風(fēng)層的循環(huán)風(fēng)進(jìn)行凈化處理，進(jìn)一步提高了循環(huán)風(fēng)的潔凈度。

進(jìn)一步的，所述的半導(dǎo)體蝕刻間污染物處理系統(tǒng)中，所述蝕刻間901與回風(fēng)層之間902設(shè)置有第二化學(xué)過濾器60。所述第二化學(xué)過濾器60對循環(huán)風(fēng)中的分子級污染物進(jìn)一步過濾吸收，提高了循環(huán)風(fēng)的潔凈度。實(shí)際應(yīng)用中，蝕刻間901與回風(fēng)層之902間通過透風(fēng)的高架地板連接，第二化學(xué)過濾器60設(shè)置于高架地板之下。為了提高凈化效果，通常將高架地板下方布滿第二化學(xué)過濾器60。

圖2示出了所述第二化學(xué)過濾器的結(jié)構(gòu)，包括上下兩層疊置的圓筒化學(xué)過濾器，上層圓筒化學(xué)過濾器601填裝有經(jīng)氫氧化鉀浸漬過的活性炭，下層圓筒化學(xué)過濾器602填裝有經(jīng)硫酸銅和硫酸浸漬過的活性炭，使得所述第二化學(xué)過濾器60對分子級污染物的吸附能力大大提高，進(jìn)一步提高了蝕刻間及隔離間空氣的潔凈度。

請參閱圖3，進(jìn)一步的，所述的半導(dǎo)體蝕刻間污染物處理系統(tǒng)種，各個(gè)所述風(fēng)機(jī)過濾單元20的入口分別設(shè)置有第三化學(xué)過濾器21。具體地，所述風(fēng)機(jī)過濾單元20包括軸流風(fēng)機(jī)201、設(shè)置于軸流風(fēng)機(jī)201出口側(cè)的高效過濾器202、以及控制風(fēng)機(jī)運(yùn)行的控制器203。所述第三化學(xué)過濾器為板式化學(xué)過濾器，設(shè)置于軸流風(fēng)機(jī)的進(jìn)口側(cè)，循環(huán)風(fēng)經(jīng)過第三化學(xué)過濾器凈化處理后再進(jìn)入風(fēng)機(jī)過濾單元，因此進(jìn)一步提到了蝕刻間及隔離間的潔凈度。

綜上所述，本實(shí)用新型提供了一種半導(dǎo)體蝕刻間污染物處理系統(tǒng)，包括設(shè)置于蝕刻間外的新風(fēng)機(jī)，將半導(dǎo)體清洗機(jī)、蝕刻機(jī)在蝕刻間中進(jìn)行隔離的隔離間，設(shè)置于半導(dǎo)體清洗機(jī)上方的排風(fēng)罩，通過管道與所述排風(fēng)罩連通的無機(jī)廢氣處理系統(tǒng)，通過管道與所述隔離間下部連通的有機(jī)廢氣處理系統(tǒng)，以及設(shè)置于蝕刻間及隔離間上方的若干個(gè)風(fēng)機(jī)過濾單元，有效去除了半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的分子級污染物，并保證了循環(huán)風(fēng)的潔凈度，因此提高了半導(dǎo)體生產(chǎn)的潔凈度。通過在蝕刻間與回風(fēng)層之間設(shè)置第二化學(xué)過濾器，在回風(fēng)層與回風(fēng)夾道之間設(shè)置水噴淋裝置，以及在風(fēng)機(jī)過濾單元進(jìn)口設(shè)置第三化學(xué)過濾裝置，進(jìn)一步提高了循環(huán)風(fēng)的潔凈度，即提高了半導(dǎo)體生產(chǎn)的潔凈度。

可以理解的是，對本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來說，可以根據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)方案及其實(shí)用新型構(gòu)思加以等同替換或改變，而所有這些改變或替換都應(yīng)屬于本實(shí)用新型所附的權(quán)利要求的保護(hù)范圍。