技術(shù)總結(jié)
本實(shí)用新型提供一種脈沖激光激勵的電磁脈沖輻射裝置，利用脈沖激光作為激勵源，與金屬靶材料相互作用產(chǎn)生強(qiáng)電流脈沖驅(qū)動發(fā)射天線產(chǎn)生電磁脈沖，實(shí)現(xiàn)光能向微波輻射能量的轉(zhuǎn)換，從而獲得比較穩(wěn)定可靠的電磁脈沖輻射。同時脈沖激光轟擊金屬靶材料會產(chǎn)生等離子體噴射，同時在金屬靶桿上產(chǎn)生瞬態(tài)電流脈沖，利用同軸線纜將電流脈沖引導(dǎo)到微波暗室，驅(qū)動發(fā)射天線發(fā)射電磁脈沖輻射。一種脈沖激光激勵的電磁脈沖輻射裝置，包括脈沖激光打靶系統(tǒng)和測試環(huán)境；其中脈沖激光打靶系統(tǒng)包括脈沖激光器1、聚焦透鏡2、真空腔體3、金屬靶4、玻璃窗口法蘭6、真空電轉(zhuǎn)接法蘭7以及金屬靶桿10；測試環(huán)境包括發(fā)射天線8和微波暗室9。

技術(shù)研發(fā)人員：易濤;于瑞珍;李廷帥;江少恩
受保護(hù)的技術(shù)使用者：中國工程物理研究院激光聚變研究中心
文檔號碼：201621323448
技術(shù)研發(fā)日：2016.12.05
技術(shù)公布日：2017.09.29