1.一種脈沖激光激勵的電磁脈沖輻射裝置，其特征在于，包括脈沖激光打靶系統(tǒng)和測試環(huán)境；
所述脈沖激光打靶系統(tǒng)包括脈沖激光器(1)、聚焦透鏡(2)、真空腔體(3)、金屬靶(4)、玻璃窗口法蘭(6)、真空電轉(zhuǎn)接法蘭(7)以及金屬靶桿(10)；
所述聚焦透鏡(2)放置于玻璃窗口法蘭(6)前方，其中兩者的距離為所述聚焦透鏡(2)的焦距；
所述玻璃窗口法蘭(6)和真空電轉(zhuǎn)接法蘭(7)分別設置在真空腔體(3)的外壁上；
所述金屬靶(4)固定在金屬靶桿(10)上，金屬靶桿(10)安裝在真空腔體(3)的內(nèi)部；
所述脈沖激光器(1)發(fā)射的脈沖激光經(jīng)聚焦透鏡(2)聚焦后經(jīng)過玻璃窗口法蘭(6)導入真空腔體(3)，并輻照在金屬靶(4)上；
所述測試環(huán)境包括發(fā)射天線(8)和微波暗室(9)；其中發(fā)射天線(8)放置在微波暗室(9)的內(nèi)部作為發(fā)射源；
同軸線纜(5)經(jīng)過真空電轉(zhuǎn)接法蘭(7)將金屬靶桿(10)與發(fā)射天線(8)連接起來，其中發(fā)射天線(8)被同軸線纜(5)傳遞來的由脈沖激光激勵產(chǎn)生的電流脈沖驅(qū)動。
2.如權(quán)利要求1所述的一種脈沖激光激勵的電磁脈沖輻射裝置，其特征在于，所述真空腔體(3)為球形，或柱形金屬密閉結(jié)構(gòu)。
3.如權(quán)利要求1所述的一種脈沖激光激勵的電磁脈沖輻射裝置，其特征在于，所述金屬靶(4)通過焊接或?qū)щ娔z粘貼固定在金屬靶桿(10)上。