本實(shí)用新型涉及的是激光技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種基于大面熒光吸收的板條放大自發(fā)輻射抑制金屬化過渡層結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)：

隨著激光技術(shù)的發(fā)展，各類激光器，包括氣體、液體、半導(dǎo)體、固體和光纖等激光器在科研、工業(yè)、生活、軍事等領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用。其中，由于固體激光器具有結(jié)構(gòu)緊湊、性能穩(wěn)定、光束質(zhì)量好等優(yōu)點(diǎn)，其受到大量關(guān)注和研究。然而，在高功率激光領(lǐng)域，增益介質(zhì)如何實(shí)現(xiàn)有效的泵浦吸收和散熱對激光效率和光束質(zhì)量提升至關(guān)重要。端面泵浦板條固體激光器既可滿足高效泵浦吸收，同時(shí)能夠通過大面實(shí)現(xiàn)高效冷卻，其在高功率高光束質(zhì)量激光系統(tǒng)中有著重要的研究價(jià)值和應(yīng)用前景。然而，對于大尺寸板條增益介質(zhì)，如何牢固可靠地與金屬熱沉焊接在一起對板條散熱、傳輸波前影響至關(guān)重要。通常，板條大面鍍有一層二氧化硅（SiO₂）倏逝膜，其與常用的Cu、WCu等金屬熱沉無法直接采用In焊接在一起，附著力不夠，同時(shí)容易破壞SiO₂倏逝膜。另外，由于高功率泵浦下板條內(nèi)部自發(fā)輻射熒光很強(qiáng)，如何降低小于全反角的自發(fā)輻射熒光在板條兩個(gè)大面之間來回反射放大對激光效率提升有著重要影響。

因此，當(dāng)前迫切需要一種既能夠方便板條可靠焊接，同時(shí)能夠?qū)鍡l內(nèi)部大部分小于全反角的自發(fā)輻射熒光吸收，抑制板條內(nèi)部放大自發(fā)輻射的解決方案。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的，就是針對現(xiàn)有技術(shù)所存在的不足，而提供一種基于大面熒光吸收的板條放大自發(fā)輻射抑制金屬化過渡層結(jié)構(gòu)，該方案采用金屬化過渡層抑制板條自發(fā)輻射，既能夠方便板條可靠焊接，同時(shí)能夠?qū)鍡l內(nèi)部大部分小于全反角的自發(fā)輻射熒光吸收，抑制板條內(nèi)部放大自發(fā)輻射。

本方案是通過如下技術(shù)措施來實(shí)現(xiàn)的：

一種基于大面熒光吸收的板條放大自發(fā)輻射抑制金屬化過渡層結(jié)構(gòu)，包括有從下到上依次設(shè)置的板條、倏逝膜、鍺層、鉑層和金層；倏逝膜鍍在板條上；鍺層鍍在倏逝膜上；鉑層鍍在鍺層上；金層鍍在鉑層上。

作為本方案的優(yōu)選：金層通過焊料焊接在熱沉上。

作為本方案的優(yōu)選：鍺層、鉑層和金層的厚度能夠調(diào)節(jié)。

作為本方案的優(yōu)選：焊料為銦。

作為本方案的優(yōu)選：倏逝膜為二氧化硅。

本方案的有益效果可根據(jù)對上述方案的敘述得知，由于在該方案中鍺層既能夠增強(qiáng)與SiO₂倏逝膜的附著力，又能夠吸收入射到其內(nèi)的2μm以下波長的自發(fā)輻射熒光；鉑層能夠?qū)ψ园l(fā)輻射熒光起到阻隔作用；金層有利于與焊料形成合金，從而將板條牢固焊接在金屬熱沉上；本方案既能夠方便板條可靠焊接，同時(shí)能夠?qū)鍡l內(nèi)部大部分小于全反角的自發(fā)輻射熒光吸收，抑制板條內(nèi)部放大自發(fā)輻射，提高板條激光效率。

由此可見，本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)和進(jìn)步，其實(shí)施的有益效果也是顯而易見的。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中，1為板條，2為倏逝膜，3為鍺層，4為鉑層，5為金層。

具體實(shí)施方式

本說明書中公開的所有特征，或公開的所有方法或過程中的步驟，除了互相排斥的特征和/或步驟以外，均可以以任何方式組合。

本說明書（包括任何附加權(quán)利要求、摘要和附圖）中公開的任一特征，除非特別敘述，均可被其他等效或具有類似目的的替代特征加以替換。即，除非特別敘述，每個(gè)特征只是一系列等效或類似特征中的一個(gè)例子而已。

如圖所示，本方案包括有從下到上依次設(shè)置的板條、倏逝膜、鍺層、鉑層和金層；倏逝膜鍍在板條上；鍺層鍍在倏逝膜上；鉑層鍍在鍺層上；金層鍍在鉑層上。金層通過焊料焊接在熱沉上。鍺層、鉑層和金層的厚度能夠調(diào)節(jié)。焊料為銦。倏逝膜為二氧化硅。

各層的鍍膜方式為熱蒸發(fā)鍍膜法或電子束鍍膜法或磁控濺射鍍膜法。

實(shí)施例：

選用板條（1）為Yb:YAG晶體，二氧化硅（SiO₂）倏逝膜（2）厚度約3μm。采用磁控濺射法按順序依次鍍Ge（3）、Pt（4）和Au（5）三層金屬化層，厚度分別為1μm、0.5μm和2μm。采用此方式設(shè)計(jì)的金屬化過渡層結(jié)構(gòu)能夠有效抑制板條的自發(fā)輻射熒光，能夠能夠?qū)鍡l內(nèi)部大部分小于全反角的自發(fā)輻射熒光吸收，焊接安全可靠，具有良好的使用效果。

本實(shí)用新型并不局限于前述的具體實(shí)施方式。本實(shí)用新型擴(kuò)展到任何在本說明書中披露的新特征或任何新的組合，以及披露的任一新的方法或過程的步驟或任何新的組合。