本實(shí)用新型涉及一種基板處理裝置，更為具體地，涉及一種基板處理裝置，所述基板處理裝置可使得將藥液涂敷于基板的藥液涂敷噴嘴的清洗結(jié)構(gòu)以及工藝簡化，并且可使得收率提高。

背景技術(shù)：

在對(duì)LCD等平板顯示器進(jìn)行制造的工藝中伴隨將抗蝕劑液體等的藥液涂敷于由玻璃等制作的被處理基板的表面的涂層(coating)工藝。在LCD的尺寸較小的現(xiàn)有技術(shù)中使用了旋轉(zhuǎn)(spin)涂層方法，所述旋轉(zhuǎn)涂層方法在將藥液涂敷于被處理基板的中央部的同時(shí)，使得被處理基板旋轉(zhuǎn)，據(jù)此，將藥液涂敷于被處理基板的表面。

但是，隨著LCD畫面的尺寸大型化，旋轉(zhuǎn)涂層方式幾乎不被使用，并且正使用如下方式的涂層方法：使得具有與被處理基板的寬度相對(duì)應(yīng)的長度的狹縫(slit)形態(tài)的狹縫噴嘴與被處理基板以相對(duì)的形式進(jìn)行移動(dòng)，同時(shí)從狹縫噴嘴將藥液涂敷于被處理基板的表面。

最近，作為一種在所規(guī)定的時(shí)間將藥液涂層于更多數(shù)量的被處理基板的表面的方法的部分，在日本公開專利公報(bào)第2005-243670號(hào)公開一種如下形式的技術(shù)：設(shè)置有懸浮平臺(tái)，所述懸浮平臺(tái)通過沿著基板得到搬入并涂敷且搬出的方向噴出空氣來使得基板懸浮，在其兩側(cè)設(shè)置有形成為吸附板等的基板排出裝置，通過停止?fàn)顟B(tài)的狹縫噴嘴來將藥液供給于連續(xù)被供給的被處理基板的表面并進(jìn)行涂層。

另外，在懸浮式基板涂層器(coater)裝置中，若在狹縫噴嘴的出口殘留或固著有藥液，則具有的問題在于，在對(duì)接下來的基板進(jìn)行藥液涂敷工藝時(shí)，藥液難以被涂敷為均勻的厚度，并且由于藥液的不均勻的涂敷，而產(chǎn)生污點(diǎn)，由此，狹縫噴嘴的出口可需要得到周期性地清洗。

但是，在現(xiàn)有的情況下，具有的問題在于，由于通過配置于懸浮平臺(tái)的上部(狹縫噴嘴的側(cè)部)的清洗模塊來實(shí)現(xiàn)狹縫噴嘴的清洗，因此為了將清洗模塊配置于懸浮平臺(tái)與狹縫噴嘴之間，狹縫噴嘴與清洗模塊必須經(jīng)過復(fù)雜的移動(dòng)過程，由此，工藝效率及收率低下，并且用于移動(dòng)清洗模塊的移動(dòng)設(shè)備變復(fù)雜。

換句話說，在現(xiàn)有的情況下，需要經(jīng)過如下形式的復(fù)雜的移動(dòng)過程：為了用清洗模塊對(duì)狹縫噴嘴進(jìn)行清洗，首先，使得狹縫噴嘴向上部進(jìn)行向上移動(dòng)，以便狹縫噴嘴相對(duì)于懸浮平臺(tái)的上面配置于一定高度(在狹縫噴嘴的下部可配置清洗模塊的高度)，并且在使得配置于懸浮平臺(tái)的上部的清洗模塊進(jìn)行水平移動(dòng)，并配置于狹縫噴嘴的下部的狀態(tài)下，再次使得狹縫噴嘴向下部進(jìn)行向下移動(dòng)，從而使得狹縫噴嘴與清洗模塊進(jìn)行接觸。

并且，需要經(jīng)過如下繁瑣的移動(dòng)過程：即使在通過清洗模塊的清洗工藝完成之后，首先，在使得狹縫噴嘴向上部進(jìn)行向上移動(dòng)(解除對(duì)于清洗模塊的接觸)的狀態(tài)下，需要使得清洗模塊向狹縫噴嘴的側(cè)部進(jìn)行水平移動(dòng)(躲避)，并且為了執(zhí)行藥液涂敷工藝，再次使得狹縫噴嘴向鄰接于懸浮平臺(tái)的上面的高度(實(shí)質(zhì)上，藥液得到涂敷的高度)進(jìn)行向下移動(dòng)，由此，具有的問題在于，不僅工藝效率低下，而且用于使得清洗模塊移動(dòng)的移動(dòng)裝置變復(fù)雜，并且狹縫噴嘴及清洗模塊的移動(dòng)控制較為繁瑣與不便。

不僅如此，在現(xiàn)有的情況下，具有的問題在于，由于在懸浮平臺(tái)的上部實(shí)現(xiàn)狹縫噴嘴的清洗，因此在狹縫噴嘴得到去除的異物(例如，藥液)掉落至懸浮平臺(tái)的上面，由此，懸浮平臺(tái)的上面被二次污染。

由此，最近，雖然用于使得將藥液進(jìn)行涂敷的狹縫噴嘴的清洗工藝簡化的多種研究正在進(jìn)行，但是仍存在不足，因此需要對(duì)此的開發(fā)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的在于，提供一種基板處理裝置，所述基板處理裝置可使得涂敷藥液的藥液涂敷噴嘴的清洗工藝簡化。

特別是，本實(shí)用新型的目的在于，可縮短在進(jìn)行藥液涂敷噴嘴的清洗工藝時(shí)藥液涂敷噴嘴及清洗單元的移動(dòng)路徑。

此外，本實(shí)用新型的目的在于，可提高基板處理效率及工藝效率，并且可提高收率。

此外，本實(shí)用新型的目的在于，將結(jié)構(gòu)簡化并且可容易地執(zhí)行控制。

此外，本實(shí)用新型的目的在于，可防止由于從藥液涂敷噴嘴去除的異物而導(dǎo)致的二次污染。

根據(jù)用于達(dá)成所述的本實(shí)用新型的目的的本實(shí)用新型的優(yōu)選的實(shí)施例，處理對(duì)于被處理基板的藥液涂敷工藝的基板處理裝置包括：基板移送部，其沿著預(yù)先設(shè)定的移送路徑來移送基板，并且設(shè)置有向上下貫通于基板的移送路徑中間的貫通區(qū)域；藥液涂敷噴嘴，其配置于基板移送部的上部，并且將藥液涂敷于基板的上面；清洗單元，其通過貫通區(qū)域?qū)λ幰和糠髧娮斓膰娮爝吘?lip)進(jìn)行清洗。

其目的在于，使得將藥液涂敷于基板的表面的藥液涂敷噴嘴的清洗工藝簡化，并且提高工藝效率。

特別是，本實(shí)用新型可得到的有利的效果在于，通過清洗單元來清洗藥液涂敷噴嘴，所述清洗單元穿過形成于基板移送部的貫通區(qū)域從基板移送部的下部進(jìn)入，據(jù)此，縮短在進(jìn)行藥液涂敷噴嘴的清洗工藝時(shí)藥液涂敷噴嘴及清洗單元的移動(dòng)路徑(即，移動(dòng)距離)，并且可使得藥液涂敷噴嘴的清洗結(jié)構(gòu)及工藝簡化，并提高收率。

換句話說，具有需要經(jīng)過如下復(fù)雜的移動(dòng)過程的問題：用于清洗藥液涂敷噴嘴的清洗模塊配置于基板移送部的上部的結(jié)構(gòu)中具有的問題在于，為了用清洗模塊對(duì)狹縫噴嘴進(jìn)行清洗，首先，使得狹縫噴嘴向上部進(jìn)行向上移動(dòng)，以便狹縫噴嘴相對(duì)于懸浮平臺(tái)的上面配置于一定高度(清洗模塊可配置于狹縫噴嘴的下部的高度)，并且在使得配置于懸浮平臺(tái)的上部的清洗模塊進(jìn)行水平移動(dòng)并配置于狹縫噴嘴的下部的狀態(tài)下，再次使得狹縫噴嘴向下部進(jìn)行向下移動(dòng)，從而使得狹縫噴嘴與清洗模塊接觸。

并且，具有的問題在于，需要經(jīng)過如下繁瑣的移動(dòng)過程：即使在完成通過清洗模塊的清洗工藝之后，首先，在將狹縫噴嘴向上部進(jìn)行向上移動(dòng)從而解除對(duì)于清洗模塊的接觸的狀態(tài)下，需要使得清洗模塊向狹縫噴嘴的側(cè)部進(jìn)行水平移動(dòng)從而躲避，并且為了執(zhí)行藥液涂敷工藝，再次需要使得狹縫噴嘴向鄰接于懸浮平臺(tái)的上面的高度(即，實(shí)質(zhì)上藥液得到涂敷的高度)進(jìn)行向下移動(dòng)，由此，不僅降低工藝效率，而且用于移動(dòng)清洗模塊的移動(dòng)裝置變復(fù)雜，并且狹縫噴嘴及清洗模塊的移動(dòng)控制較為繁瑣與不便。

但是，本實(shí)用新型可得到的有利的效果在于，通過清洗單元來清洗藥液涂敷噴嘴，所述清洗單元穿過形成于基板移送部的貫通區(qū)域從基板移送部的下部進(jìn)入，據(jù)此，由于在進(jìn)行藥液涂敷噴嘴的清洗工藝時(shí)，不需要另外調(diào)節(jié)藥液涂敷噴嘴的高度，僅使得清洗單元單純地進(jìn)行上下移動(dòng)就可以，因此可縮短藥液涂敷噴嘴的清洗工藝所需要的藥液涂敷噴嘴及清洗單元的移動(dòng)路徑，并且提高基板處理效率及工藝效率。

并且，在本實(shí)用新型中可得到的有利的效果在于，由于在進(jìn)行藥液涂敷噴嘴的清洗工藝時(shí)，不使得藥液涂敷噴嘴移動(dòng)，僅使得清洗單元進(jìn)行上下移動(dòng)就可以，因此可使得用于移動(dòng)清洗模塊的移動(dòng)裝置進(jìn)一步簡化，并且可容易地執(zhí)行藥液涂敷噴嘴及清洗單元的移動(dòng)控制。

此外，在本實(shí)用新型中可得到的有利的效果在于，由于在形成于基板移送部的貫通區(qū)域上實(shí)現(xiàn)藥液涂敷噴嘴的清洗，因此在清洗工藝時(shí)，從藥液涂敷噴嘴清除的異物(例如，藥液)不掉落至基板移送部的上面，而是可穿過貫通區(qū)域而被收集至基板移送部的下部。由此，預(yù)先防止由于從藥液涂敷噴嘴清除的異物(例如，藥液)掉落至基板移送部的上面而導(dǎo)致的基板移送部的二次污染。

基板移送部可形成為沿著預(yù)先設(shè)定的移送路徑可移送基板的多種結(jié)構(gòu)。

例如，基板移送部構(gòu)成為，將基板以懸浮于空中的狀態(tài)進(jìn)行移送。優(yōu)選地，基板移送部利用通過超聲波而產(chǎn)生的振動(dòng)能量來將所述基板以懸浮的狀態(tài)進(jìn)行移送。

如上所述，可得到的有利的效果在于，通過由超聲波而產(chǎn)生的振動(dòng)能量來使得基板懸浮，據(jù)此，可對(duì)基板的懸浮力進(jìn)行精密地控制，并且使得在基板被搬送期間由于外部接觸而產(chǎn)生的損傷以及變形最小化。特別是，利用通過超聲波而產(chǎn)生的振動(dòng)能量的懸浮方式可得到的有利的效果在于，由于在基板的整體上可形成均勻的懸浮力，因此在從藥液涂敷噴嘴涂敷藥液的涂敷區(qū)域中更為精確地控制對(duì)于藥液涂敷噴嘴的基板的配置高度并保持。根據(jù)不同的情況，作為基板移送部也可使用噴射氣體從而使得基板懸浮的氣體噴射部。不同地，也可構(gòu)成為基板以接觸于基板移送部的狀態(tài)得到移送。

更為具體地，基板移送部包括：第一振動(dòng)板，其配置于基板的移送路徑，并且通過由超聲波而產(chǎn)生的振動(dòng)能量來使得基板懸??；第二振動(dòng)板，其沿著基板被移送的方向以從第一振動(dòng)板隔開的形式配置，并且通過由超聲波而產(chǎn)生的振動(dòng)能量來使得基板懸浮，并且在第一振動(dòng)板與第二振動(dòng)板間的得到隔開的之間形成有向上下得到貫通的貫通區(qū)域。

優(yōu)選地，設(shè)置于第一振動(dòng)板與第二振動(dòng)板之間的貫通區(qū)域沿著與基板被移送的方向呈垂直的方向連續(xù)地形成。

此時(shí)，第一振動(dòng)板與第二振動(dòng)板形成為沿著基板被移送的方向能夠進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)，并且貫通區(qū)域若第一振動(dòng)板與第二振動(dòng)板相互隔開，則可形成于第一振動(dòng)板與第二振動(dòng)板之間。反之，在第一振動(dòng)板與第二振動(dòng)板相互接近的情況下，在藥液涂敷單元的下部不存在貫通區(qū)域。

在此，所謂的第一振動(dòng)板與第二振動(dòng)板沿著基板被移送的方向進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)指的是第一振動(dòng)板與第二振動(dòng)板中至少任意一個(gè)沿著基板被移送的方向進(jìn)行移動(dòng)。

例如，第一振動(dòng)板以可移動(dòng)的形式設(shè)置，并且可形成為沿著基板被移送的方向能夠與得到固定設(shè)置的第二振動(dòng)板接近以及隔開。作為另外的一個(gè)例子，第二振動(dòng)板以可移動(dòng)的形式設(shè)置，并且可形成為沿著基板被移送的方向能夠與得到固定設(shè)置的第一振動(dòng)板接近以及隔開。作為又另外的一個(gè)例子，第一振動(dòng)板以可移動(dòng)的形式設(shè)置，并且形成為沿著基板被移送的方向能夠與第二振動(dòng)板接近以及隔開，并且第二振動(dòng)板也以可移動(dòng)的形式設(shè)置，并且可形成為沿著基板被移送的方向能夠與第一振動(dòng)板接近以及隔開。

如上所述，基板移送部的貫通區(qū)域的設(shè)置是為了藥液涂敷噴嘴的進(jìn)入，由于僅在藥液涂敷噴嘴的清洗工藝時(shí)，第一振動(dòng)板與第二振動(dòng)板以相互隔開的形式配置，因此在藥液涂敷噴嘴的下部設(shè)置有貫通區(qū)域。但是，在藥液被涂敷于基板的上面的藥液涂敷工藝中，由于第一振動(dòng)板與第二振動(dòng)板以相互接近的形式配置，因此不存在貫通區(qū)域，并且在基板經(jīng)過第一振動(dòng)板與第二振動(dòng)板的上部期間，以沒有懸浮力的中斷(由于貫通區(qū)域而產(chǎn)生的懸浮力中斷)的形式可使得基板穩(wěn)定地懸浮。

作為另一個(gè)例子，基板移送部構(gòu)成為配置于藥液涂敷噴嘴的下部的振動(dòng)板，貫通區(qū)域可通過去除振動(dòng)板的一部分來形成。在此，所謂的通過去除振動(dòng)板的一部分來形成貫通區(qū)域指的是在振動(dòng)板的一部分區(qū)域鉆孔，或者切開振動(dòng)板的一部分區(qū)域。

清洗單元可構(gòu)成為直接與噴嘴邊緣接觸并且以接觸的形式對(duì)噴嘴邊緣進(jìn)行清洗。更為具體地，清洗單元包括：移送導(dǎo)向部，其沿著與基板被移送的方向呈垂直的方向得到配置；清洗部件，其形成為接觸于噴嘴邊緣并且隨著移送導(dǎo)向部進(jìn)行直線移動(dòng)，并清除殘留于噴嘴邊緣的藥液。此時(shí)，可得到的有利的效果在于，用類似于橡膠或硅的彈性體形成清洗部件，據(jù)此，使得由于清洗部件接觸于噴嘴邊緣而導(dǎo)致的噴嘴邊緣的損傷最小化。

優(yōu)選地，基板處理裝置包括移動(dòng)部，所述移動(dòng)部使得清洗單元沿著向上方向移動(dòng)，以便清洗單元移動(dòng)至清洗噴嘴邊緣的清洗位置以及從噴嘴邊緣隔開的等待位置。

在此，所謂的清洗位置指的是清洗單元直接接觸于噴嘴邊緣的位置，所謂的等待位置指的是為了使得清洗單元不接觸于噴嘴邊緣，而從噴嘴邊緣隔開的位置。更為具體地，清洗單元在等待位置以與基板移送部的下部隔開的形式配置，配置于等待位置的清洗單元從下部向上部穿過貫通區(qū)域，并移動(dòng)至清洗位置。

此時(shí)，清洗單元從等待位置向清洗位置移動(dòng)(或從清洗位置向等待位置移動(dòng))期間，保持藥液涂敷噴嘴的高度(對(duì)于基板的藥液涂敷噴嘴的間隔高度)一定。如上所述，可得到的有利的效果在于，在藥液涂敷噴嘴藥液被涂敷之前，使得藥液涂敷噴嘴的移動(dòng)最小化，據(jù)此，使得由于藥液涂敷噴嘴的移動(dòng)誤差或控制誤差而產(chǎn)生的藥液涂敷錯(cuò)誤最小化。

此外，可包括底涂單元，所述底涂單元在將所述藥液涂敷于基板之前，穿過貫通區(qū)域在藥液涂敷噴嘴的噴嘴邊緣形成藥液珠(bead)。底涂單元與清洗單元一樣，形成為可向?qū)⑺幰褐樾纬捎趪娮爝吘壍闹樾纬晌恢?參考清洗單元的清洗位置)以及從噴嘴邊緣隔開的等待位置移動(dòng)。

如上所述，可得到的有利的效果在于，通過底涂單元來在噴嘴邊緣形成藥液珠，所述底涂單元穿過形成于基板移送部的貫通區(qū)域從基板移送部的下部進(jìn)入，據(jù)此，縮短在進(jìn)行藥液珠形成工藝時(shí)藥液涂敷噴嘴及底涂單元的移動(dòng)路徑，并且可使得噴嘴邊緣的藥液珠形成結(jié)構(gòu)及工藝簡化，并提高收率。

并且，在現(xiàn)有技術(shù)中，由于底涂單元位于基板的移送路徑的上部，因此為了形成噴嘴邊緣的珠，而需要向位于從基板移送部充分高的高度的底涂單元移動(dòng)，為此，起重機(jī)架(gantry)(使得藥液涂敷噴嘴移動(dòng)的起重機(jī)架)需要形成得非常高。但是，在本實(shí)用新型中得到的優(yōu)點(diǎn)在于，由于底涂單元180位于基板移送部的下部，因此可將起重機(jī)架構(gòu)成得較低，由此，不僅美觀上更加整潔，而且可以以使得比現(xiàn)有技術(shù)變輕的起重機(jī)架僅移動(dòng)更短的路徑的形式控制，從而控制變得容易，可更為廉價(jià)地構(gòu)成起重機(jī)架。

根據(jù)本實(shí)用新型的其他的優(yōu)選的實(shí)施例，處理對(duì)于被處理基板的藥液涂敷工藝的基板處理裝置包括：基板移送部，其包括第一振動(dòng)板和第二振動(dòng)板，所述第一振動(dòng)板配置于基板的移送路徑，并且通過由超聲波而產(chǎn)生的振動(dòng)能量來使得基板懸浮，所述第二振動(dòng)板配置為沿著基板被移送的方向從第一振動(dòng)板隔開，并且通過由超聲波而產(chǎn)生的振動(dòng)能量來使得基板懸浮，并且在第一振動(dòng)板與第二振動(dòng)板之間形成有貫通區(qū)域；藥液涂敷噴嘴，其配置于基板移送部的上部，并且將藥液涂敷于基板的上面；清洗單元，其通過貫通區(qū)域以接觸的形式對(duì)藥液涂敷噴嘴的噴嘴邊緣(lip)進(jìn)行清洗；移動(dòng)部，其使得清洗單元沿著向上方向移動(dòng)，以便清洗單元移動(dòng)至清洗噴嘴邊緣的清洗位置以及從噴嘴邊緣隔開的等待位置。

如上所述，可得到的有利的效果在于，通過清洗單元來清洗藥液涂敷噴嘴，所述清洗單元穿過形成于第一振動(dòng)板與第二振動(dòng)板之間的貫通區(qū)域從基板移送部的下部進(jìn)入，據(jù)此，縮短在進(jìn)行藥液涂敷噴嘴的清洗工藝時(shí)藥液涂敷噴嘴及清洗單元的移動(dòng)路徑(即，移動(dòng)距離)，并且可使得藥液涂敷噴嘴的清洗結(jié)構(gòu)及工藝簡化，并提高收率。

第一振動(dòng)板與第二振動(dòng)板形成為沿著基板被移送的方向能夠進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)，并且貫通區(qū)域若第一振動(dòng)板與第二振動(dòng)板相互隔開，則形成于第一振動(dòng)板與第二振動(dòng)板之間。

清洗單元包括：移送導(dǎo)向部，其沿著與基板被移送的方向呈垂直的方向得到配置；清洗部件，其形成為接觸于噴嘴邊緣并且隨著移送導(dǎo)向部進(jìn)行直線移動(dòng)，并清除殘留于噴嘴邊緣的藥液。

優(yōu)選地，基板處理裝置包括移動(dòng)部，所述移動(dòng)部使得清洗單元沿著向上方向移動(dòng)，以便清洗單元移動(dòng)至清洗噴嘴邊緣的清洗位置以及從噴嘴邊緣隔開的等待位置。更為具體地，清洗單元在等待位置以與基板移送部的下部隔開的形式配置，配置于等待位置的清洗單元從下部向上部穿過貫通區(qū)域，并移動(dòng)至清洗位置。

此時(shí)，清洗單元從等待位置向清洗位置移動(dòng)期間，保持對(duì)于基板的藥液涂敷噴嘴的間隔高度(即，對(duì)于基板的藥液涂敷噴嘴的間隔高度)一定。或者，在清洗單元從清洗位置向等待位置移動(dòng)期間，可保持對(duì)于基板的藥液涂敷噴嘴的間隔高度一定。

此外，可包括底涂單元，所述底涂單元在將所述藥液涂敷于基板之前，穿過貫通區(qū)域在藥液涂敷噴嘴的噴嘴邊緣形成藥液珠。

如上所述，根據(jù)本實(shí)用新型，可得到的有利的效果在于，使得藥液涂敷噴嘴的清洗工藝簡化，并提高工藝效率。

特別是，根據(jù)本實(shí)用新型，可得到的有利的效果在于，通過清洗單元來清洗藥液涂敷噴嘴，所述清洗單元穿過形成于基板移送部的貫通區(qū)域從基板移送部的下部進(jìn)入，據(jù)此，縮短在進(jìn)行藥液涂敷噴嘴的清洗工藝時(shí)藥液涂敷噴嘴及清洗單元的移動(dòng)路徑，并且可使得藥液涂敷噴嘴的清洗結(jié)構(gòu)及工藝簡化，并提高收率。

換句話說，在用于清洗藥液涂敷噴嘴的清洗模塊配置于基板移送部的上部的結(jié)構(gòu)中具有的問題在于，需要經(jīng)過如下復(fù)雜的移動(dòng)過程：為了用清洗模塊對(duì)狹縫噴嘴進(jìn)行清洗，首先，使得狹縫噴嘴向上部進(jìn)行向上移動(dòng)，以便狹縫噴嘴相對(duì)于懸浮平臺(tái)的上面配置于一定高度(例如，清洗模塊可配置于狹縫噴嘴的下部的高度)，并且在使得配置于懸浮平臺(tái)的上部的清洗模塊進(jìn)行水平移動(dòng)并配置于狹縫噴嘴的下部的狀態(tài)下，再次使得狹縫噴嘴向下部進(jìn)行向下移動(dòng)，從而使得狹縫噴嘴與清洗模塊接觸。并且，具有的問題在于，需要經(jīng)過如下繁瑣的移動(dòng)過程：即使在完成通過清洗模塊的清洗工藝之后，首先，在使得狹縫噴嘴向上部進(jìn)行向上移動(dòng)從而解除對(duì)于清洗模塊的接觸的狀態(tài)下，需要通過使得清洗模塊向狹縫噴嘴的側(cè)部進(jìn)行水平移動(dòng)來進(jìn)行躲避，并且為了執(zhí)行藥液涂敷工藝，再次需要使得狹縫噴嘴向鄰接于懸浮平臺(tái)的上面的高度(換句話說，實(shí)質(zhì)上藥液得到涂敷的高度)進(jìn)行向下移動(dòng)，由此，不僅降低工藝效率，而且用于移動(dòng)清洗模塊的移動(dòng)裝置變復(fù)雜，并且狹縫噴嘴及清洗模塊的移動(dòng)控制較為繁瑣與不便。

但是，根據(jù)本實(shí)用新型可得到的有利的效果在于，通過清洗單元來清洗藥液涂敷噴嘴，所述清洗單元穿過形成于基板移送部的貫通區(qū)域從基板移送部的下部進(jìn)入，據(jù)此，由于在進(jìn)行藥液涂敷噴嘴的清洗工藝時(shí)，不需要另外調(diào)節(jié)藥液涂敷噴嘴的高度，僅使得清洗單元單純地進(jìn)行上下移動(dòng)就可以，因此可縮短藥液涂敷噴嘴的清洗工藝所需要的藥液涂敷噴嘴及清洗單元的移動(dòng)路徑，并且提高基板處理效率及工藝效率。

并且，根據(jù)本實(shí)用新型可得到的有利的效果在于，由于在進(jìn)行藥液涂敷噴嘴的清洗工藝時(shí)，不使得藥液涂敷噴嘴移動(dòng)，僅使得清洗單元進(jìn)行上下移動(dòng)就可以，因此可使得用于移動(dòng)清洗模塊的移動(dòng)裝置更加簡化，并且可容易地執(zhí)行藥液涂敷噴嘴及清洗單元的移動(dòng)控制。

此外，根據(jù)本實(shí)用新型可得到的有利的效果在于，由于在形成于基板移送部的貫通區(qū)域上實(shí)現(xiàn)藥液涂敷噴嘴的清洗，因此在清洗工藝時(shí)，從藥液涂敷噴嘴清除的異物(例如，藥液)不掉落至基板移送部的上面，而是可穿過貫通區(qū)域而被收集至基板移送部的下部。由此，預(yù)先防止由于從藥液涂敷噴嘴清除的異物(例如，藥液)掉落至基板移送部的上面而導(dǎo)致的基板移送部的二次污染。

此外，根據(jù)本實(shí)用新型可得到的有利的效果在于，在藥液涂敷噴嘴藥液被涂敷之前，使得藥液涂敷噴嘴的移動(dòng)最小化，據(jù)此，使得由于藥液涂敷噴嘴的移動(dòng)誤差或控制誤差而產(chǎn)生的藥液涂敷錯(cuò)誤最小化。

此外，根據(jù)本實(shí)用新型可得到的有利的效果在于，通過底涂單元來在噴嘴邊緣形成藥液珠，所述底涂單元穿過形成于基板移送部的貫通區(qū)域從基板移送部的下部進(jìn)入，據(jù)此，縮短在進(jìn)行藥液珠形成工藝時(shí)藥液涂敷噴嘴及底涂單元的移動(dòng)路徑，并且可使得噴嘴邊緣的藥液珠形成結(jié)構(gòu)及工藝簡化，并提高收率。

并且，在現(xiàn)有技術(shù)中，由于底涂單元位于基板的移送路徑的上部，因此為了形成噴嘴邊緣的珠，而需要將噴嘴移動(dòng)至位于從基板移送部較高的位置的底涂單元，為此，導(dǎo)引噴嘴的移動(dòng)的起重機(jī)架(gantry)需要形成得非常高。但是，在本實(shí)用新型中得到的優(yōu)點(diǎn)在于，由于底涂單元180位于基板移送部的下部，因此可將起重機(jī)架構(gòu)成得較低，由此，不僅美觀上更加整潔，而且可以以使得比現(xiàn)有技術(shù)變輕的起重機(jī)架僅移動(dòng)更短的路徑的形式進(jìn)行控制，并且控制變得容易，可更為廉價(jià)地構(gòu)成起重機(jī)架。

附圖說明

圖1是用于說明根據(jù)本實(shí)用新型的基板處理裝置的圖，

圖2及圖3是用于說明圖1的清洗單元的結(jié)構(gòu)的圖，

圖4至圖7是用于說明通過圖1的清洗單元的清洗工藝的圖，

圖8是作為根據(jù)本實(shí)用新型的基板處理裝置，用于說明貫通區(qū)域的變形例的圖，

圖9及圖10是作為根據(jù)本實(shí)用新型的基板處理裝置，用于說明底涂(priming)單元的結(jié)構(gòu)及配置結(jié)構(gòu)的圖。

具體實(shí)施方式

以下，雖然參照附圖對(duì)本實(shí)用新型的優(yōu)選的實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說明，但是本實(shí)用新型并非受到實(shí)施例的限制或限定。作為參考，本說明中相同的號(hào)碼實(shí)質(zhì)上指代相同的要素，并且在所述規(guī)則下，可引用其他附圖中所記載的內(nèi)容來說明，并且可省略對(duì)于從業(yè)者判斷為顯而易見的或反復(fù)出現(xiàn)的內(nèi)容。

圖1是用于說明根據(jù)本實(shí)用新型的基板處理裝置的圖，圖2及圖3是用于說明圖1的清洗單元的結(jié)構(gòu)的圖，圖4至圖7是用于說明通過圖1的清洗單元的清洗工藝的圖。

參照圖1至圖7，根據(jù)本實(shí)用新型的處理對(duì)于被處理基板10的藥液涂敷工藝的基板處理裝置1包括：基板移送部100，其沿著預(yù)先設(shè)定的移送路徑來移送基板10，并且設(shè)置有向上下貫通于基板10的移送路徑中間的貫通區(qū)域101；藥液涂敷噴嘴300，其配置于基板移送部100的上部，并且將藥液涂敷于基板10的上面；清洗單元200，其穿過貫通區(qū)域101對(duì)藥液涂敷噴嘴300的噴嘴邊緣(lip)310進(jìn)行清洗。

基板移送部100可形成為沿著預(yù)先設(shè)定的移送路徑可移送基板10的多種結(jié)構(gòu)。

例如，基板移送部100構(gòu)成為，將基板10以懸浮于空中的狀態(tài)進(jìn)行移送。優(yōu)選地，基板移送部100利用通過超聲波而產(chǎn)生的振動(dòng)能量來將所述基板以懸浮的狀態(tài)進(jìn)行移送。

如上所述，可得到的有利的效果在于，通過由超聲波而產(chǎn)生的振動(dòng)能量來使得基板10懸浮，據(jù)此，可對(duì)基板10的懸浮力進(jìn)行精密地控制，并且使得在基板10被搬送期間由于外部接觸而產(chǎn)生的損傷以及變形最小化。

特別是，利用通過超聲波而產(chǎn)生的振動(dòng)能量的懸浮方式可得到的有利的效果在于，由于在基板10的整體上可形成均勻的懸浮力，因此在從藥液涂敷噴嘴涂敷藥液的涂敷區(qū)域中更為精確地控制并保持對(duì)于藥液涂敷噴嘴的基板的配置高度。

作為參考，在本實(shí)用新型的實(shí)施例中，舉例說明了基板移送部100利用通過超聲波而產(chǎn)生的振動(dòng)能量來使得基板10懸浮，但是根據(jù)不同的情況，作為基板移送部也可使用將氣體噴射至基板從而使得基板懸浮的氣體噴射部。不同地，也可構(gòu)成為基板以接觸于基板移送部的狀態(tài)得到移送。

更為具體地，基板移送部100的設(shè)置是為了利用由超聲波而產(chǎn)生的振動(dòng)能量來將基板10以懸浮的狀態(tài)進(jìn)行移送。

例如，基板移送部100包括以獨(dú)立的形式得到分割的多個(gè)振動(dòng)板(例如，第一振動(dòng)板及第二振動(dòng)板)，以便以相互隔開的形式配置。

在此，所謂的多個(gè)振動(dòng)板以獨(dú)立的形式得到分割指的是多個(gè)振動(dòng)板以相互隔開的形式配置，并且通過多個(gè)振動(dòng)板的懸浮力分別個(gè)別地作用于基板10。

作為參考，基板移送部100包括：裝載移送部，其裝載基板10；處理(processing)移送部，其在基板10的表面涂敷藥液；卸載移送部，其卸載涂敷有藥液的基板10。

在清洗處理單元中完成清洗工藝的基板10隨著裝載移送部被移送至處理移送部，并且在移送至處理移送部的基板10的表面涂敷藥液。之后，涂敷有藥液的基板10在隨著卸載移送部被移送期間，通過加熱干燥單元來得到加熱，由此藥液得到干燥。

更為具體地，參照圖2，處理移送部包括至少一個(gè)以上的振動(dòng)板。例如，處理移送部包括：第一振動(dòng)板112，其配置于基板10的移送路徑，并且通過由超聲波而產(chǎn)生的振動(dòng)能量來使得基板10懸??；第二振動(dòng)板114，其配置為沿著基板被移送的方向從第一振動(dòng)板112隔開，并且通過由超聲波而產(chǎn)生的振動(dòng)能量來使得基板10懸浮，并且在第一振動(dòng)板112與第二振動(dòng)板114間的得到隔開的之間形成有向上下得到貫通的貫通區(qū)域101。根據(jù)不同的情況，處理移送部僅構(gòu)成為一個(gè)振動(dòng)板，或者也可構(gòu)成為包括三個(gè)以上的振動(dòng)板。

第一振動(dòng)板112與第二振動(dòng)板114配置于藥液涂敷噴嘴300的下部，并且利用通過超聲波而產(chǎn)生的振動(dòng)能量來相互協(xié)助地使得基板10懸浮。

在此，所謂的基板10得到懸浮指的是基板10以具有規(guī)定間隔的形式浮于空中的狀態(tài)，并且懸浮于第一振動(dòng)板112與第二振動(dòng)板114的上部的基板10以吸附于沿著移送軌道120a進(jìn)行直線移動(dòng)的移送部件120的狀態(tài)得到移送。

此外，所謂的第一振動(dòng)板112與第二振動(dòng)板114相互協(xié)助地使得基板10懸浮指的是通過第一振動(dòng)板112與第二振動(dòng)板114的懸浮力同時(shí)作用于基板10。

第一振動(dòng)板112與第二振動(dòng)板114根據(jù)所需的條件及設(shè)計(jì)樣式可形成為具有多種形態(tài)及尺寸，并且本實(shí)用新型并非受到第一振動(dòng)板112與第二振動(dòng)板114的形態(tài)及尺寸的限制或限定。

例如，第一振動(dòng)板112與第二振動(dòng)板114形成為四角板形狀，并且在第一振動(dòng)板112與第二振動(dòng)板114的底面分別安裝有通過振動(dòng)超聲波來使得振動(dòng)板振動(dòng)的振動(dòng)器。

并且，第一振動(dòng)板112與第二振動(dòng)板114之間的貫通區(qū)域101(間隔間距)可根據(jù)藥液涂敷噴嘴300及清洗單元200的大小及種類得到變更，并且本實(shí)用新型并非受到貫通區(qū)域101的尺寸的限制或限定。

優(yōu)選地，設(shè)置于第一振動(dòng)板112與第二振動(dòng)板114之間的貫通區(qū)域101沿著與基板10被移送的方向呈垂直的方向連續(xù)地形成。

更為具體地，第一振動(dòng)板112與第二振動(dòng)板114形成為沿著基板10被移送的方向能夠進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)，并且貫通區(qū)域若第一振動(dòng)板112與第二振動(dòng)板114相互隔開，則可形成于第一振動(dòng)板112與第二振動(dòng)板114之間。反之，在第一振動(dòng)板112與第二振動(dòng)板114相互接近的情況下，在藥液涂敷單元的下部不存在貫通區(qū)域。

在此，所謂的第一振動(dòng)板112與第二振動(dòng)板114沿著基板10被移送的方向進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)指的是第一振動(dòng)板112與第二振動(dòng)板114中至少任意一個(gè)沿著基板10被移送的方向進(jìn)行移動(dòng)。

例如，第一振動(dòng)板112以可移動(dòng)的形式設(shè)置，并且可形成為沿著基板10被移送的方向能夠與得到固定設(shè)置的第二振動(dòng)板114接近以及隔開。作為另外的一個(gè)例子，第二振動(dòng)板114以可移動(dòng)的形式設(shè)置，并且可形成為沿著基板10被移送的方向能夠與得到固定設(shè)置的第一振動(dòng)板112接近以及隔開。作為又另外的一個(gè)例子，第一振動(dòng)板112以可移動(dòng)的形式設(shè)置，并且形成為沿著基板10被移送的方向能夠與第二振動(dòng)板114接近以及隔開，并且第二振動(dòng)板114也以可移動(dòng)的形式設(shè)置，并且可形成為沿著基板10被移送的方向能夠與第一振動(dòng)板112接近以及隔開。作為參考，在圖中例示的本實(shí)用新型的實(shí)施例中，對(duì)第一振動(dòng)板112與第二振動(dòng)板114全部構(gòu)成為移動(dòng)的結(jié)構(gòu)進(jìn)行舉例說明。

如上所述，基板移送部100的貫通區(qū)域101的設(shè)置是為了藥液涂敷噴嘴300的進(jìn)入，由于僅在藥液涂敷噴嘴300的清洗工藝時(shí)，第一振動(dòng)板112與第二振動(dòng)板114以相互隔開的形式配置，因此在藥液涂敷噴嘴300的下部設(shè)置有貫通區(qū)域101。但是，在藥液被涂敷于基板10的上面的藥液涂敷工藝中，由于第一振動(dòng)板112與第二振動(dòng)板114以相互接近的形式配置，因此不存在貫通區(qū)域，并且在基板10經(jīng)過第一振動(dòng)板112與第二振動(dòng)板114的上部期間，以沒有懸浮力的中斷(由于貫通區(qū)域101而產(chǎn)生的懸浮力中斷)的形式可使得基板10穩(wěn)定地懸浮。

并且，移送部件120可構(gòu)成為沿著移送軌道120a進(jìn)行直線移動(dòng)。假設(shè)，移送軌道120a以交替的形式排列有N極與S極的永久磁鐵，并且可用通過施加于移送部件120的線圈的電流控制而可進(jìn)行精確的位置控制的線性馬達(dá)的原理來得到驅(qū)動(dòng)。

藥液涂敷噴嘴300形成為，當(dāng)基板10以懸浮于基板移送部100的上部的狀態(tài)進(jìn)行移動(dòng)期間，將藥液PR涂敷于基板10的表面。

在此，通過藥液涂敷噴嘴300來涂敷藥液的區(qū)域也可以是被處理基板10的整體表面，也可以是被分割為多個(gè)單元區(qū)域的部分。

更為具體地，在藥液涂敷噴嘴300的底端部形成有與基板10的寬度相對(duì)應(yīng)的長度的狹縫噴嘴部，并且狹縫噴嘴部的噴嘴邊緣(lip)310配置于在第一振動(dòng)板112與第二振動(dòng)板114之間所形成的貫通區(qū)域101上，并將藥液涂敷于基板10的表面。

清洗單元200的設(shè)置是為了對(duì)藥液涂敷噴嘴300的噴嘴邊緣(lip)310進(jìn)行周期性地清洗。

此時(shí)，清洗單元200配置于基板移送部100的下部，并且構(gòu)成為通過形成于基板移送部100的貫通區(qū)域101來對(duì)藥液涂敷噴嘴300的噴嘴邊緣(lip)310進(jìn)行清洗。

如上所述，本實(shí)用新型可得到的有利的效果在于，通過清洗單元200來清洗藥液涂敷噴嘴300，所述清洗單元200穿過形成于基板移送部100的貫通區(qū)域101從基板移送部100的下部進(jìn)入，據(jù)此，縮短在進(jìn)行藥液涂敷噴嘴300的清洗工藝時(shí)藥液涂敷噴嘴300及清洗單元200的移動(dòng)路徑(即，移動(dòng)距離)，并且可使得藥液涂敷噴嘴300的清洗結(jié)構(gòu)及工藝簡化，并提高收率。

換句話說，在用于清洗藥液涂敷噴嘴的清洗模塊配置于基板移送部的上部的結(jié)構(gòu)中具有的問題在于，需要經(jīng)過如下復(fù)雜的移動(dòng)過程：為了用清洗模塊對(duì)狹縫噴嘴進(jìn)行清洗，首先，使得狹縫噴嘴向上部進(jìn)行向上移動(dòng)，以便狹縫噴嘴相對(duì)于懸浮平臺(tái)的上面配置于一定高度(清洗模塊可配置于狹縫噴嘴的下部的高度)，并且在使得配置于懸浮平臺(tái)的上部的清洗模塊進(jìn)行水平移動(dòng)并配置于狹縫噴嘴的下部的狀態(tài)下，再次使得狹縫噴嘴向下部進(jìn)行向下移動(dòng)，從而使得狹縫噴嘴與清洗模塊接觸。

并且，具有的問題在于，需要經(jīng)過如下繁瑣的移動(dòng)過程：即使在完成通過清洗模塊的清洗工藝之后，首先，也在使得狹縫噴嘴向上部進(jìn)行向上移動(dòng)(解除對(duì)于清洗模塊的接觸)的狀態(tài)下，需要使得清洗模塊向狹縫噴嘴的側(cè)部進(jìn)行水平移動(dòng)(躲避)，并且為了執(zhí)行藥液涂敷工藝，再次需要使得狹縫噴嘴向鄰接于懸浮平臺(tái)的上面的高度(實(shí)質(zhì)上，藥液得到涂敷的高度)進(jìn)行向下移動(dòng)，由此，不僅降低工藝效率，而且用于移動(dòng)清洗模塊的移動(dòng)裝置變復(fù)雜，并且狹縫噴嘴及清洗模塊的移動(dòng)控制較為繁瑣與不便。

但是，本實(shí)用新型可得到的有利的效果在于，通過清洗單元200來清洗藥液涂敷噴嘴300，所述清洗單元200穿過形成于基板移送部100的貫通區(qū)域101從基板移送部100的下部進(jìn)入，據(jù)此，由于在進(jìn)行藥液涂敷噴嘴300的清洗工藝時(shí)，不需要另外調(diào)節(jié)藥液涂敷噴嘴300的高度，僅使得清洗單元200單純地進(jìn)行上下移動(dòng)就可以，因此可縮短藥液涂敷噴嘴300的清洗工藝所需要的藥液涂敷噴嘴300及清洗單元200的移動(dòng)路徑，并且提高基板10處理效率及工藝效率。

并且，在本實(shí)用新型中可得到的有利的效果在于，由于在進(jìn)行藥液涂敷噴嘴300的清洗工藝時(shí)，不使得藥液涂敷噴嘴300移動(dòng)，僅使得清洗單元200進(jìn)行上下移動(dòng)就可以，因此可使得用于移動(dòng)清洗模塊的移動(dòng)裝置更加簡化，并且可容易地執(zhí)行藥液涂敷噴嘴300及清洗單元200的移動(dòng)控制。

此外，在本實(shí)用新型中可得到的有利的效果在于，由于在形成于基板移送部100的貫通區(qū)域上實(shí)現(xiàn)藥液涂敷噴嘴300的清洗，因此在清洗工藝時(shí)，從藥液涂敷噴嘴300清除的異物(例如，藥液)不掉落至基板移送部100的上面，而是可通過貫通區(qū)域收集至基板移送部100的下部。由此，預(yù)先防止由于從藥液涂敷噴嘴300清除的異物(例如，藥液)掉落至基板移送部100的上面而導(dǎo)致的基板移送部100的二次污染。

清洗單元200可形成為可清洗藥液涂敷噴嘴300的噴嘴邊緣310的多種結(jié)構(gòu)，并且本實(shí)用新型并非受到清洗單元200的種類及清洗方式的限制或限定。

例如，清洗單元200構(gòu)成為直接與噴嘴邊緣310接觸并且以接觸的形式對(duì)噴嘴邊緣310進(jìn)行清洗。更為具體地，清洗單元200包括：移送導(dǎo)向部220，其沿著與基板10被移送的方向呈垂直的方向得到配置；清洗部件210，其形成為接觸于噴嘴邊緣310并且隨著移送導(dǎo)向部220進(jìn)行直線移動(dòng)，并清除殘留于噴嘴邊緣310的藥液。根據(jù)不同的情況，清洗單元也可構(gòu)成為通過非接觸方式來清洗噴嘴邊緣。

移送導(dǎo)向部220的設(shè)置是為了沿著藥液涂敷噴嘴300的長度方向(與基板10被移送的方向呈垂直的方向)對(duì)清洗部件210的直線移動(dòng)進(jìn)行引導(dǎo)。例如，作為移送導(dǎo)向部220可使用常用的導(dǎo)向軌道(guide rail)。

清洗部件210在接觸于藥液涂敷噴嘴300的噴嘴邊緣310的狀態(tài)下，隨著移送導(dǎo)向部220進(jìn)行直線移動(dòng)，由此，清除殘留于噴嘴邊緣310的藥液。此時(shí)，可得到的有利的效果在于，用類似于橡膠或硅的彈性體形成清洗部件210，據(jù)此，使得由于清洗部件210接觸于噴嘴邊緣310而導(dǎo)致的噴嘴邊緣310的損傷最小化。

優(yōu)選地，基板處理裝置包括移動(dòng)部230，所述移動(dòng)部230使得清洗單元200沿著向上方向移動(dòng)，以便清洗單元200移動(dòng)至清洗噴嘴邊緣310的清洗位置P1以及從噴嘴邊緣310隔開的等待位置P2。

在此，所謂的清洗位置P1指的是清洗單元200直接接觸于噴嘴邊緣310的位置，所謂的等待位置P2指的是為了使得清洗單元200不接觸于噴嘴邊緣310，而與噴嘴邊緣310隔開的位置。更為具體地，清洗單元200在等待位置P2以與基板移送部100的下部隔開的形式配置，配置于等待位置P2的清洗單元200從下部向上部穿過貫通區(qū)域，并移動(dòng)至清洗位置P1。

移動(dòng)部230的設(shè)置是為了使得清洗單元200選擇性地移動(dòng)至清洗位置P1或等待位置P2。例如，移動(dòng)部230可構(gòu)成為利用導(dǎo)螺桿(lead screw)或線性馬達(dá)等的常用的直線驅(qū)動(dòng)裝置。

作為參考，在藥液被涂敷于基板10的上面期間，清洗單元200配置于等待位置P2，若完成藥液的涂敷，則清洗單元200移動(dòng)至清洗位置P1。

此時(shí)，清洗單元200從等待位置P2向清洗位置P1移動(dòng)(或從清洗位置P1向等待位置P2移動(dòng))期間，保持藥液涂敷噴嘴300的高度(對(duì)于基板10的藥液涂敷噴嘴300的間隔高度)一定。換句話說，在清洗單元200穿過形成于基板移送部100的貫通區(qū)域101從而進(jìn)入(配置)至藥液涂敷噴嘴300的下部的結(jié)構(gòu)中，由于不需要另外調(diào)節(jié)藥液涂敷噴嘴300的高度，而僅對(duì)清洗單元200的高度進(jìn)行調(diào)節(jié)(從等待位置P2向清洗位置P1移動(dòng))就可以，因此能夠保持藥液涂敷噴嘴300的高度一定。如上所述，可得到的有利的效果在于，在藥液涂敷噴嘴300藥液被涂敷之前，使得藥液涂敷噴嘴300的移動(dòng)最小化，據(jù)此，使得由于藥液涂敷噴嘴300的移動(dòng)誤差或控制誤差而產(chǎn)生的藥液涂敷錯(cuò)誤最小化。

另外，圖8是作為根據(jù)本實(shí)用新型的基板處理裝置，用于說明貫通區(qū)域的變形例的圖，圖9及圖10是作為根據(jù)本實(shí)用新型的基板處理裝置，用于說明底涂單元200'的結(jié)構(gòu)及配置結(jié)構(gòu)的圖。并且，對(duì)于與所述構(gòu)成相同及相當(dāng)于相同的部分賦予相同或相當(dāng)于相同的參照標(biāo)號(hào)，并且省略對(duì)其的詳細(xì)說明。

參照圖8，基板處理裝置包括：基板移送部100，其設(shè)置有貫通區(qū)域101；藥液涂敷噴嘴300；清洗單元200，其通過貫通區(qū)域101對(duì)藥液涂敷噴嘴300的噴嘴邊緣310進(jìn)行清洗，基板移送部100構(gòu)成為配置于藥液涂敷噴嘴300的下部的振動(dòng)板110'，貫通區(qū)域101'能夠通過去除振動(dòng)板110'的一部分來形成。

在此，所謂的通過去除振動(dòng)板110'的一部分來形成貫通區(qū)域101'指的是在振動(dòng)板110'的一部分區(qū)域鉆孔，或者切開振動(dòng)板110'的一部分區(qū)域。

可得到的有利的效果在于，即使在基板移送部100僅構(gòu)成為一個(gè)振動(dòng)板110'的情況下，在振動(dòng)板110'形成貫通區(qū)域101'，并且通過清洗單元200來清洗藥液涂敷噴嘴300，所述清洗單元200穿過貫通區(qū)域101'從振動(dòng)板110'的下部進(jìn)入，據(jù)此，縮短在進(jìn)行藥液涂敷噴嘴300的清洗工藝時(shí)藥液涂敷噴嘴300及清洗單元200的移動(dòng)路徑(即，移動(dòng)距離)，并且可使得藥液涂敷噴嘴300的清洗結(jié)構(gòu)及工藝簡化，并提高收率。

此外，參照圖9及圖10，基板處理裝置可包括底涂單元200'，所述底涂單元200'在將所述藥液涂敷于基板10之前，穿過貫通區(qū)域101在藥液涂敷噴嘴300的噴嘴邊緣310形成藥液珠。

底涂單元200'與清洗單元200一樣，形成為可向?qū)⑺幰褐樾纬捎趪娮爝吘?10的珠形成位置(參考清洗單元的清洗位置)以及從噴嘴邊緣310隔開的等待位置P2移動(dòng)。

作為底涂單元200'可使用能夠?qū)⑺幰褐樾纬捎谒幰和糠髧娮?00的噴嘴邊緣310的多種底涂裝置，并且本實(shí)用新型并非受到其種類及特性的限制或限定。

例如，底涂單元180包括：底涂滾輪(roller)181，其以噴嘴邊緣310的前端接近并排出藥液的形式形成，并通過伺服馬達(dá)(servomotor)181a進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)；外殼182，其以僅底涂滾輪181的一部分露出于外部的形式包裹底涂滾輪181；稀釋劑(thinner)涂敷機(jī)183，其為了清洗在噴嘴邊緣310的珠形成工藝中粘于底涂滾輪181的表面的藥液，而在珠形成工藝之后，將稀釋劑涂敷于旋轉(zhuǎn)的底涂滾輪181的表面；第一擠壓機(jī)(squeezer)184，其以物理的形式接觸粘于底涂滾輪181的表面的藥液并刮掉去除；清洗液收容部185，其通過浸漬(dipping)底涂滾輪181來清洗表面；清洗液噴射機(jī)186，其用噴嘴(jet)將液體清洗液噴射至底涂滾輪181的表面；第二擠壓機(jī)187，其為了去除殘存于底涂滾輪181的表面的稀釋劑而以與底涂滾輪181的表面接觸的狀態(tài)進(jìn)行刮掉底涂；用于干燥的排氣部(未示出)，其為了干燥底涂滾輪181的表面，而對(duì)底涂滾輪181表面吸入空氣，從而使得表面的液體等干燥，并向外部排出。

如上所述，本實(shí)用新型可得到的有利的效果在于，通過底涂單元200'來在噴嘴邊緣310形成藥液珠，所述底涂單元200'穿過形成于基板移送部100的貫通區(qū)域101從基板移送部100的下部進(jìn)入，據(jù)此，縮短在進(jìn)行藥液珠形成工藝時(shí)藥液涂敷噴嘴300及底涂單元200'的移動(dòng)路徑，并且可使得噴嘴邊緣310的藥液珠形成結(jié)構(gòu)及工藝簡化，并提高收率。

特別是，本實(shí)用新型可得到的有利的效果在于，通過底涂單元200'來在噴嘴邊緣310形成藥液珠，所述底涂單元200'穿過形成于基板移送部100的貫通區(qū)域101從基板移送部100的下部進(jìn)入，據(jù)此，由于在進(jìn)行藥液珠形成工藝時(shí)，不需要另外調(diào)節(jié)藥液涂敷噴嘴300的高度，僅使得底涂單元200'單純地進(jìn)行上下移動(dòng)就可以，因此可縮短藥液珠形成工藝所需要的藥液涂敷噴嘴300及底涂單元200'的移動(dòng)路徑，并且提高基板10處理效率及工藝效率。

并且，在現(xiàn)有技術(shù)中，由于底涂單元200'位于基板10的移送路徑的上部，因此為了形成噴嘴邊緣310的珠，而需要向位于從基板移送部100充分高的高度的底涂單元200'移動(dòng)，為此，起重機(jī)架(使得藥液涂敷噴嘴300移動(dòng)的起重機(jī)架)需要形成得非常高。但是，在本實(shí)用新型中得到的優(yōu)點(diǎn)在于，由于底涂單元180位于基板移送部100的下部，因此可將起重機(jī)架構(gòu)成得較低，由此，不僅美觀上更加整潔，而且能夠以使得比現(xiàn)有技術(shù)變輕的起重機(jī)架僅移動(dòng)更短的路徑的形式控制，從而控制變得容易，可更為廉價(jià)地構(gòu)成起重機(jī)架。

如上所述，雖然參照本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例進(jìn)行說明，但是可理解為，如果是相應(yīng)技術(shù)領(lǐng)域的熟練的從業(yè)者，在不超過記載于下述的專利權(quán)利要求書的本實(shí)用新型的思想及領(lǐng)域的范圍內(nèi)可對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行多種修改及變更。

標(biāo)號(hào)說明

1：基板處理系統(tǒng)10：基板

100：基板移送部101：貫通區(qū)域

112：第一振動(dòng)板114：第二振動(dòng)板

120：移送部件180：底涂單元

200：清洗單元210：清洗部件

220：移送導(dǎo)向部230：移動(dòng)部

300：藥液涂敷噴嘴