本實用新型涉及一種成型設備，尤其涉及一種蝕刻設備及其校平裝置。

背景技術：
現(xiàn)有的諸如集成電路引線框架在制作過程中，通常都會通過精密沖壓的方式在料帶上形成通孔或引腳等。沖壓的方式一定程度上的滿足了引線框架的制作需求。然而，隨著電子技術的飛速發(fā)展，集成電路的體積越來越小，引腳的數(shù)量越來越多。此時，仍然采用傳統(tǒng)的沖壓方式已經(jīng)難以達到足夠的精度要求了。因此，有必要采用新的技術來替代。

技術實現(xiàn)要素：
本實用新型要解決的技術問題在于，提供一種蝕刻設備及其校平裝置。本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是：提供一種蝕刻設備用校平裝置，包括支架以及平行間隔地安裝于支架中的若干個下輥組件和若干個上輥組件，該若干個上輥組件布置于該若干下輥組件的上方，并與該若干下輥組件交錯排布，在該若干個下輥組件和若干個上輥組件之間形成供料帶穿過的校平空間。在一些實施例中，每一上輥組件包括上輥以及一對上輥安裝座，該一對上輥安裝座分別與該上輥的輥軸兩端轉動連接；該一對上輥安裝座分別可上下移動地安裝于該支架中。在一些實施例中，所述上輥安裝座通過交叉導軌可上下移動地安裝于該支架中。在一些實施例中，該校平裝置包括若干個調節(jié)裝置，這些調節(jié)裝置安裝于該支架上，并分別與所述上輥安裝座配合，以調節(jié)上輥安裝座的上下位移。在一些實施例中，所述調節(jié)裝置包括穿置于該支架中的螺桿以及設置于該螺桿一端的操作部，該螺桿貫穿對應的上輥安裝座，并與該上輥安裝座螺接。在一些實施例中，該校平裝置包括若干個測量裝置，這些測量裝置安裝于該支架上，并分別與所述的上輥安裝座對應設置，以對應測量上輥安裝座的上下位移。在一些實施例中，該校平裝置包括導引機構，該導引機構包括導引支架、可來回移動地安裝于該導引支架中的一對限位板以及可轉動地安裝在于導引支架中并與該一對限位板反向螺合的調節(jié)螺桿。在一些實施例中，每一限位板的頂部設置有導引滾輪。在一些實施例中，每一下輥組件包括下輥以及分別套設于該下輥的輥軸兩端上的一對軸承，該一對軸承固定于所述支架中。提供一種蝕刻設備，依序包括卷式放料裝置、片料放料裝置、顯影裝置、上述任一項所述的校平裝置、蝕刻裝置、片式收料裝置以及卷式收料裝置。本實用新型的有益效果：通過交錯設置若干上輥單元和下輥單元，能夠很好地對料帶進行校平，從而確保后續(xù)的蝕刻能夠順利進行。附圖說明下面將結合附圖及實施例對本實用新型作進一步說明，附圖中：圖1是本實用新型一些實施例中的蝕刻設備的側視圖；圖2是圖1所示蝕刻設備的俯視圖；圖3是圖1所示蝕刻設備的校平裝置的立體結構示意圖；圖4是圖3所示校平裝置II-II向的剖面結構示意圖；圖5是圖3所示校平裝置IV-IV向的剖面結構示意圖。具體實施方式為了對本實用新型的技術特征、目的和效果有更加清楚的理解，現(xiàn)對照附圖詳細說明本實用新型的具體實施方式。本實用新型一些實施例提供了一種蝕刻設備，該蝕刻設備可用于諸如集成電路引線框架等結構的蝕刻成型，具備成型精度高、成本低廉的優(yōu)點。另外，本蝕刻設備還能實現(xiàn)卷對卷(卷料進卷料出)、卷對片(卷料進片料出)以及片對片(片料進片料出)等多功能，極大地滿足了用戶的不同需求。如圖1及圖2所示，本實用新型一些實施例中的蝕刻設備可依序包括卷式放料裝置A、輸送輥道B、校平裝置C、拉料裝置D、顯影裝置E、第一水洗裝置F、第一烘干裝置G、蝕刻裝置H、第二水洗裝置I、剝離裝置J、第三水洗裝置K、第二烘干裝置L、片式收料裝置M以及卷式收料裝置N。卷式放料裝置A用于承載并平穩(wěn)放出卷料，該卷料可為按照需要曝光后的材料?？梢岳斫獾兀谝恍嵤├幸部梢园哑毓庠O備整合到蝕刻設備，從而可以在蝕刻設備中進行曝光。該輸送輥道B大致貫穿整個蝕刻設備，以將料帶或片料由上游向下游平穩(wěn)輸送，該輸送輥道B可包括一個可敞開的前端，以供片料放入，形成片料放料裝置。校平裝置C可布置在該片料放料裝置的緊鄰下游，用于對料帶進行校平，防止料帶不夠平整而影響到后續(xù)的蝕刻效果。拉料裝置D用于拉動料帶驅動料帶向下游行進，使得卷料被蝕刻呈片料時，料帶仍然能夠很好地移動。顯影裝置E用于對曝光后的料帶或片料進行顯影。第一水洗裝置F用于對顯影后的料帶或片料進行清洗，防止顯影藥水被帶入下游的蝕刻裝置H中，而對蝕刻裝置H內藥水造成污染。第一烘干裝置G用于對清洗后的料帶進行烘干，在一些實施例中，在第一水洗裝置F和第一烘干裝置G之間還設置有吸水裝置P。蝕刻裝置H用于對顯影后的料帶或片料進行蝕刻，以形成需要的成型結構；蝕刻裝置可以將料帶蝕刻成片料。第二水洗裝置I用于對蝕刻后的料帶或片料進行清洗，剝離裝置J用于對清洗后的料帶或片料上的菲林膜進行剝離，并將具備菲林膜廢渣回收功能，以節(jié)約剝離藥水的使用。第三水洗裝置K用于對剝離菲林膜的料帶或片料進行清洗，第二烘干裝置L則用于對清洗后的料帶或片料進行烘干；同樣，第三水洗裝置K和第二烘干裝置L之間也可以設置吸水裝置P。片式收料裝置M用于收取片料，卷式收料裝置N用于收取卷料。在上述的蝕刻設備中，由于同時具備了卷式放料裝置A、片料放料裝置、 顯影裝置E、拉料裝置D、蝕刻裝置H、片式收料裝置M以及卷式收料裝置N，使得該蝕刻設備具備卷對卷、卷對片以及片對片三種蝕刻成型模式。具體而言，當需要卷料進和卷料出時，則只要片料放料裝置和片式收料裝置M不工作即可。當需要卷料進和片料出時，只要卷式收料裝置N不工作即可。而當需要片料進和片料出時，只要卷式放料裝置A和卷式收料裝置N不工作即可。如此，該蝕刻設備為用戶的使用帶來了極大的便利。蝕刻設備在一些實施例中還可包括導正輸送裝置Q，該導正輸送裝置Q布置在片式收料裝置M緊鄰上游，用于以在片料輸送的過程中對片料進行導正，防止片料走偏，以便于片料的收集。如圖3及圖4所示，校平裝置C在一些實施例中可包括支架11以及安裝于支架中的下輥組12和上輥組13，上輥組13位于下輥組12的上方，并在下輥組12和上輥組13之間形成供料帶穿過的空間，以實現(xiàn)對料帶的校平功能，防止料帶的彎曲影響到下游蝕刻的效果。支架11在一些實施例中可包括底座111以及立設于底座111兩相對端部的兩個側壁112和113。下輥組12包括若干個下輥組件121，這些下輥組件121平行間隔地安裝于該兩個側壁112和113之間，每一下輥組件121可包括下輥以及分別套設于該下輥的輥軸兩端上的一對軸承，該一對軸承分別安裝于該兩個側壁112和113上。上輥組13在一些實施例中可包括若干個上輥組件131，這些上輥組件131平行間隔地安裝在于支架11中，并與下輥組件121交錯排布。每一個上輥組件131包括上輥1310以及一對上輥安裝座1312，該一對上輥安裝座1312分別與該上輥1310的輥軸兩端相轉動連接。每一對上輥安裝座1312分別可上下移動地安裝于支架11的兩個側壁112和113上，以便上輥1310的上下位移可調，進而調節(jié)上輥1310和下輥121之間的間距。在一些實施例中，為了很好地將上輥安裝座1312精確地安裝在支架11上，可以采用交叉導軌18來實現(xiàn)。一同參閱圖5，校平裝置C在一些實施例中可包括若干個調節(jié)裝置14，這些調節(jié)裝置14分別與上輥組13的上輥安裝座1312配合，以調節(jié)上輥安裝 座1312的上下位移。每一調節(jié)裝置14在一些實施例中可包括穿置于支架11中的螺桿141以及固定于螺桿141一端的操作部142，該螺桿141貫穿對應的上輥安裝座1312，并與上輥安裝座1312螺接。如此，當通過操作部142驅動螺桿141轉動時，就可以驅動對應的上輥安裝座1312上升或下降。在一些實施例中，校平裝置C還可包括若干個測量裝置17，這些測量裝置分別與上輥安裝座1312對應設置，以對應測量上輥安裝座1312的上下位移，以便更精確地調節(jié)上輥組件131和下輥組件121之間的間距。該測量裝置17可以為千分尺。在一些實施例中，校平裝置C還可包括導引機構16，該導引機構16包括一導引支架161、可來回移動地安裝于導引支架161中的一對限位板162以及可轉動地安裝在于導引支架161中并與該一對限位板162反向螺合的調節(jié)螺桿163，調節(jié)螺桿163轉動時，可以調解該一對限位板162之間的間距，以適應不同寬度的料帶的導引功能。每一限位板162的頂部設置有導引滾輪1620，以降低與料帶之間的摩擦。導引支架161包括一對平行間隔布置的基板1610以及連接于該基板間的導引桿1612。以上所述僅為本實用新型的實施例，并非因此限制本實用新型的專利范圍，凡是利用本實用新型說明書及附圖內容所作的等效結構或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關的技術領域，均同理包括在本實用新型的專利保護范圍內。