技術(shù)特征：

1.一種具有原子氧防護(hù)功能的表面薄膜，其特征在于：包括兩層薄膜H_SiO2和L_SiO2，其結(jié)構(gòu)如下：AIR∣H_SiO2 L_SiO2∣GLASS，所述AIR為入射介質(zhì)，所述的H_SiO2為折射率1.45±0.01的SiO₂膜層，厚度為20±1nm，所述L_SiO2為折射率1.28±0.02的SiO₂膜層，厚度為95±5nm，所述GLASS為摻有二氧化鈰的玻璃蓋片。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有原子氧防護(hù)功能的表面薄膜，其特征在于：所述的H_SiO2SiO₂膜層厚度為20nm，折射率1.45。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有原子氧防護(hù)功能的表面薄膜，其特征在于：所述的L_SiO2SiO₂膜層厚度為95nm，折射率1.28。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有原子氧防護(hù)功能的表面薄膜，其特征在于：所述的入射介質(zhì)為空氣或真空。

5.一種制備權(quán)利要求1所述的具有原子氧防護(hù)功能的表面薄膜的方法，其特征在于：采用電子束熱蒸發(fā)的方式將所述兩層薄膜逐層沉積到所述玻璃蓋片上，包括如下步驟：

(1)所述玻璃蓋片進(jìn)行清洗預(yù)處理；

(2)在所述玻璃蓋片上沉積第一層L_SiO2薄膜，采用傾斜沉積方式，蒸發(fā)源沉積方向與所述玻璃蓋片間的夾角為15°±2°，所述沉積第一層L_SiO2薄膜厚度為95±5nm，折射率為1.28±0.02，真空室內(nèi)無烘烤加熱；

(3)應(yīng)用光譜橢偏儀對(duì)所述沉積第一層L_SiO2薄膜在參考波長下的物理厚度和折射率進(jìn)行測(cè)量；

(4)在所述第一層L_SiO2薄膜上沉積第二層沉積H_SiO2薄膜，采用正常沉積工藝方法，蒸發(fā)源方向與所述玻璃蓋片間的夾角為75°±2°，所述第二層沉積H_SiO2薄膜的厚度為20±1nm，折射率為1.45±0.01，真空室內(nèi)烘烤加熱至150℃，沉積過程中使用離子源進(jìn)行輔助沉積；

(5)應(yīng)用光譜橢偏儀對(duì)所述沉積第二層H_SiO2薄膜在參考波長下的物理厚度和下折射率進(jìn)行測(cè)量；

(6)鍍膜完成后，應(yīng)用分光光度計(jì)測(cè)量玻璃蓋片在280nm～1800nm范圍內(nèi)的透射率曲線。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備具有原子氧防護(hù)功能的表面薄膜的方法，其特征在于：所述的蒸發(fā)源為SiO₂顆粒。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備具有原子氧防護(hù)功能的表面薄膜的方法，其特征在于：所述步驟(3)和步驟(5)中的參考波長為628nm。