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基于氧化錫電子傳輸層的鈣鈦礦太陽(yáng)能電池及其制備方法與流程

文檔序號(hào):12129387閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

1.一種鈣鈦礦太陽(yáng)能電池,包括自下而上依次的襯底、電子傳輸層、鈣鈦礦吸收層、空穴傳輸層和金屬電極,其中,

所述的襯底用于收集電子傳輸層的電子;

所述的電子傳輸層用于傳輸所述鈣鈦礦吸收層的電子到襯底;

所述的鈣鈦礦吸收層用于吸收太陽(yáng)光能量產(chǎn)生電子-空穴對(duì);

所述的空穴傳輸層用于傳輸所述鈣鈦礦吸收層的空穴到金屬電極;

所述的金屬電極用于接收來(lái)自空穴傳輸層的空穴,并與來(lái)自襯底的電子復(fù)合,形成回路;

其特征在于:所述的電子傳輸層的材料是氧化錫。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鈣鈦礦太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述的電子傳輸層厚度為20nm至100nm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鈣鈦礦太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述的襯底為導(dǎo)電玻璃。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鈣鈦礦太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述的鈣鈦礦吸收層材料是(FAPbI3)x(MAPbBr3)1-x

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的鈣鈦礦太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述的鈣鈦礦吸收層的厚度是300nm至900nm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鈣鈦礦太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述的空穴傳輸層材料是Spiro-OMeTAD(2,2′,7,7′-四[N,N-二(4-甲氧基苯基)氨基]-9,9′-螺二芴)或PTAA(聚[雙(4-苯基)(2,4,6-三甲基苯基)胺])。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的鈣鈦礦太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述的空穴傳輸層厚度為150nm至250nm。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鈣鈦礦太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述的金屬電極厚度為60nm至120nm。

9.一種鈣鈦礦太陽(yáng)能電池的制備方法,包括:

S1、在襯底上制備電子傳輸層;

S2、在電子傳輸層上依次制備鈣鈦礦吸收層、空穴傳輸層、金屬電極;

其特征在于,所述的電子傳輸層的材料為氧化錫。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的鈣鈦礦太陽(yáng)能電池的制備方法,其特征在于,所述的S1包括:采用氧化錫納米顆粒溶液,通過(guò)旋涂-退火的工藝在襯底上制備所述電子傳輸層。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的鈣鈦礦太陽(yáng)能電池的制備方法,其特征在于,所述的退火工藝在低溫狀態(tài)下進(jìn)行。

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