本發(fā)明涉及顯示裝置，例如el顯示裝置及其制造方法。

背景技術(shù)：

作為顯示裝置的代表例，可舉出在各像素具有液晶元件或發(fā)光元件的液晶顯示裝置、有機el(electroluminescence：電致發(fā)光)顯示裝置等。在這些顯示裝置中，形成在基板上的多個像素的各像素內(nèi)具有液晶元件或有機發(fā)光元件(以下稱為發(fā)光元件)等顯示元件。液晶元件和發(fā)光元件各自在一對電極間具有液晶或包含有機化合物的層，通過對一對電極間施加電壓或者供給電流來進行驅(qū)動。

在不同于液晶元件的發(fā)光元件中，由于在夾于一對電極間的層(以下記為el層)中包含的有機化合物中流通電流，所以在驅(qū)動發(fā)光元件時，有機化合物被氧化或被還原，能夠成為具有電荷的狀態(tài)。此外，通過使這些活性種復(fù)合而產(chǎn)生激勵狀態(tài)。這樣的活性種與電中性的狀態(tài)或基態(tài)相比反應(yīng)性高，所以容易與其它有機化合物反應(yīng)或與浸入到發(fā)光元件的水和氧等雜質(zhì)反應(yīng)。反應(yīng)的結(jié)果產(chǎn)生的生成物對發(fā)光元件的特性產(chǎn)生影響，成為發(fā)光元件的效率降低、壽命的縮短的原因。

作為抑制上述特性劣化的方法，已知有在發(fā)光元件上形成保護膜(鈍化膜)。如日本特開2014-154450號公報和日本特開2009-266922號公報所公開的那樣，利用保護膜來防止、抑制雜質(zhì)向發(fā)光元件的侵入，由此能夠防止或抑制發(fā)光元件的特性降低、壽命的縮短。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的之一是提供具有高顯示品質(zhì)的顯示裝置及其制造方法。

用于解決問題的技術(shù)方案

本發(fā)明的一個實施方式是一種顯示裝置的制造方法，其包括以下步驟：形成第一電極，形成覆蓋第一電極的端部的絕緣膜，在第一電極和絕緣膜之上形成el層，在el層之上形成第二電極，在第二電極之上形成包含無機化合物的第一層，在第一層之上以與絕緣膜和el層重疊的方式形成包含有機化合物的第二層，在與絕緣膜重疊的區(qū)域使第二層變薄，以使得第一層露出，在第二層之上形成包含無機化合物的第三層。

本發(fā)明的另一個實施方式是一種顯示裝置的制造方法，其包括以下步驟：在基板之上形成基材，在基材之上形成第一電極，形成覆蓋第一電極的端部的絕緣膜，在第一電極和絕緣膜之上形成el層，在el層之上形成第二電極，在第二電極之上形成包含無機化合物的第一層，在第一層之上以與絕緣膜和el層重疊的方式形成包含有機化合物的第二層，在與絕緣膜重疊的區(qū)域使第二層變薄，以使得第一層露出，在第二層之上形成包含無機化合物的第三層，從基材剝離基板。

本發(fā)明的另一個實施方式是一種顯示裝置。顯示裝置具有彼此相鄰的第一子像素和第二子像素，第一子像素和第二子像素各自具有發(fā)光元件。第一子像素和第二子像素的發(fā)光元件具有第一電極、第二電極和被夾在第一電極與第二電極之間的el層。顯示裝置還具有絕緣膜，其位于第一子像素與第二子像素之間，與第一子像素和第二子像素的第一電極重疊。顯示裝置還具有：與第一子像素和第二子像素的發(fā)光元件重疊，以無機化合物為主要成分的第一層；位于第一層之上，以有機化合物為主要成分的第二層；和位于第二層之上，以無機化合物為主要成分的第三層，第二層在第一子像素與第二子像素之間分開。

本發(fā)明的一個實施方式是一種顯示裝置。顯示裝置包括具有第一電極、第一電極之上的el層和el層上的第二電極的發(fā)光元件。顯示裝置還包括具有與第一電極重疊的開口部，覆蓋第一電極的端部且位于el層之下的絕緣膜。顯示裝置還具有位于發(fā)光元件之上的以無機化合物為主要成分的第一層；位于第一層之上，以有機化合物為主要成分的第二層；和位于第二層之上，以無機化合物為主要成分的第三層。第一層和第三層在與絕緣膜重疊的區(qū)域彼此接觸。第二層的上表面在與開口部重疊的區(qū)域是平坦的。

根據(jù)本發(fā)明，可提供能夠有效地防止水從外部向子像素的侵入，且抑制發(fā)光不均，維持高顯示品質(zhì)的顯示裝置及其制造方法。

附圖說明

圖1是一個實施方式的顯示裝置的俯視示意圖。

圖2是一個實施方式的顯示裝置的截面示意圖。

圖3a和圖3b是表示一個實施方式的顯示裝置的制造方法的截面示意圖。

圖4a和圖4b是表示一個實施方式的顯示裝置的制造方法的截面示意圖。

圖5是表示一個實施方式的顯示裝置的制造方法的截面示意圖。

圖6a和圖6b是表示一個實施方式的顯示裝置的制造方法的截面示意圖。

圖7a和圖7b是表示顯示裝置的制造方法的截面示意圖。

圖8a和圖8b是表示一個實施方式的顯示裝置的制造方法的截面示意圖。

圖9是一個實施方式的顯示裝置的制造方法的截面示意圖。

圖10a和圖10b是表示一個實施方式的顯示裝置的制造方法的截面示意圖。

圖11是表示一個實施方式的顯示裝置的制造方法的截面示意圖。

附圖標(biāo)記說明

100：顯示裝置，102：基材，104：顯示區(qū)域，106：子像素，106_1：子像素，106_2：子像素，108：像素，110：驅(qū)動電路，112：配線，114：端子，116：芯片，118：晶體管，120：內(nèi)涂層，122：半導(dǎo)體膜，124：柵極絕緣膜，126：層間膜，128：柵極，130：源極，132：漏極，134：平坦化膜，136：發(fā)光元件，140：第一電極，142：分隔壁，143：開口部，144：el層，146：第一有機層，148：第二有機層，150：第三有機層，152：第二電極，160：鈍化膜，162：第一層，164：第二層，166：第三層，170：異物，180：基板，200：顯示裝置。

具體實施方式

以下參照附圖等說明本發(fā)明的各實施方式。其中，本發(fā)明在不脫離主旨的范圍內(nèi)能夠以各種方式實施，以下例示的實施方式的記載內(nèi)容不是用來限定解釋的內(nèi)容。

附圖為了使說明更明確而與實施的方式相比存在示意性地表示各部分的寬、厚度、形狀等的情況，但這只不過是一例，并非限定本發(fā)明的解釋。在本說明書和各圖中，對與在前圖中說明過的要素具有相同功能的要素附加相同的符號，省略重復(fù)的說明。

在本發(fā)明中，在加工某一個膜而形成多個膜時，存在這些多個膜具有不同的功能、作用的情況。但是，該多個膜來自于由相同的工序作為同一層形成的膜，具有相同的層結(jié)構(gòu)、相同的材料。因此，這些多個膜定義為存在于同一層的膜。

(第一實施方式)

在本實施方式中，用圖1至圖9說明本發(fā)明的一個實施方式的顯示裝置。

[1.顯示裝置的結(jié)構(gòu)]

在圖1中表示本實施方式的顯示裝置100的俯視圖。顯示裝置100在基材102的一個面(上表面)具有包括多個像素108的顯示區(qū)域104和柵極側(cè)驅(qū)動電路(以下稱為驅(qū)動電路)110。包含于一個像素108的多個子像素106能夠設(shè)置發(fā)光色彼此不同的發(fā)光元件，由此能夠進行彩色顯示。例如能夠?qū)l(fā)出紅色、綠色和藍(lán)色光的發(fā)光元件分別設(shè)置在三個子像素106。或者，也可以在所有的子像素106使用白色發(fā)光元件，使用濾色片來從各子像素106取出紅色、綠色、藍(lán)色來進行彩色顯示。最終取出的色彩不限于紅色、綠色、藍(lán)色的組合。例如一個像素108構(gòu)成為包含四個子像素106，也能夠從四個子像素106中取出紅色、綠色、藍(lán)色、白色這4種色彩。

在圖1中，子像素106描繪成具有長方形的形狀，但本發(fā)明的實施方式不限于此，子像素106的形狀也可以是正方形或多邊形。而且，像素108也具有長方形的區(qū)域，但是也可以是一個像素108具有正方形的形狀。子像素106的排列也沒有限制，能夠采用條形排列、三角排列、子像素共用(pentile)排列等。

配線112從顯示區(qū)域104向基材102的側(cè)面(圖1中為顯示裝置100的短邊)延伸，配線112在基材102的端部露出，露出部形成端子114。端子114與柔性印刷電路(fpc)等的連接器(未圖示)連接。顯示區(qū)域104也經(jīng)由配線112與ic芯片116電連接。由此，從外部電路(未圖示)提供來的影像信號經(jīng)由驅(qū)動電路110、ic芯片116傳遞到子像素106而控制子像素106的發(fā)光，使影像在顯示區(qū)域104上再現(xiàn)。此處雖然沒有圖示，但是顯示裝置100也可以在顯示區(qū)域104的周邊具有源極側(cè)驅(qū)動電路來代替ic芯片116。在本實施方式中，以夾著顯示區(qū)域104的方式設(shè)置有二個驅(qū)動電路110，但驅(qū)動電路110也可以是一個。而且，也可以不在基材102上設(shè)置驅(qū)動電路110，而將設(shè)置在不同基板上的驅(qū)動電路形成在連接器上。

圖2表示顯示裝置100的截面示意圖。圖2是表示設(shè)置在顯示區(qū)域104內(nèi)的二個子像素106的截面示意圖。在各子像素106內(nèi)晶體管118設(shè)置在基材102上，發(fā)光元件136與晶體管118電連接。更具體而言，在基材102上設(shè)置有內(nèi)涂層120，在其上設(shè)置晶體管118。晶體管118具有半導(dǎo)體膜122、柵極絕緣膜124、柵極128、層間膜126、源極130和漏極132。在圖2中，各子像素106被描繪成具有一個晶體管118，但各子像素106也可以具有多個晶體管，還可以具有晶體管以外的元件，例如電容元件等。圖2所示的晶體管118具有頂柵結(jié)構(gòu)，但晶體管118的結(jié)構(gòu)不限于此，也可以具有底柵結(jié)構(gòu)。此外，晶體管118的極性也無限制，晶體管118可以具有n通道型、p通道型的任意極性。

在晶體管118上設(shè)置有作為絕緣膜的平坦化膜134，在設(shè)置于平坦化膜134的開口部(圖2中虛線橢圓所圍的區(qū)域)中，發(fā)光元件136的第一電極140與晶體管118電連接。

第一電極140的端部與平坦化膜134的開口部被絕緣膜(以下記為分隔壁)142覆蓋。雖未圖示，但分隔壁142將第一電極140的周圍的端部覆蓋。因此，分隔壁142是具有開口部143的絕緣膜，其開口部143與第一電極140重疊。

在第一電極140和分隔壁142上形成el層144，在其上設(shè)置有第二電極152。在本說明書和權(quán)利要求中，el層表示設(shè)置在一對電極間的層，由一個或多個包含有機化合物的層構(gòu)成，起到使從一對電極注入的空穴與電子復(fù)合的作用的層。在圖2中，表示的是el層144由第一有機層146、第二有機層148和第三有機層150構(gòu)成的例子，但也可以利用四個以上的有機層構(gòu)成el層144。

第一有機層146和第三有機層150跨相鄰的子像素106而形成，在分隔壁142上也連續(xù)。與此相對，第二有機層148在相鄰的子像素106之間是分開的。第一有機層146和第三有機層150例如具有將從第一電極140和第二電極152注入的載流子(空穴、電子)輸送至第二有機層148的功能。而在第二有機層148中空穴與電子復(fù)合，由此從形成的激勵狀態(tài)獲得發(fā)光。在相鄰的子像素106之間以不同的結(jié)構(gòu)或材料形成第二有機層148，由此能夠在相鄰的子像素106之間獲得不同的發(fā)光色。另外，也可以使第二有機層148形成為與相鄰的子像素106共有，在相鄰的子像素106中具有相同的元件結(jié)構(gòu)。在此情況下，例如以從第二有機層148獲得白色的發(fā)光的方式形成el層144，將具有不同的吸收特性的濾色片設(shè)置于相鄰的子像素106，由此能夠從這些子像素106取出不同色彩的發(fā)光。

第二電極152上設(shè)置有鈍化膜160。鈍化膜160具有第一層162、第二層164和第三層166。

第一層162優(yōu)選包含無機化合物，無機化合物優(yōu)選含有硅。無機化合物例如選自氧化硅、氮化硅、氧氮化硅、氮氧化硅等。如圖2所示，第一層162與第二電極152接觸，能夠跨相鄰的子像素106連續(xù)形成(相連)。第一層162因分隔壁142而在面內(nèi)具有傾斜(或者凹凸)，凸部與分隔壁142重疊，凹部位于二個凸部之間。

第二層164設(shè)置于第一層162之上，優(yōu)選含有有機化合物。作為有機化合物的例子能夠舉出以樹脂為代表的高分子材料。高分子材料可以是直鏈結(jié)構(gòu)，或者也可以是交鏈而形成三維網(wǎng)狀的狀態(tài)。作為高分子材料可舉出環(huán)氧樹脂或丙烯樹脂、聚酰亞胺、聚酰胺、聚碳酸酯、聚硅氧烷等。優(yōu)選第二層164包含對可見光的透射性高的材料。

如圖2所示，第二層164在分隔壁142上非連續(xù)，在相鄰的子像素106之間是分開的。優(yōu)選第二層164的上表面在與分隔壁142的開口部143重疊的區(qū)域是平坦的。此外，在第一層162的凹部中，優(yōu)選第一層162的上表面中的與第一電極140的上表面平行的部分整體與上述第二層164的下表面接觸。由此，在與分隔壁142重疊的區(qū)域中，第一層162與第三層166能夠彼此接觸。

如上所述，形成第二層164的優(yōu)選材料是有機化合物。有機化合物與無機化合物相比容易吸收水，在水從外部侵入的情況下，第二層164作為輸送水的層起作用。但是，在相鄰的像素106之間將第二層164分開，由此水的輸送路徑被斷開，所以即使在水侵入到了一個子像素106的情況下，水也難以侵入至相鄰的子像素。其結(jié)果是，能夠?qū)碜酝獠康乃那秩胨a(chǎn)生的影響抑制在最小限度。

而且，通過在上表面設(shè)置平坦的第二層164，能夠形成具有高平坦性的第三層166。因此，第三層166能夠在子像素106之間不斷開地覆蓋顯示區(qū)域104，能夠有效地防止水從外部向子像素106侵入。

第二層164的厚度可以小于分隔壁142的厚度。雖然未圖示，但是分隔壁142也可以形成為從第二層164突出。

第三層166設(shè)置在第二層164之上。第三層166能夠使用可在第一層162中使用的材料，以適當(dāng)?shù)姆椒▉硇纬?。第一?62和第三層166也能夠含有相同的材料。優(yōu)選第一層162與第三層166的至少一者包含氮化硅。如圖2所示，第三層166可以跨相鄰的子像素106相連。

[2.顯示裝置的制造方法]

圖3至圖6表示具有上述結(jié)構(gòu)的顯示裝置100的制造方法。如圖3a所示，首先在基材102上隔著內(nèi)涂層120形成晶體管118。

基材102具有支承顯示區(qū)域104和驅(qū)動電路110等的功能。因此，只要具有支承顯示區(qū)域104和驅(qū)動電路110等的物理強度、對于用于形成基材102上的元件(晶體管118和發(fā)光元件136等)的工藝的溫度的耐熱性、對于在工藝中使用的藥品的化學(xué)穩(wěn)定性，則可以使用任何材料。具體而言，基材102能夠包含玻璃或石英、塑料、金屬、陶瓷等。在賦予顯示裝置100撓性的情況下，能夠使用包含塑料的材料，例如聚酰亞胺、聚酰胺、聚酯纖維、聚碳酸酯這樣的高分子材料。

內(nèi)涂層120是具有防止雜質(zhì)從基材102擴散至半導(dǎo)體膜122等功能的膜，能夠使用氮化硅、氧化硅、氮氧化硅、氧氮化硅等無機化合物，利用化學(xué)氣相生長法(cvd法)或濺射法等來形成。

在內(nèi)涂層120上形成半導(dǎo)體膜122。半導(dǎo)體膜122是顯示出半導(dǎo)體特性的材料，例如使用硅、鍺或氧化物半導(dǎo)體等，利用cvd法或濺射法等來形成即可。對于半導(dǎo)體膜122的結(jié)晶性也無需限定，能夠具有單晶、多晶、微晶、非晶質(zhì)等形態(tài)。

接著，在半導(dǎo)體膜122上形成柵極絕緣膜124，在其上形成柵極128。柵極絕緣膜124也能夠使用與內(nèi)涂層120相同的材料和形成方法來形成，優(yōu)選包含氧化硅。內(nèi)涂層120和柵極絕緣膜124的任一者都可以具有單層結(jié)構(gòu)，也可以具有包含多層的層疊結(jié)構(gòu)。在圖3a中描繪的是內(nèi)涂層120和柵極絕緣膜都具有單層的結(jié)構(gòu)。柵極128能夠?qū)⑩?、鋁、銅、鉬、鎢、鉭等金屬或其合金等以單層或?qū)盈B結(jié)構(gòu)來形成。例如能夠采用通過鈦、鉬等高熔點金屬夾持鋁、銅等具有高導(dǎo)電性的金屬而成的層疊結(jié)構(gòu)。作為柵極128的形成方法能夠舉出濺射法、cvd法或印刷法等。

形成了柵極128之后，形成層間膜126。層間膜126能夠使用與內(nèi)涂層120相同的材料和形成方法來形成，優(yōu)選含有氮化硅。層間膜126可以具有單層結(jié)構(gòu)，也可以如圖2所示由多層構(gòu)成。例如能夠?qū)璧哪ず桶趸璧哪盈B來形成層間膜126。

接著，形成源極130、漏極132。它們能夠使用可用于柵極128的材料，通過cvd法或濺射法來形成。

接著以覆蓋源極130、漏極132的方式形成平坦化膜134(圖3b)。平坦化膜134優(yōu)選包含環(huán)氧樹脂、丙烯樹脂、聚酯纖維、聚酰胺、聚酰亞胺、聚硅氧烷等高分子材料。平坦化膜134能夠使用旋轉(zhuǎn)涂敷法、噴墨法、印刷法、浸漬涂敷法等濕法成膜法或?qū)訅悍▉硇纬?。通過形成平坦化膜134，晶體管118引起的凹凸被吸收，能夠?qū)崿F(xiàn)平坦的表面。

平坦化膜134上形成有到達(dá)漏極132的開口部，以與漏極132接觸的方式形成第一電極140(圖3b)。由此，第一電極140與晶體管118電連接。在圖3b中，第一電極140與漏極132直接接觸，但是也可以是在第一電極140與漏極132之間設(shè)置具有導(dǎo)電性的層。

在從基材102取出來自發(fā)光元件136的發(fā)光時，例如可以使用具有透光性的氧化物來形成第一電極140而使得可見光能夠透射。作為具有透光性的氧化物，可舉出銦錫氧化物(ito)、銦鋅氧化物(izo)等。作為形成方法可舉出濺射法。另一方面，在從與基材102相反的方向取出來自發(fā)光元件136的發(fā)光時，能夠?qū)⒎瓷渎矢叩慕饘儆糜诘谝浑姌O140以使得能夠反射可見光。具體可舉出銀、鋁等?；蛘咭部梢栽诜瓷渎矢叩慕饘偕蠈盈B具有透光性的氧化物。

接著，形成分隔壁142(圖4a)。分隔壁142使用可用于平坦化膜134的材料，利用上述濕法成膜法在基材102整體上形成，之后形成使得第一電極140的一部分露出的開口部143，從而制作分隔壁142。由此，分隔壁142能夠覆蓋第一電極140的端部。優(yōu)選平坦化膜134和分隔壁142形成為含有相同材料。分隔壁142的寬度(相當(dāng)于相鄰的子像素106之間的間隔)為15μm以上50μm以下，或者20μm以上40μm以下，典型的是約30μm。分隔壁142的厚度為0.2μm以上3μm以下，或者0.5μm以上2μm(以下)，典型的是約1μm。

接著，形成el層144、第二電極152(圖4a)。如上所述，el層144可以在相鄰的子像素106之間具有相同結(jié)構(gòu)，或者也可以如圖4a所示，在相鄰的子像素106中一部分層不同。在圖2所示的例子中，el層144具有三個層(第一有機層146、第二有機層148和第三有機層150)，第二有機層148在相鄰的子像素106之間不同。包含在el層144中的各層能夠使用作為干式成膜法的蒸鍍法或上述濕法成膜法來制作。第二電極152的形成能夠使用與第一電極140相同的材料和相同的方法來進行。在從基材102一側(cè)獲得來自發(fā)光元件136的發(fā)光時，可以將反射率高的金屬及其合金等用于第二電極152。另一方面，在從與基材102相反的方向取出來自發(fā)光元件136的發(fā)光時，可以使用ito、izo等具有透光性的氧化物。

接著，形成保護發(fā)光元件136的鈍化膜160(圖4b)。具體而言，首先在第二電極152上形成第一層162。因此，能夠使得第一層162與第二電極152彼此接觸。第一層162例如能夠含有氮化硅、氧化硅、氮氧化硅、氧氮化硅等無機化物合，能夠使用cvd法、濺射法來形成。如圖4b所示，第一層162能夠在整個基材102上形成。因此，相鄰的子像素106之間能夠具有連續(xù)的結(jié)構(gòu)，與分隔壁142重疊。

接著，在第一層162上形成第二層164(圖5)。第二層164能夠含有環(huán)氧樹脂或丙烯樹脂、聚酰亞胺、聚酯纖維、聚碳酸酯等高分子材料。第二層164能夠通過上述濕法成膜法形成。或者，也可以在減壓狀態(tài)下使作為上述高分子材料的原料的低聚物成為霧狀或氣體狀，將其吹附至基材102上，之后使低聚物聚合來形成。此時，低聚物中也可以混合聚合開始劑。此外，也可以一邊冷卻基材102一邊將低聚物吹附至基材102。

如圖5所示，優(yōu)選以吸收因分隔壁142而引起的el層144、第二電極152、第一層162上的傾斜(凹凸)的方式形成第二層164。即，優(yōu)選吸收第一層162的面內(nèi)的傾斜，以具有平坦的上表面的方式形成第二層164。優(yōu)選第二層164具有1μm以上的厚度，例如厚度為1μm以上5μm以下，或者1.1μm以上3μm(以下)。由此，第二層164能夠在與分隔壁142重疊的區(qū)域覆蓋第一層162，從與第一電極140重疊的區(qū)域到與分隔壁142重疊的區(qū)域，具有連續(xù)的平坦的上表面。

另外，第二層164也可以形成為在與分隔壁142重疊的區(qū)域不完全覆蓋第一層162，使得第一層162在分隔壁142上露出。在此情況下，優(yōu)選以在第一層162的凹部具有均勻的厚度的方式、或者具有使得第二層164的上表面整體實質(zhì)上平坦的厚度的方式形成第二層164。

接著，使第二層164變薄而減小厚度(圖6a)。具體而言，對第二層164進行等離子體處理來減小其厚度。等離子體處理能夠在存在含有氧的氣體例如氧氣、一氧化氮、二氧化氮等時進行。由此，第一層162在與分隔壁142重疊的區(qū)域露出，第二層164在相鄰的子像素106之間斷開。在與分隔壁142的開口部143重疊的區(qū)域，第二層164提供平坦的上表面。在第一層162的凹部，第一層162的上表面中的與第一電極140的上表面平行的部分整體與第二層164的下表面接觸。

另外，以在與分隔壁142重疊的區(qū)域不完全覆蓋第一層162，第一層162在分隔壁142上露出的方式形成第二層164時，能夠省略等離子體處理。

接著，在第二層164上形成第三層166(圖6b)。第三層166能夠含有可用于第一層162的材料，能夠通過與第一層162相同的方法形成。由此，在與分隔壁142重疊的區(qū)域，第一層162與第三層166彼此接觸。而且，第二層164與第三層166接觸的邊界面是平坦的，且第二層164在相鄰的子像素106之間是彼此分開的。即，在與分隔壁142重疊的區(qū)域第二層164不與第三層166接觸。

另外，在第二層164相對于可見光具有高透明性的情況下，也可以不減小第二層164的厚度地形成第三層166。

經(jīng)過以上步驟，能夠制造本實施方式的顯示裝置100。雖未圖示，作為可選的結(jié)構(gòu)，也可以還在鈍化膜160上設(shè)置濾色片、遮光膜、與基材102相對的基板(對置基板)等。在設(shè)置對置基板時，可以在基材102與對置基板之間填充有機樹脂作為填充劑，也可以填充惰性氣體。

如上所述，以能夠吸收因分隔壁142引起的傾斜(凹凸)且具有較厚的膜厚的方式形成第二層164，之后減小第二層164的膜厚，由此在與分隔壁142的開口部143重疊的區(qū)域，能夠使得第一層162、第二層164和第三層166都具有大致均勻的膜厚。發(fā)光元件136的發(fā)光區(qū)域是第一電極140與el層144直接接觸的區(qū)域，其與分隔壁142的開口部143大致一致。因此，在發(fā)光元件136的發(fā)光區(qū)域的大致整體上，第一層162、第二層164、第三層166都能夠具有大致一致的膜厚。其結(jié)果是，在各子像素106的發(fā)光區(qū)域中，鈍化膜160的光學(xué)距離均勻，在各子像素106內(nèi)能夠獲得均勻的光學(xué)特性。

通過第二電極152取得由發(fā)光元件136獲得的發(fā)光時，如果鈍化膜160的光學(xué)特性在子像素106內(nèi)不均勻，則子像素106的發(fā)光產(chǎn)生不均。與此相對，通過采用上述制造方法，能夠在各子像素106內(nèi)獲得均勻的光學(xué)特性，抑制子像素106的發(fā)光的不均，能夠提供顯示品質(zhì)高的影像。

與此相對，在不使用使第二層164的膜厚減小的本實施方式的制造方法，而以較小的膜厚來形成第二層164時，第二層164在發(fā)光區(qū)域容易具有不均勻的膜厚。具體如圖7a所示的右側(cè)的子像素106_1所示，由于用于形成第二層164的材料的表面張力和對第一層162的低親和性，用于形成第二層164的材料容易在靠近第一層162的側(cè)壁的區(qū)域凝聚。即產(chǎn)生所謂的咖啡環(huán)效應(yīng)。在這樣的狀態(tài)下材料聚合或者固化時，第二層164在第一層162的側(cè)壁附近局部化地形成，在發(fā)光區(qū)域無法獲得均勻的厚度。

在該狀態(tài)下進一步形成第三層166的情況下，在局部化的第二層164的形狀被維持的狀態(tài)下，第三層166覆蓋第二層164(圖7b)。如圖7b所示，在子像素106_1內(nèi)第二層164形成有厚度大的部分(a)和厚度小的部分(b)。其結(jié)果是，在子像素106_1內(nèi)光學(xué)特性不均勻而產(chǎn)生發(fā)光不均，再現(xiàn)的影像的品質(zhì)降低。

而且，對于在顯示裝置100的制造中產(chǎn)生的異物堆積于子像素106的情況，本實施方式的制造方法也有效。例如假設(shè)在第一層162上堆積有異物170的情況，如圖7a的子像素106_2所示，由于咖啡環(huán)效應(yīng)在異物170附近用于第二層164的形成的材料也局部化。材料固化或聚合而維持該形狀，如圖7b所示，在子像素106_1內(nèi)形成第二層164的厚度大的部分(c)和厚度小的部分(d)。其結(jié)果是，在子像素106_1內(nèi)光學(xué)特性不均勻而產(chǎn)生發(fā)光不均，再現(xiàn)的影像的品質(zhì)降低。

與此相對，使用本實施方式的制造方法的情況下，形成第二層164時不產(chǎn)生咖啡環(huán)效應(yīng)。因此，能夠以將異物170整個填埋且具有平坦的上表面的方式形成第二層164(圖8a)。之后即使減小第二層164的厚度，也能夠在發(fā)光區(qū)域維持大致均勻的厚度(圖8b)。因此，如圖9所示，在例如靠近子像素106_2的端部的區(qū)域(e)、端部與異物170之間的區(qū)域(f)兩者上能夠獲得同樣的光學(xué)特性，難以產(chǎn)生發(fā)光不均。其結(jié)果是，即使異物170殘留在子像素106上，也能夠維持高顯示品質(zhì)。

(第二實施方式)

在本實施方式中，使用圖10、圖11說明與第一實施方式不同的顯示裝置的制造方法。在本實施方式中，說明制造具有撓性的顯示裝置200的方法。對于與第一實施方式相同的結(jié)構(gòu)省略說明。

首先在基板180上形成基材102(圖10a)?；?80具有保持基材102和形成在基材102上的各元件的功能，能夠?qū)⒕哂袨榇怂璧奈锢韽姸群蛯τ谛纬筛髟墓に嚨哪蜔嵝院突瘜W(xué)穩(wěn)定性的材料用于基板180。具體而言，能夠使用玻璃或石英、塑料、金屬、陶瓷等。優(yōu)選使用能夠使在后述的光照射步驟中使用的光透射的材料?；?80也被稱為支承基板。

基材102能夠含有與第一實施方式中所說明的相同的材料，能夠通過上述濕法成膜法來形成。其中，為了制造撓性的顯示裝置，以單獨具有撓性的程度的厚度形成基材102。

在基材102上，與第一實施方式同樣，形成有晶體管118、平坦化膜134、發(fā)光元件136和鈍化膜160(圖10a)。作為可選的結(jié)構(gòu)，也可以在鈍化膜160上形成濾色片、遮光膜、或者用于密封的薄膜、基板。

之后，利用激光光源或電筒等對基材102照射光。由此，能夠降低基材102與基板180之間的接合性。優(yōu)選從基板180一側(cè)照射光。

之后，沿著圖10b的箭頭所示的邊界面即基材102與基板180的邊界面將基板180剝離開，能夠得到圖11所示的本發(fā)明的一個實施方式的顯示裝置200。

本實施方式的顯示裝置200也具有第一實施方式所示的鈍化膜160。因此，在各子像素106內(nèi)能夠獲得均勻的光學(xué)特性，抑制子像素106的發(fā)光的不均，能夠提供顯示品質(zhì)高的影像。

作為本發(fā)明的實施方式的上述各實施方式，只要相互無矛盾，能夠適當(dāng)組合來實施。并且，以各實施方式的顯示裝置為基礎(chǔ)，本領(lǐng)域技術(shù)人員適當(dāng)進行結(jié)構(gòu)要素的追加、刪減或設(shè)計變更，或者追加工序、省略或變更條件，只要具有本發(fā)明的主旨，都包含在本發(fā)明的范圍內(nèi)。

在本說明書中，作為說明例主要例示了el顯示裝置的情況，但作為其它應(yīng)用例，可舉出自發(fā)光型顯示裝置、液晶顯示裝置、或具有電泳元件等的電子紙型顯示裝置等所有的平板顯示裝置。而且，對于中小型到大型，也沒有特別限定，均可應(yīng)用。

不同于由上述各實施方式帶來作用效果的其它作用效果，只要是從本說明書的記載中可知的或者本領(lǐng)域技術(shù)人員容易預(yù)測到的，當(dāng)然也理解成是由本發(fā)明帶來的。