1.一種有機(jī)電致發(fā)光器件基板，包括：
襯底基板；
形成在所述襯底基板上的像素界定層，其中，所述像素界定層界定了多個(gè)像素區(qū)域，所述像素區(qū)域在垂直于所述襯底基板的厚度方向上具有頂部開(kāi)口和底部開(kāi)口，所述底部開(kāi)口形成在所述頂部開(kāi)口內(nèi)，從而每個(gè)所述像素區(qū)域具有從所述頂部開(kāi)口至所述底部開(kāi)口的斜坡，并且相鄰的所述頂部開(kāi)口的邊界彼此相交；
形成在每個(gè)所述像素區(qū)域中的有機(jī)發(fā)光器件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)電致發(fā)光器件基板，其中，所述有機(jī)發(fā)光器件包括形成在所述像素區(qū)域的所述底部開(kāi)口中的陽(yáng)極、形成在所述陽(yáng)極上的有機(jī)發(fā)光層以及形成在所述有機(jī)發(fā)光層上的陰極。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的有機(jī)電致發(fā)光器件基板，其中，所述像素界定層形成在所述陽(yáng)極之上，從而在每個(gè)所述像素區(qū)域中，所述陽(yáng)極從所述底部開(kāi)口中部分暴露。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)電致發(fā)光器件基板，其中，所述像素界定層在每個(gè)所述像素區(qū)域中的斜坡的坡度角為5～25度。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的有機(jī)電致發(fā)光器件基板，其中，相鄰的所述像素區(qū)域的所述有機(jī)發(fā)光器件的所述陰極彼此電連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的有機(jī)電致發(fā)光器件基板，其中，所述有機(jī)發(fā)光器件配置為發(fā)射紅光、綠光或藍(lán)光的至少一種。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的有機(jī)電致發(fā)光器件基板，還包括設(shè)置在所述像素界定層上的間隔且分散排布的隔墊物。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的有機(jī)電致發(fā)光器件基板，其中，所述隔墊物相對(duì)于相鄰的所述頂部開(kāi)口的邊界位置對(duì)稱地設(shè)置。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的有機(jī)電致發(fā)光器件基板，還包括驅(qū)動(dòng)電路層，其中，所述驅(qū)動(dòng)電路層包括驅(qū)動(dòng)晶體管，所述驅(qū)動(dòng)晶體管與每個(gè)所述像素區(qū)域的有機(jī)發(fā)光器件電連接以驅(qū)動(dòng)所述有機(jī)發(fā)光器件。
10.一種有機(jī)電致發(fā)光顯示裝置，包括權(quán)利要求1-9中任一項(xiàng)所述的有機(jī)電致發(fā)光器件基板。
11.一種有機(jī)電致發(fā)光器件基板的制造方法，包括：
提供襯底基板；
在所述襯底基板上形成像素界定層，其中，所述像素界定層界定了多個(gè)像素區(qū)域，每個(gè)所述像素區(qū)域在垂直于所述襯底基板的厚度方向上具有頂部開(kāi)口和底部開(kāi)口，所述底部開(kāi)口形成在所述頂部開(kāi)口內(nèi)從而每個(gè)所述像素區(qū)域具有從所述頂部開(kāi)口至所述底部開(kāi)口的斜坡，并且相鄰的所述頂部開(kāi)口的邊界彼此相交；
在每個(gè)所述像素區(qū)域中形成有機(jī)發(fā)光器件。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制造方法，其中，所述有機(jī)發(fā)光器件包括形成在所述像素區(qū)域的所述底部開(kāi)口中的陽(yáng)極、形成在所述陽(yáng)極上的有機(jī)發(fā)光層以及形成在所述有機(jī)發(fā)光層上的陰極。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制造方法，其中，通過(guò)不同灰階的曝光方式在所述襯底基板上形成所述像素界定層，以使得每個(gè)所述像素區(qū)域具有從所述頂部開(kāi)口至所述底部開(kāi)口的斜坡。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制造方法，其中，在每個(gè)所述像素區(qū)域中依次形成所述有機(jī)發(fā)光器件的陽(yáng)極、有機(jī)發(fā)光層、陰極。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的制造方法，其中，使用蒸鍍掩模版來(lái)蒸鍍形成所述有機(jī)發(fā)光層，并且所述蒸鍍掩模上的開(kāi)口與所述像素區(qū)域的所述頂部開(kāi)口相同或基本相同。