1.一種低溫制備鋅錫氧透明半導(dǎo)體薄膜的溶液方法，其特征在于包括如下步驟：
(1) 制備鋅錫氧前驅(qū)體溶液：稱取可溶性的鋅鹽、錫鹽，量取溶劑，配置濃度為0.01-0.5摩爾/升的鋅錫氧前驅(qū)體溶液，經(jīng)過0.1-3小時的磁力攪拌和超聲分散形成澄清透明的鋅錫氧前驅(qū)體溶液；
(2) 制備鋅錫氧薄膜：將鋅錫氧前驅(qū)體溶液涂覆到清洗好的襯底上形成鋅錫氧前驅(qū)體薄膜，進(jìn)行50-150 ℃的預(yù)熱處理，然后經(jīng)過一定功率、時間和溫度的光波退火，根據(jù)鋅錫氧薄膜的厚度要求可多次涂覆前驅(qū)體鋅錫氧溶液并退火處理，即得到鋅錫氧透明半導(dǎo)體薄膜；
所述的光波的生成儀器為用作廚具的光波爐或具有鹵素?zé)艄艿募訜醿x器。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低溫制備鋅錫氧透明半導(dǎo)體薄膜的溶液方法，其特征在于：所述的可溶性的鋅鹽為硝酸鋅、氯化鋅、硫酸鋅或乙酸鋅中的一種或兩種以上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低溫制備鋅錫氧透明半導(dǎo)體薄膜的溶液方法，其特征在于：所述的可溶性的錫鹽為硝酸錫、四氯化錫、氯化亞錫、硫酸錫或乙酸錫中的一種或兩種以上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低溫制備鋅錫氧透明半導(dǎo)體薄膜的溶液方法，其特征在于：所述的溶劑為乙二醇甲醚、乙醇、水、乙二醇或二甲基甲酰胺中的一種或兩種以上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低溫制備鋅錫氧透明半導(dǎo)體薄膜的溶液方法，其特征在于：所述涂覆方法為旋轉(zhuǎn)涂覆法、滴涂法、浸涂法、噴霧法或噴墨打印法。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低溫制備鋅錫氧透明半導(dǎo)體薄膜的溶液方法，其特征在于：所述的光波退火的功率為100-900 W。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低溫制備鋅錫氧透明半導(dǎo)體薄膜的溶液方法，其特征在于：所述的光波退火的時間為5-120分鐘。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低溫制備鋅錫氧透明半導(dǎo)體薄膜的溶液方法，其特征在于：所述的光波退火過程中的溫度為100-300 ℃。