技術(shù)特征：
1.一種黑硅表面清洗方法，其特征在于，包括如下步驟：1)、將黑硅硅片放在溫度為80～90℃的碳酸鈉和吲哚丙酸的混合溶液A中浸泡10～60分鐘，對表面微結(jié)構(gòu)進行修正；2)、使用循環(huán)去離子水對在混合溶液A中浸泡完成的黑硅硅片清洗1～3次，然后用氫氟酸和鹽酸的混合溶液B清洗2～5分鐘；3)、再次使用循環(huán)去離子水對步驟2)中清洗過的黑硅硅片清洗1～3次，然后使用60～90℃的熱風(fēng)進行烘干；4)、將步驟3)中烘干后的黑硅硅片至于氧氣中，用低壓水銀燈產(chǎn)生的紫外光照射黑硅表面進行光清洗，光清洗時間為2～20min，處理完成后，黑硅硅片的...