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一種納米結(jié)構(gòu)超導(dǎo)復(fù)合薄膜及其制備方法與流程

文檔序號(hào):11731561閱讀:來源:國(guó)知局
技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供了一種納米結(jié)構(gòu)超導(dǎo)復(fù)合薄膜及其制備方法。本發(fā)明所提供的納米結(jié)構(gòu)超導(dǎo)復(fù)合薄膜是通過磁控與脈沖激光共沉積工藝將超導(dǎo)材料與非超導(dǎo)納米材料共同沉積在基片上而形成;所述基片為SrTiO3、LaAlO3、MgO或柔性金屬基帶等;所述超導(dǎo)材料為REBa2Cu3O7?x(RE=Y、Gd、Nd、Sm等稀土元素)或(LaSr)2CuO4等,所述非超導(dǎo)納米材料為MgO、CeO2、Y2O3、BaZrO3和BaSnO3中的至少一種。本發(fā)明通過磁控和脈沖激光共濺射方法,在薄膜生長(zhǎng)過程中實(shí)時(shí)調(diào)節(jié)磁控和激光濺射參數(shù)來實(shí)現(xiàn)對(duì)引入缺陷分布情況的控制,最終實(shí)現(xiàn)對(duì)超導(dǎo)復(fù)合薄膜微結(jié)構(gòu)及超導(dǎo)性能調(diào)控的目的。

技術(shù)研發(fā)人員:代秀紅;劉保亭;付躍舉;郭建新;周陽;關(guān)麗;趙慶勛
受保護(hù)的技術(shù)使用者:河北大學(xué)
文檔號(hào)碼:201610114487
技術(shù)研發(fā)日:2016.03.01
技術(shù)公布日:2017.07.11

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