1.一種基板液體處理方法，其特征在于，
進行以下工序：液體處理工序，利用處理液對基板進行液體處理；沖洗處理工序，利用沖洗液對進行液體處理后的所述基板進行沖洗處理；以及疏水處理工序，利用疏水化液對進行沖洗處理后的所述基板進行疏水處理，
接著，進行以下工序：置換處理工序，利用置換促進液對進行疏水處理后的所述基板進行置換處理；以及清洗處理工序，利用清洗液對進行疏水處理后的所述基板進行清洗處理，
之后，進行干燥處理工序，利用揮發(fā)性比所述清洗液的揮發(fā)性高的干燥液來置換所述清洗液，并且將所述干燥液從所述基板去除。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板液體處理方法，其特征在于，
使用純水來作為所述清洗液，使用異丙醇來作為所述干燥液和所述置換促進液。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板液體處理方法，其特征在于，
在所述置換處理工序中向所述基板供給的所述置換促進液的流量比在所述干燥處理工序中向所述基板供給的所述干燥液的流量多。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板液體處理方法，其特征在于，
在所述干燥處理工序中，在濕度比所述清洗處理工序中的濕度低的低濕度狀態(tài)下，將所述干燥液供給到所述基板。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板液體處理方法，其特征在于，
同時進行所述置換處理工序和所述清洗處理工序。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板液體處理方法，其特征在于，
將所述置換促進液、所述清洗液以及所述干燥液從同一噴嘴向所述基板供給。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板液體處理方法，其特征在于，
在從所述置換處理工序向所述清洗處理工序轉(zhuǎn)移時，以使所述置換促進液與所述清洗液的混合比率階梯式地或連續(xù)地變化的方式向所述基板供給所述置換促進液和所述清洗液。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板液體處理方法，其特征在于，
在從所述清洗處理工序向所述干燥處理工序轉(zhuǎn)移時，以使所述清洗液與所述干燥液的混合比率階梯式地或連續(xù)地變化的方式向所述基板供給所述清洗液和所述干燥液。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板液體處理方法，其特征在于，
所述干燥處理工序包括以下工序：在所述基板上形成從向所述基板上供給所述清洗液的供給位置朝向所述基板的外周緣的條狀流；以及向比所述清洗液的供給位置更靠所述基板的中心側(cè)的位置供給所述干燥液。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板液體處理方法，其特征在于，
形成所述清洗液的條狀流的工序包括以下工序：使所述清洗液的供給位置從所述基板的中心側(cè)向外周側(cè)移動。
11.一種基板液體處理裝置，其特征在于，具備：
基板保持部，其用于保持基板；
處理液供給部，其向所述基板供給處理液；
沖洗液供給部，其向利用處理液進行液體處理后的所述基板供給沖洗液；
疏水化液供給部，其向利用沖洗液進行沖洗處理后的所述基板供給疏水化液；
置換促進液供給部，其向利用疏水化液進行疏水處理后的所述基板供給置換促進液；
清洗液供給部，其向利用置換促進液進行置換處理后的所述基板供給清洗液；
干燥液供給部，其向利用清洗液進行清洗處理后的所述基板供給揮發(fā)性比所述清洗液的揮發(fā)性高的干燥液；以及
控制部，其進行控制，以使得在從所述置換促進液供給部對利用所述疏水化液進行疏水處理后的所述基板供給置換促進液并從所述清洗液供給部對所述基板供給清洗液之后，從所述干燥液供給部向所述基板供給干燥液，之后將所述干燥液從所述基板去除。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的基板液體處理裝置，其特征在于，
所述控制部進行控制，以使得從所述置換促進液供給部向所述基板供給流量比從所述干燥液供給部向所述基板供給的所述干燥液的流量多的所述置換促進液。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的基板液體處理裝置，其特征在于，
還具有干燥氣體供給部，該干燥氣體供給部向所述基板供給干燥氣體，
所述控制部在從所述干燥液供給部向所述基板供給所述干燥液時，從所述干燥氣體供給部向所述基板供給所述干燥氣體。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的基板液體處理裝置，其特征在于，
所述控制部進行控制，使得在從所述置換促進液供給部向所述基板供給所述置換促進液的同時，從所述清洗液供給部向所述基板供給所述清洗液。
15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的基板液體處理裝置，其特征在于，
將所述置換促進液、所述清洗液以及所述干燥液從同一噴嘴向所述基板供給。
16.根據(jù)權(quán)利要求11所述的基板液體處理裝置，其特征在于，
在從所述置換促進液的供給向所述清洗液的供給轉(zhuǎn)移時，以使所述置換促進液與所述清洗液的混合比率階梯式地或連續(xù)地變化的方式向所述基板供給所述置換促進液和所述清洗液。
17.根據(jù)權(quán)利要求11所述的基板液體處理裝置，其特征在于，
在從所述清洗液的供給向所述干燥液的供給轉(zhuǎn)移時，以使所述清洗液與所述干燥液的混合比率階梯式地或連續(xù)地變化的方式向所述基板供給所述清洗液和所述干燥液。
18.根據(jù)權(quán)利要求11所述的基板液體處理裝置，其特征在于，
在從所述清洗液的供給向所述干燥液的供給轉(zhuǎn)移時，在所述基板上形成從向所述基板上供給所述清洗液的供給位置朝向所述基板的外周緣的條狀流，向比所述清洗液的供給位置更靠所述基板的中心側(cè)的位置供給所述干燥液。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的基板液體處理裝置，其特征在于，
使形成所述條狀流的所述清洗液的供給位置從所述基板的中心側(cè)向外周側(cè)移動。
20.一種存儲有基板液體處理程序的計算機可讀存儲介質(zhì)，其中，該基板液體處理程序使用基板液體處理裝置對所述基板進行處理，該基板液體處理裝置具有：基板保持部，其用于保持基板；處理液供給部，其向所述基板供給處理液；沖洗液供給部，其向利用處理液進行液體處理后的所述基板供給沖洗液；疏水化液供給部，其向利用沖洗液進行沖洗處理后的所述基板供給疏水化液；置換促進液供給部，其向利用疏水化液進行疏水處理后的所述基板供給置換促進液；清洗液供給部，其向利用置換促進液進行置換處理后的所述基板供給清洗液；干燥液供給部，其向利用清洗液進行清洗處理后的所述基板供給揮發(fā)性比所述清洗液的揮發(fā)性高的干燥液；以及控制部，其控制這些部，
該存儲有基板液體處理程序的計算機可讀存儲介質(zhì)的特征在于，
進行控制，以使得在從所述置換促進液供給部對所述基板供給置換促進液并從所述清洗液供給部對所述基板供給清洗液之后，從所述干燥液供給部向所述基板供給干燥液，之后將所述干燥液從所述基板去除。