1.一種計(jì)量目標(biāo)設(shè)計(jì)方法，其包括使用與至少一個(gè)經(jīng)設(shè)計(jì)疊加計(jì)量目標(biāo)有關(guān)的OCD數(shù)據(jù)作為目標(biāo)模型與晶片上的對(duì)應(yīng)實(shí)際目標(biāo)之間的差異的估計(jì)，及調(diào)整計(jì)量目標(biāo)設(shè)計(jì)模型以補(bǔ)償所述經(jīng)估計(jì)差異。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中相對(duì)于以下各者中的至少一者實(shí)施所述調(diào)整：臨界尺寸、光學(xué)材料特性、膜厚度、表面構(gòu)形及工藝變化的存在。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中所述工藝變化涉及以下各者中的至少一者：引發(fā)的表面構(gòu)形、經(jīng)沉積表面構(gòu)形、經(jīng)蝕刻表面構(gòu)形及CMP(化學(xué)機(jī)械平面化)凹陷。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中所述工藝變化包括對(duì)稱及/或不對(duì)稱工藝變化。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其中所述OCD數(shù)據(jù)涉及所述至少一個(gè)經(jīng)設(shè)計(jì)計(jì)量目標(biāo)的先前層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其中所述OCD數(shù)據(jù)包括工作簿數(shù)據(jù)及模擬結(jié)果中的至少一者。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其進(jìn)一步包括：
設(shè)計(jì)作為包括疊加目標(biāo)特征且具有至少10μm的單元側(cè)尺寸的單元的至少一個(gè)驗(yàn)證目標(biāo)，及
使用OCD傳感器測(cè)量所述至少一個(gè)驗(yàn)證目標(biāo)以導(dǎo)出所述所使用的OCD數(shù)據(jù)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其進(jìn)一步包括優(yōu)化以下各者中的至少一者：所述至少一個(gè)驗(yàn)證目標(biāo)的位置、尺寸及與周圍結(jié)構(gòu)的接近度。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中所述測(cè)量由光學(xué)或SEM CD計(jì)量實(shí)施。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中所述至少一個(gè)驗(yàn)證目標(biāo)的經(jīng)設(shè)計(jì)特征包括以下各者中的至少一者：節(jié)距、分段及表面構(gòu)形，其與作為所述至少一個(gè)經(jīng)設(shè)計(jì)計(jì)量目標(biāo)的至少一個(gè)疊加計(jì)量目標(biāo)的對(duì)應(yīng)特征相同。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其進(jìn)一步包括設(shè)計(jì)所述至少一個(gè)驗(yàn)證目標(biāo)為接近于所述至少一個(gè)疊加計(jì)量目標(biāo)。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其進(jìn)一步包括通過(guò)使用所述至少一個(gè)驗(yàn)證目標(biāo)的所述測(cè)量來(lái)改進(jìn)所述至少一個(gè)疊加目標(biāo)的測(cè)量與模擬之間的匹配。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其進(jìn)一步包括使用所述經(jīng)改進(jìn)匹配來(lái)改進(jìn)隨后印刷的計(jì)量目標(biāo)的設(shè)計(jì)。
14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其進(jìn)一步包括通過(guò)使用所述至少一個(gè)驗(yàn)證目標(biāo)的所述測(cè)量來(lái)優(yōu)化所述至少一個(gè)疊加計(jì)量目標(biāo)的疊加測(cè)量的計(jì)量配方設(shè)置。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中所述優(yōu)化是相對(duì)于以下各者中的至少一者來(lái)實(shí)施：計(jì)量準(zhǔn)確度、計(jì)量精確度、計(jì)量穩(wěn)健性及其組合。
16.一種計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品，其包括具有以其體現(xiàn)的計(jì)算機(jī)可讀程序的非暫時(shí)性計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)媒體，所述計(jì)算機(jī)可讀程序經(jīng)配置以實(shí)施根據(jù)權(quán)利要求1到15中任一權(quán)利要求所述的方法。
17.一種計(jì)量目標(biāo)設(shè)計(jì)模塊，其包括根據(jù)權(quán)利要求16所述的計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品。
18.根據(jù)權(quán)利要求1到14中任一權(quán)利要求所述的方法，其至少部分由至少一個(gè)計(jì)算機(jī)處理器實(shí)施。
19.一種驗(yàn)證計(jì)量目標(biāo)，其包括具有擁有疊加目標(biāo)特征的至少一個(gè)層的單個(gè)單元，所述單元具有至少10μm的單元側(cè)尺寸。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的目標(biāo)，其由在節(jié)距及CD上與對(duì)應(yīng)計(jì)量目標(biāo)的先前層周期結(jié)構(gòu)相同的單個(gè)周期結(jié)構(gòu)組成。
21.根據(jù)權(quán)利要求19所述的目標(biāo)，其由在節(jié)距及CD上與對(duì)應(yīng)計(jì)量目標(biāo)的所述單元中的一者中的周期結(jié)構(gòu)相同的至少兩個(gè)周期結(jié)構(gòu)組成。
22.根據(jù)權(quán)利要求20或21所述的目標(biāo)，其經(jīng)設(shè)計(jì)及產(chǎn)生為接近于所述對(duì)應(yīng)計(jì)量目標(biāo)。
23.一種目標(biāo)設(shè)計(jì)文件，其包括接近于所述對(duì)應(yīng)計(jì)量目標(biāo)的設(shè)計(jì)的根據(jù)權(quán)利要求20或21所述的驗(yàn)證目標(biāo)的設(shè)計(jì)。
24.一種根據(jù)權(quán)利要求19到22中任一權(quán)利要求所述的驗(yàn)證目標(biāo)的OCD測(cè)量。