1.一種真空紫外光光源裝置，釋放包含真空紫外光的光，其特征在于，
作為上述包含真空紫外光的光，將脈沖光、并且是發(fā)光的占空比為0.00001以上且0.01以下的光釋放到包含氧的氣氛中。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空紫外光光源裝置，其特征在于，
上述發(fā)光的占空比為0.0001以上且0.001以下。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的真空紫外光光源裝置，其特征在于，具備：
閃光燈，具有由真空紫外光透射性材料構(gòu)成的發(fā)光管、以及配置在該發(fā)光管內(nèi)的相互對(duì)置的一對(duì)電極；以及
供電部，向上述閃光燈供給電力。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的真空紫外光光源裝置，其特征在于，
上述閃光燈的上述一對(duì)電極的電極間距離為12.5mm以下，在上述發(fā)光管內(nèi)封入有包含氙氣的氣體。
5.一種光照射裝置，其特征在于，具備：
掩模，與形成有自組裝單分子膜的工件分離地配置，形成有規(guī)定的圖案；
上述權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的真空紫外光光源裝置，經(jīng)由上述掩模向上述工件上照射包含真空紫外光的光；以及
包圍部件，將從上述真空紫外光光源裝置至上述掩模的上述光的光路包圍；
上述包圍部件的內(nèi)部通過(guò)惰性氣體而被凈化，
在上述掩模與上述工件之間形成有包含氧的氣體層。
6.一種自組裝單分子膜的圖案化方法，經(jīng)由形成有規(guī)定的圖案的掩模，對(duì)形成在工件上的自組裝單分子膜照射包含真空紫外光的光，其特征在于，
在包含氧的氣氛中，作為上述包含真空紫外光的光，照射脈沖光、并且是發(fā)光的占空比為0.00001以上且0.01以下的光。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的自組裝單分子膜的圖案化方法，其特征在于，
作為上述包含真空紫外光的光，照射上述發(fā)光的占空比為0.0001以上且0.001以下的光。