技術(shù)編號：12142614
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及釋放包含真空紫外光的光的真空紫外光光源裝置、安裝有該真空紫外光光源裝置的光照射裝置、以及使用有該光照射裝置的自組裝單分子膜的圖案化(Patterning)方法。背景技術(shù)近年來，波長為200nm以下的真空紫外(VacuumUltraViolet：VUV)光被使用在除半導(dǎo)體曝光以外的各種領(lǐng)域中。例如，開發(fā)有不使用基于光致抗蝕劑的圖案形成工序，而是使用VUV與掩模，直接通過光引起化學(xué)反應(yīng)而將自組裝單分子膜(Self-AssembledMonolayer：SAM膜)圖案化的技術(shù)。例如，在非專利...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。