技術(shù)總結(jié)
公開一種發(fā)光裝置。發(fā)光裝置包括：相互隔開配置的第1引線及第2引線；包括基底、反射器及空腔的主體部；及配置于空腔內(nèi)的發(fā)光二極管，第1引線包括下部第1引線及位于下部第1引線上的上部第1引線，第2引線包括下部第2引線及位于下部第2引線上的上部第2引線，上部第1引線和上部第2引線的隔開區(qū)域的形態(tài)，不同于下部第1引線和下部第2引線的隔開區(qū)域的形態(tài)，上部第1引線和上部第2引線的隔開區(qū)域具有至少一次以上的彎曲的形態(tài)。

技術(shù)研發(fā)人員：李泰昌
受保護的技術(shù)使用者：首爾半導(dǎo)體株式會社
文檔號碼：201580032393
技術(shù)研發(fā)日：2015.04.20
技術(shù)公布日：2017.02.22