1.一種發(fā)光裝置，其中，包括：
相互隔開配置的第1引線及第2引線；
主體部，其包括基底、反射器及空腔，所述基底至少部分地包圍所述第1及第2引線的側(cè)面，填充所述第1及第2引線的隔開區(qū)域，所述反射器位于所述基底上，所述空腔被所述反射器環(huán)繞，且上部形成開口；及
配置于所述空腔內(nèi)的發(fā)光二極管，
所述第1引線包括下部第1引線及位于所述下部第1引線上的上部第1引線，所述第2引線包括下部第2引線及位于所述下部第2引線上的上部第2引線，
所述上部第1引線和所述上部第2引線的隔開區(qū)域的形態(tài)不同于所述下部第1引線和所述下部第2引線的隔開區(qū)域的形態(tài)，
所述上部第1引線和所述上部第2引線的隔開區(qū)域具有至少一次以上的彎曲的形態(tài)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光裝置，其中，
所述上部第1引線包括在與所述上部第2引線相向的側(cè)面形成的第1凸出部及第1凹陷部，
所述上部第2引線包括在與所述上部第1引線相向的側(cè)面形成的第2凸出部及第2凹陷部。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的發(fā)光裝置，其中，
所述第1凸出部的位置對(duì)應(yīng)于形成所述第2凹陷部的部分，
所述第2凸出部的位置對(duì)應(yīng)于形成所述第1凹陷部的部分。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的發(fā)光裝置，其中，
所述第1凸出部形成得對(duì)應(yīng)嚙合于所述第2凹陷部，所述第2凸出部形成得對(duì)應(yīng)嚙合于所述第1凹陷部。
5.根據(jù)權(quán)利要求2至4中任意一項(xiàng)所述的發(fā)光裝置，其中，
所述第1凸出部及所述第1凹陷部分別位于所述上部第1引線和所述上部第2引線相向的側(cè)面的兩末端，
所述第2凸出部及所述第2凹陷部分別位于所述上部第2引線和所述上部第1引線相向的側(cè)面的兩末端。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的發(fā)光裝置，其中，
所述第1凸出部與所述第1凹陷部之間的相向側(cè)面具有直線形態(tài)。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的發(fā)光裝置，其中，
所述第1凸出部和所述第2凹陷部的隔開區(qū)域及所述第2凸出部和所述第1凹陷部的隔開區(qū)域位于所述反射器下方。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的發(fā)光裝置，其中，
所述下部第1引線和所述下部第2引線分別包括在所述下部第1引線和所述下部第2引線相向的側(cè)面的棱上形成的第1倒角部及第2倒角部。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的發(fā)光裝置，其中，
所述下部第1引線或所述下部第2引線不位于所述第1凸出部的下方區(qū)域和所述第2凸出部的下方區(qū)域。
10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的發(fā)光裝置，其中，
所述下部第1引線及下部第2引線中至少一個(gè)包括在所述下部第1引線和所述下部第2引線相向的側(cè)面的棱上形成的倒角部。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的發(fā)光裝置，其中，
所述發(fā)光裝置的一側(cè)面的寬度(W2)與所述倒角部的倒角程度(R)的比率R/W2為超過0.052且在0.25以下。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光裝置，其中，
所述下部第1引線及下部第2引線分別位于所述上部第1引線及上部第2引線的區(qū)域內(nèi)。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光裝置，其中，
所述發(fā)光裝置的一側(cè)面的寬度(W2)和與平行于所述一側(cè)面的剖面對(duì)應(yīng)的所述空腔的寬度(W1)的比率W1/W2為0.8以上且不足0.92。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光裝置，其中，
還包括配置于所述空腔內(nèi)的發(fā)光二極管。
15.一種引線，其中，包括相互隔開配置的第1引線及第2引線，
所述第1引線包括下部第1引線及位于所述下部第1引線上的上部第1引線，所述第2引線包括下部第2引線及位于所述下部第2引線上的上部第2引線，
所述上部第1引線和所述上部第2引線的隔開區(qū)域的形態(tài)，不同于所述下部第1引線和所述下部第2引線的隔開區(qū)域的形態(tài)，
所述上部第1引線和所述上部第2引線的隔開區(qū)域具有至少一次以上的彎曲的形態(tài)。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的引線，其中，
所述上部第1引線包括在與所述上部第2引線相向的側(cè)面形成的第1凸出部及第1凹陷部，
所述上部第2引線包括在與所述上部第1引線相向的側(cè)面形成的第2凸出部及第2凹陷部。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的引線，其中，
所述第1凸出部的位置對(duì)應(yīng)于形成所述第2凹陷部的部分，
所述第2凸出部的位置對(duì)應(yīng)于形成所述第1凹陷部的部分。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的引線，其中，
所述第1凸出部形成得對(duì)應(yīng)嚙合于所述第2凹陷部，所述第2凸出部形成得對(duì)應(yīng)嚙合于所述第1凹陷部。
19.根據(jù)權(quán)利要求16至18中任意一項(xiàng)所述的引線，其中，
所述第1凸出部及所述第1凹陷部分別位于所述上部第1引線和所述上部第2引線相向的側(cè)面的兩末端，
所述第2凸出部及所述第2凹陷部分別位于所述上部第2引線和所述上部第1引線相向的側(cè)面的兩末端。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的引線，其中，
所述第1凸出部與所述第1凹陷部之間的相向側(cè)面具有直線形態(tài)。
21.根據(jù)權(quán)利要求19所述的引線，其中，
所述下部第1引線和所述下部第2引線分別包括在所述下部第1引線和所述下部第2引線相向的側(cè)面的棱上形成的第1倒角部及第2倒角部。
22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的引線，其中，
所述下部第1引線或所述下部第2引線不位于所述第1凸出部的下方區(qū)域和所述第2凸出部的下方區(qū)域。
23.根據(jù)權(quán)利要求15所述的引線，其中，
所述下部第1引線及下部第2引線中至少一個(gè)包括在所述下部第1引線和所述下部第2引線相向的側(cè)面的棱上形成的倒角部。