1.一種基板處理裝置，其特征在于，
該基板處理裝置包括：
基板旋轉(zhuǎn)部，其一邊保持基板一邊使所述基板旋轉(zhuǎn)；
處理液供給部，其向所述基板供給處理液；以及
置換液供給部，其向所述基板供給與從所述處理液供給部供給來的所述處理液置換的置換液，
在所述置換液供給部向所述基板供給所述置換液時，所述處理液供給部向比從所述置換液供給部供給的所述置換液的所述基板上的供給位置靠所述基板的外周側(cè)的位置供給所述處理液而形成所述處理液的液膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，
所述處理液供給部和所述置換液供給部以所述基板的整個表面被所述處理液、所述置換液或所述處理液與所述置換液的混合液的液膜覆蓋的方式供給所述處理液和所述置換液，
所述處理液供給部向由所述置換液供給部形成的所述置換液的外側(cè)以能夠維持由所述處理液供給部供給來的所述處理液的液膜的方式供給所述處理液。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，
所述置換液供給部向所述基板的中央部供給所述置換液，
所述處理液供給部一邊朝向所述基板的外周方向移動一邊供給所述處理液。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于，
所述處理液供給部一移動到所述基板的周緣部就停止所述處理液的供給。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，
所述處理液供給部具有朝向所述基板的中央部供給所述處理液的處理液主供給噴嘴和向比所述置換液的所述基板上的供給位置靠所述基板的外周側(cè)的位置供給所述處理液的處理液輔助供給噴嘴。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板處理裝置，其特征在于，
所述處理液供給部在所述處理液主供給噴嘴和所述處理液輔助供給噴嘴同時供給所述處理液時使來自所述處理液輔助供給噴嘴的所述處理液的供給流量小于來自所述處理液主供給噴嘴的所述處理液的供給流量。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，
所述處理液供給部在從所述置換液供給部開始向所述基板供給所述置換液之前開始向比所述置換液的所述基板上的供給位置靠所述基板的外周側(cè)的位置供給所述處理液。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，
所述處理液供給部在向所述基板上供給所述置換液且沒有向所述基板的外周側(cè)的位置供給所述處理液的情況下，向所述基板的與由所述置換液覆蓋整體的區(qū)域同心的圓形區(qū)域內(nèi)供給所述處理液。
9.一種基板處理方法，其特征在于，
該基板處理方法包括：
處理液主供給工序，在該處理液主供給工序中，向旋轉(zhuǎn)的基板供給處理液；
置換液供給工序，在該置換液供給工序中，將用于置換在所述處理液主供給工序中供給到所述基板的所述處理液的置換液向所述基板供給而在所述基板上形成置換液的液膜；
處理液輔助供給工序，在該處理液輔助供給工序中，在向所述基板供給所述置換液時，向比所述基板上的所述置換液的供給位置靠所述基板的外周側(cè)的位置供給所述處理液而在所述基板上形成所述處理液的液膜。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板處理方法，其特征在于，
在所述處理液主供給工序中，在所述基板的整個表面形成所述處理液的液膜，
在所述處理液輔助供給工序中，在所述基板的表面上的比由所述置換液覆蓋的區(qū)域靠外周側(cè)的區(qū)域形成所述處理液的液膜。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板處理方法，其特征在于，
在所述置換液供給工序中，朝向所述基板的中央部供給所述置換液，
在所述處理液輔助供給工序中，一邊使所述處理液的供給位置朝向所述基板的外周側(cè)移動一邊供給所述處理液。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板處理方法，其特征在于，
在所述處理液輔助供給工序中，以比在所述處理液主供給工序中供給的所述處理液的供給流量少的供給流量供給所述處理液。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板處理方法，其特征在于，
在所述處理液輔助供給工序中，于在所述置換液供給工序中開始向所述基板供給所述置換液之前，開始所述處理液的供給。
14.一種記錄有基板處理程序的計算機(jī)可讀取的記錄介質(zhì)，其特征在于，
基板處理程序的內(nèi)容如下：使用具有一邊保持基板一邊使基板旋轉(zhuǎn)的基板旋轉(zhuǎn)部、向所述基板供給處理液的處理液供給部以及向所述基板供給與從所述處理液供給部供給來的所述處理液置換的置換液的置換液供給部的基板處理裝置，利用所述基板旋轉(zhuǎn)部使所述基板旋轉(zhuǎn)，利用所述處理液供給部向所述基板供給所述處理液，之后，利用所述置換液供給部向所述基板供給所述置換液而形成置換液的液膜、并且利用所述處理液供給部向比所述基板上的所述置換液的供給位置靠外周側(cè)的位置供給所述處理液而形成處理液的液膜。