技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明屬于一種高功率強流離子源及中性束注入加熱技術(shù)領域，具體涉及一種長脈沖高功率離子源電極柵冷卻水路及真空密封結(jié)構(gòu)，包括由多層水冷電極柵及其支撐法蘭平行組裝而成，每層水冷電極板由兩塊結(jié)構(gòu)相同的水冷電極柵搭接組成，以及布置在支撐法蘭內(nèi)部和水冷電極柵內(nèi)部的冷卻水路，這種水路結(jié)構(gòu)不僅可以瞬時冷卻電極，確保電極柵板之間電場分布的均勻一致性，還省略了連接電極與法蘭的水管，省略了水管與電極的連接結(jié)構(gòu)，節(jié)省了空間，降低了法蘭及其整個真空腔體包括絕緣腔的大小，降低了加工成本，尤其適用于結(jié)構(gòu)緊湊型離子源第一電極水路結(jié)構(gòu)。

技術(shù)研發(fā)人員：鄒桂清;曹建勇;闞存東
受保護的技術(shù)使用者：核工業(yè)西南物理研究院;北京利方達真空技術(shù)有限責任公司
技術(shù)研發(fā)日：2015.12.31
技術(shù)公布日：2017.07.07