本發(fā)明涉及在處理室內(nèi)對(duì)基板實(shí)施例如離子注入等處理的基板處理裝置。

背景技術(shù)：

作為以往的基板處理裝置，如專利文獻(xiàn)1所示，有下述的裝置：該裝置具備：處理室，在該處理室中向立起的基板照射離子束；以及閘室(預(yù)真空室)，與所述處理室鄰接設(shè)置，以將基板放倒為水平的狀態(tài)收容基板。所述基板處理裝置通過用設(shè)置于處理室中的支架移動(dòng)機(jī)構(gòu)將設(shè)置于處理室中的兩個(gè)呈平板狀的支架(臺(tái)板)交替往返移動(dòng)，對(duì)保持在支架上的基板進(jìn)行離子注入。

具體地進(jìn)行說明，所述支架移動(dòng)機(jī)構(gòu)由線性運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)和轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)構(gòu)成，所述線性運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)由設(shè)置于處理室內(nèi)的滾珠絲杠和與該滾珠絲杠螺紋連接的滾珠螺母構(gòu)成，所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)使支架在水平狀態(tài)與立起狀態(tài)之間轉(zhuǎn)動(dòng)。

支架支承臂為L(zhǎng)形，具備安裝在滾珠螺母上并與滾珠絲杠垂直地延伸的根部臂、以及從所述根部臂的前端起與滾珠絲杠平行地延伸的支承臂，所述支架支承臂的前端安裝有所述支架的側(cè)緣。另外，支架面與由所述根部臂及支承臂形成的面在同一個(gè)平面上。

通過這種結(jié)構(gòu)，以如下的方式將基板從閘室向處理室移動(dòng)。

首先，在通過所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)使支架支承臂成為放倒的狀態(tài)亦即使支架成為水平狀態(tài)后，通過所述線性運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)使支架進(jìn)入所述閘室，將處于水平狀態(tài)的基板保持在支架上。接著，使保持有基板的支架后退并將其取出到處理室內(nèi)。隨后，通過利用所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)使支架支承臂轉(zhuǎn)動(dòng)并立起，使支架和保持在該支架上的基板立起。而后，在保持所述姿勢(shì)的狀態(tài)下，通過所述線性運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)將基板移動(dòng)到照射離子束的離子束照射 區(qū)域。使被照射了離子束后的基板以與所述步驟相反的步驟返回到閘室內(nèi)。

從所述結(jié)構(gòu)可知，支架的側(cè)緣(即，與通過滾珠絲杠移動(dòng)的移動(dòng)方向垂直的端緣)以懸臂的方式支承在支架支承臂的前端。此外，支承所述支架支承臂的滾珠螺母，在所述支架的移動(dòng)方向上位于支架的外側(cè)。

可是，近年來玻璃基板的尺寸正在大型化，已經(jīng)達(dá)到第十代(基板尺寸2850mm×3050mm)的程度。此外，需要滿足與基板的大型化無關(guān)地提高基板處理裝置的生產(chǎn)率的要求。

認(rèn)為，所述的專利文獻(xiàn)1的基板處理裝置由于是將兩個(gè)基板上下重疊輸送的方式，所以不僅可以減小裝置尺寸，還可以提高生產(chǎn)率。

可是，在所述以往的結(jié)構(gòu)中，由于因基板的大型化導(dǎo)致保持基板的支架也大型化，所以會(huì)產(chǎn)生例如下述的問題。

(1)在以往的結(jié)構(gòu)中，在閘室與處理室之間，以不在中途交接基板的方式邊改變其姿勢(shì)邊用單個(gè)支架保持并移動(dòng)基板，因此支架的支承結(jié)構(gòu)變得復(fù)雜且勉強(qiáng)(例如為了能將基板插入閘室內(nèi)，將支架支承臂形成為前述的L形等長(zhǎng)的形狀，并用該支架支承臂以懸臂的方式支承支架的側(cè)緣)，因而，由于基板和支架的大型化、沉重化，所以變得往往在所述支架支承臂、以及移動(dòng)該支架支承臂的所述線性運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)和轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)等上作用過大的力。

具體地進(jìn)行說明，由于所述滾珠螺母通過L形的支架支承臂在支架移動(dòng)方向的外側(cè)支承支架，所以如果支架大型化并且重量增加，則不論支架是在立起姿勢(shì)還是水平姿勢(shì)的任意姿勢(shì)情況下，都存在下述問題：滾珠螺母上總是會(huì)作用大的力矩，支架的支承變得不穩(wěn)定，會(huì)損害滾珠螺母的移動(dòng)的平滑性。

(2)不得不采用能使大型化后的支架進(jìn)入閘室的結(jié)構(gòu)，需要加大閘室的容積。

(3)由于閘室用于不使處理室返回大氣氣氛就能在處理室和大氣之間取放基板，所以在交換基板時(shí)閘室從真空氣氛變?yōu)榇髿鈿夥铡⒒驈拇髿鈿夥兆優(yōu)檎婵諝夥?。如上所述，如果閘室的容積變大，則用于切換閘 室的氣氛所花費(fèi)的時(shí)間的會(huì)變多。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本專利公開公報(bào)特開平10-135146號(hào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

因此，本發(fā)明是用于解決所述的問題而做出的發(fā)明，本發(fā)明的主要目的是提供一種基板處理裝置，其能夠穩(wěn)定地支承大型化了的支架，并且能夠防止因支架的大型化而導(dǎo)致閘室的大容量化，并能縮短切換所述閘室的氣氛的時(shí)間。

即，本發(fā)明提供一種基板處理裝置，其包括：處理室，在該處理室中在真空氣氛下處理基板；閘室，收容所述基板，被切換為大氣氣氛或真空氣氛；輸送室，設(shè)置在所述處理室和所述閘室之間，在真空氣氛下在所述處理室和所述閘室之間輸送所述基板；兩個(gè)支架，設(shè)置在所述處理室中，分別保持基板；支架移動(dòng)機(jī)構(gòu)，至少使所述兩個(gè)支架在接收從所述輸送室輸送來的所述基板的接收位置與處理所述基板的處理位置之間移動(dòng)，并且在所述接收位置使所述兩個(gè)支架成為上下排列的狀態(tài)；以及基板輸送機(jī)構(gòu)，設(shè)置在所述輸送室中，將收容在所述閘室中的所述基板以上下排列的狀態(tài)統(tǒng)一輸送到位于所述接收位置的所述兩個(gè)支架，所述支架移動(dòng)機(jī)構(gòu)包括：線性運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，使所述兩個(gè)支架分別沿按各個(gè)支架設(shè)定在規(guī)定的軸向上的彼此不同的移動(dòng)路徑移動(dòng)；以及轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，使所述兩個(gè)支架繞所述規(guī)定的軸向轉(zhuǎn)動(dòng)，所述線性運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)在比所述支架的所述規(guī)定的軸向上的兩端更靠?jī)?nèi)側(cè)的位置支承所述支架。

總之，所述基板處理裝置不是像以往那樣通過支架和支架支承臂從閘室到處理室以途中不交接的方式輸送基板，而是通過中間設(shè)置的基板輸送機(jī)構(gòu)，將收容在閘室中的基板輸送到設(shè)置在處理室中的支架上。

因此，基板輸送機(jī)構(gòu)只要具備不改變基板的姿勢(shì)地在閘室和輸送室之間輸送基板的功能即可，其結(jié)構(gòu)當(dāng)然能夠簡(jiǎn)單且小型化。此外，能夠使從閘室取出基板或?qū)⒒宸湃腴l室的基板輸送機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單且小型化，這樣能夠?qū)㈤l室的大容量化抑制為最小限度，例如能夠縮短閘室的 氣氛的切換時(shí)間。

另一方面，支架移動(dòng)機(jī)構(gòu)只要使支架僅在處理室內(nèi)移動(dòng)即可，其結(jié)果，構(gòu)成支架移動(dòng)機(jī)構(gòu)的所述線性運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，在比所述軸向上的支架的兩端更靠?jī)?nèi)側(cè)的位置支承支架。在此，“在比所述軸向上的支架的兩端更靠?jī)?nèi)側(cè)的位置支承支架”是指，設(shè)定在線性運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上的支架支承部位的至少一部分，位于比支架的兩端實(shí)質(zhì)上更靠?jī)?nèi)側(cè)，即，位于能得到和本發(fā)明相同效果的范圍內(nèi)的內(nèi)側(cè)(少許支承部位位于外側(cè)也可以)。因此，按照這種結(jié)構(gòu)，能使所述支承部位盡可能接近支架，從而能穩(wěn)定地支承支架。

優(yōu)選的是，所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)使所述兩個(gè)支架分別獨(dú)立地轉(zhuǎn)動(dòng)。

相比于以往那種使兩個(gè)支架和線性運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)一起轉(zhuǎn)動(dòng)的結(jié)構(gòu)，如果是這種使兩個(gè)支架分別獨(dú)立地轉(zhuǎn)動(dòng)的結(jié)構(gòu)，則能夠減小驅(qū)動(dòng)力。這種結(jié)構(gòu)在支架大型化了情況下尤其有效。

優(yōu)選的是，所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)通過使所述支架轉(zhuǎn)動(dòng)，使所述基板在例如作為水平狀態(tài)的倒伏位置和例如作為垂直狀態(tài)的立起位置之間進(jìn)行姿勢(shì)變更，所述兩個(gè)支架的轉(zhuǎn)動(dòng)軸上下錯(cuò)開，使得當(dāng)使一方的支架處于所述倒伏位置時(shí)，所述一方的支架不與另一方的支架的轉(zhuǎn)動(dòng)軸干涉。

按照該方式，能夠通過簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)消除在使兩個(gè)支架分別獨(dú)立地轉(zhuǎn)動(dòng)的情況下可能引起的一方的支架與另一方的支架的轉(zhuǎn)動(dòng)軸的干涉。

由于使兩個(gè)支架的轉(zhuǎn)動(dòng)軸上下錯(cuò)開，所以例如雖然使位于倒伏位置的兩個(gè)支架沒有錯(cuò)開地保持基板，但如果將所述的支架轉(zhuǎn)動(dòng)到立起位置，則基板的位置也會(huì)錯(cuò)開。因此，優(yōu)選的是，所述基板處理裝置還包括基板位置修正機(jī)構(gòu)，所述基板位置修正機(jī)構(gòu)使所述一方的支架處于立起位置時(shí)的基板的上下方向的位置與所述另一方的支架處于立起位置時(shí)的基板的上下方向的位置一致。

按照該方式，能夠使保持在一方的支架上的基板和保持在另一方的支架上的基板的例如離子注入等上下方向的處理位置一致。

優(yōu)選的是，所述基板位置修正機(jī)構(gòu)設(shè)置在設(shè)于所述閘室中的基板臺(tái)上，通過使分別放置有上下兩個(gè)基板的上側(cè)臺(tái)面和下側(cè)臺(tái)面中的至少一 方相對(duì)于另一方相對(duì)移動(dòng)，使所述上側(cè)臺(tái)面和下側(cè)臺(tái)面的錯(cuò)開量與因所述兩個(gè)支架的轉(zhuǎn)動(dòng)而產(chǎn)生的所述基板位置的錯(cuò)開量相同。

由此，通過將基板位置修正機(jī)構(gòu)設(shè)置于基板臺(tái)，相比于設(shè)置于基板輸送機(jī)構(gòu)或支架等的情況，能夠簡(jiǎn)化結(jié)構(gòu)。

由于閘室因在真空氣氛和大氣氣氛之間切換而在內(nèi)部產(chǎn)生對(duì)流，所以在將基板位置修正機(jī)構(gòu)設(shè)置于閘室中的情況下，存在基板位置修正機(jī)構(gòu)成為顆粒產(chǎn)生源的問題。此外，因?yàn)殚l室的容量會(huì)變大基板位置修正機(jī)構(gòu)這部分，所以閘室的氣氛的切換時(shí)間變長(zhǎng)，會(huì)對(duì)生產(chǎn)率產(chǎn)生惡劣影響。

因此，優(yōu)選的是，所述基板位置修正機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述基板輸送機(jī)構(gòu)上，通過使分別放置有上下兩個(gè)基板的上側(cè)輸送面和下側(cè)輸送面中的至少一方相對(duì)于另一方相對(duì)移動(dòng)，使所述上側(cè)輸送面和所述下側(cè)輸送面的錯(cuò)開量與因所述兩個(gè)支架的轉(zhuǎn)動(dòng)而產(chǎn)生的所述基板位置的錯(cuò)開量相同。

這樣，通過將基板位置調(diào)整機(jī)構(gòu)設(shè)置于基板輸送機(jī)構(gòu)，能夠減小閘室的容量，能夠縮短閘室的氣氛的切換時(shí)間，從而能夠提高生產(chǎn)率。

優(yōu)選的是，所述兩個(gè)支架包括上側(cè)支架和下側(cè)支架，所述基板位置修正機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述支架上、所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上或所述支架與所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)之間，通過使分別保持有上下兩個(gè)基板的所述上側(cè)支架和所述下側(cè)支架中的至少一方相對(duì)于另一方相對(duì)移動(dòng)，使所述上側(cè)支架和所述下側(cè)支架的錯(cuò)開量與因所述兩個(gè)支架的轉(zhuǎn)動(dòng)而產(chǎn)生的所述基板位置的錯(cuò)開量相同。

這樣，通過將基板位置調(diào)整機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述支架上、所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上或所述支架和所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)之間，能夠減小閘室的容量，能夠縮短閘室的氣氛的切換時(shí)間，從而能夠提高生產(chǎn)率。在此，通過使基板位置修正機(jī)構(gòu)利用所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)的動(dòng)力，無需設(shè)置新的動(dòng)力。

按照所述構(gòu)成的本發(fā)明，能夠穩(wěn)定地支承大型化了的支架，并且能夠防止因支架的大型化導(dǎo)致閘室的大容量化，并能夠縮短切換所述閘室的氣氛的時(shí)間。

附圖說明

圖1是表示本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的基板處理裝置的結(jié)構(gòu)的示意圖。

圖2是示意性地表示與圖1為相同實(shí)施方式的支架移動(dòng)機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)的主視圖和側(cè)視圖。

圖3是示意性地表示與圖1為相同實(shí)施方式的支架移動(dòng)機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)的立體圖。

圖4是表示與圖1為相同實(shí)施方式的兩個(gè)支架的倒伏位置和立起位置的示意圖。

圖5是在基板輸送機(jī)構(gòu)上設(shè)置有與圖1為相同實(shí)施方式的基板位置修正機(jī)構(gòu)的情況的示意圖。

圖6是在基板臺(tái)上設(shè)置有與圖1為相同實(shí)施方式的基板位置修正機(jī)構(gòu)的情況的示意圖。

圖7是在支架上設(shè)置有與圖1為相同實(shí)施方式的基板位置修正機(jī)構(gòu)的情況的示意圖。

圖8是表示與圖1為相同實(shí)施方式的基板的處理位置和退避位置的示意圖。

圖9是表示本發(fā)明的其他實(shí)施方式的滑塊的支承部位的示意圖。

圖10是表示本發(fā)明的另一實(shí)施方式的滑塊的支承部位的示意圖。

附圖標(biāo)記說明

100···基板處理裝置

W···基板

S1···處理室

S2···閘室

S3···輸送室

21···上側(cè)支架(支架)

22···下側(cè)支架(支架)

P1···接收位置

P2···處理位置

3···支架移動(dòng)機(jī)構(gòu)

5···基板輸送機(jī)構(gòu)

31···線性運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)

32···轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)

Q1···倒伏位置

Q2···立起位置

4···轉(zhuǎn)動(dòng)軸

6···基板位置修正機(jī)構(gòu)

7···基板臺(tái)

71···上側(cè)臺(tái)

72···下側(cè)臺(tái)

51···上側(cè)手

52···下側(cè)手

具體實(shí)施方式

下面，參照附圖說明本發(fā)明的基板處理裝置的一個(gè)實(shí)施方式。

本實(shí)施方式的基板處理裝置100，在真空室內(nèi)向用于平板顯示器等的、大型的基板W照射離子束IB對(duì)所述基板W進(jìn)行處理。在此，本實(shí)施方式的基板W包括例如玻璃基板、具有取向膜的玻璃基板、半導(dǎo)體基板、以及其他照射離子束的基板。此外，基板W的形狀在本實(shí)施方式中是大體為矩形的薄板，但是也可以呈圓形。

具體地說，如圖1所示，所述基板處理裝置100包括：處理室S1，在真空室的內(nèi)部，在真空氣氛下向基板W照射離子束IB對(duì)基板W進(jìn)行處理；閘室S2，切換為大氣氣氛或真空氣氛，在使處理室S1維持真空氣氛的狀態(tài)下取放基板W并且收容所述基板W；以及輸送室S3，以與處理室S1和閘室S2鄰接的方式設(shè)置在處理室S1和閘室S2之間，在真空氣氛下在處理室S1和閘室S2之間輸送基板W。在處理室S1～輸送室S3各室的連接部分設(shè)有閘閥等真空閥，可以將處理室S1～輸送室S3各室分別獨(dú)立地維持在真空狀態(tài)。另外，向處理室S1中導(dǎo)入例如帶狀的離 子束IB，所述帶狀的離子束IB通過引出電極從離子源引出，并通過了分析電磁鐵和分析狹縫等質(zhì)量分析系統(tǒng)。

此外，如圖2和圖3所示，在處理室S1中設(shè)有分別保持基板W的上側(cè)支架21和下側(cè)支架22這兩個(gè)支架、以及移動(dòng)所述上側(cè)支架21和下側(cè)支架22這兩個(gè)支架的支架移動(dòng)機(jī)構(gòu)3。

上側(cè)支架21和下側(cè)支架22這兩個(gè)支架彼此呈相同的形狀，能通過支架移動(dòng)機(jī)構(gòu)3分別獨(dú)立地移動(dòng)。

如圖1所示，支架移動(dòng)機(jī)構(gòu)3使上側(cè)支架21和下側(cè)支架22這兩個(gè)支架在接收從輸送室S3輸送的基板W的接收位置P1和處理基板W的處理位置P2之間移動(dòng)，并且在接收位置P1使上側(cè)支架21和下側(cè)支架22這兩個(gè)支架成為上下排列的狀態(tài)。

具體地說，如圖2和圖3所示，支架移動(dòng)機(jī)構(gòu)3具備：線性運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)31，使上側(cè)支架21和下側(cè)支架22這兩個(gè)支架按各個(gè)支架21、22沿規(guī)定的軸向移動(dòng)；以及轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)32，使上側(cè)支架21和下側(cè)支架22這兩個(gè)支架繞規(guī)定的軸向轉(zhuǎn)動(dòng)。另外，本實(shí)施方式的“規(guī)定的軸向”是如圖1所示的橫切離子束的、沿著左右方向的軸向。

線性運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)31使上側(cè)支架21和下側(cè)支架22各支架分別沿設(shè)定在所述規(guī)定的軸向上的、彼此平行且不同的移動(dòng)路徑直線移動(dòng)。

具體地說，線性運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)31具備：第一導(dǎo)軌31a，規(guī)定一方的支架21的移動(dòng)路徑；第一滑塊31b，在所述第一導(dǎo)軌31a上滑動(dòng)并支承一方的支架21；未圖示的驅(qū)動(dòng)器，使所述第一滑塊31b在第一導(dǎo)軌31a上移動(dòng)；第二導(dǎo)軌31c，規(guī)定另一方的支架22的移動(dòng)路徑；第二滑塊31d，在所述第二導(dǎo)軌31c上滑動(dòng)并支承另一方的支架22；以及未圖示的驅(qū)動(dòng)器，使所述第二滑塊31d在第二導(dǎo)軌31c上移動(dòng)。

第一導(dǎo)軌31a和第二導(dǎo)軌31c沿所述規(guī)定的軸向(左右方向)彼此平行地設(shè)置，在本實(shí)施方式中分別形成在單個(gè)軌道構(gòu)件301的、彼此相對(duì)的相對(duì)面(前后側(cè)面)上。

第一滑塊31b在一方的支架21的下方支承所述一方的支架21，第二滑塊31d在另一方的支架22的下方支承所述另一方的支架22。更具體 地說，第一滑塊31b和第二滑塊31d各滑塊分別呈塊狀，在分別設(shè)置于它們的上端面的支承部位X1、X2支承上方敞開的コ形的支承框32a(具體后述)的底邊部，所述支承框32a以可轉(zhuǎn)動(dòng)的方式保持上側(cè)支架21和下側(cè)支架22。即，為了支承上側(cè)支架21和下側(cè)支架22而設(shè)定在線性運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)31上的支承部位X1、X2，配置在實(shí)質(zhì)上比上側(cè)支架21和下側(cè)支架22各支架的所述軸向的兩端(左右兩端)更靠?jī)?nèi)側(cè)的下方的位置。

如圖3所示，轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)32使上側(cè)支架21和下側(cè)支架22這兩個(gè)支架分別獨(dú)立地轉(zhuǎn)動(dòng)，在基板W成為水平狀態(tài)的倒伏位置Q1和基板W成為垂直狀態(tài)的立起位置Q2之間使上側(cè)支架21和下側(cè)支架22各支架轉(zhuǎn)動(dòng)90°。另外，基板在倒伏位置無需一定水平，例如如果在閘室中的基板保持姿勢(shì)略微傾斜，則基板的倒伏位置可以與其配合傾斜。此外，基板在立起位置也無需一定垂直，例如可以配合離子束的照射角度傾斜。

具體地說，如圖2和圖3所示，轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)32分別設(shè)置在上側(cè)支架21和下側(cè)支架22各支架上，轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)32具備：支承框32a，通過沿所述規(guī)定的軸向設(shè)置的轉(zhuǎn)動(dòng)軸4以可轉(zhuǎn)動(dòng)的方式分別支承上側(cè)支架21和下側(cè)支架22；馬達(dá)等驅(qū)動(dòng)器32b，設(shè)置在所述支承框32a的下方；以及傳遞連桿32c，通過向所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸4傳遞所述驅(qū)動(dòng)器32b的驅(qū)動(dòng)力，使所述上側(cè)支架21和下側(cè)支架22轉(zhuǎn)動(dòng)。轉(zhuǎn)動(dòng)軸4分別與上側(cè)支架21和下側(cè)支架22的左右側(cè)面連接，支承框32a呈正面觀察時(shí)大體朝上的コ形，并具有支承上側(cè)支架21和下側(cè)支架22的左右兩側(cè)的轉(zhuǎn)動(dòng)軸4的左右側(cè)壁。

通過所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)32，本實(shí)施方式的上側(cè)支架21和下側(cè)支架22如圖3和圖4所示，在接收基板W時(shí)的倒伏位置Q1和向基板W注入離子束IB的立起位置Q2之間以最小的轉(zhuǎn)動(dòng)角度轉(zhuǎn)動(dòng)。例如，在立起位置Q2是使基板成為垂直的垂直位置的情況下，轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)32使上側(cè)支架21和下側(cè)支架22在倒伏位置Q1和立起位置Q2之間轉(zhuǎn)動(dòng)90度。

另外，在本實(shí)施方式中，在轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)32的支承框32a的下壁的下表面，分別固定有線性運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)31的第一滑塊31b和第二滑塊31d。即，線性運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)31通過在轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)32的下方支承轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)32，來支承上側(cè)支架21和下側(cè)支架22。

通過如上所述地構(gòu)成的支架移動(dòng)機(jī)構(gòu)3，在上側(cè)支架21和下側(cè)支架22這兩個(gè)支架都處于倒伏位置Q1的接收位置P1，所述上側(cè)支架21和下側(cè)支架22這兩個(gè)支架成為上下排列的狀態(tài)。因此，將上側(cè)支架21和下側(cè)支架22這兩個(gè)支架的轉(zhuǎn)動(dòng)軸4在上下方向上錯(cuò)開，使得當(dāng)一方的支架21成為倒伏位置Q1時(shí)，所述一方的支架21不會(huì)與另一方的支架22的轉(zhuǎn)動(dòng)軸4發(fā)生干涉。具體地說，在接收位置P1，位于上側(cè)的一方的支架21的轉(zhuǎn)動(dòng)軸4錯(cuò)開為比位于下側(cè)的另一方的支架22的轉(zhuǎn)動(dòng)軸4更靠上側(cè)。

此外，在輸送室S3中設(shè)有基板輸送機(jī)構(gòu)5，所述基板輸送機(jī)構(gòu)5將收容于閘室S2中的基板W向位于處理室S1的接收位置P1的上側(cè)支架21和下側(cè)支架22這兩個(gè)支架輸送。

所述基板輸送機(jī)構(gòu)5將收容在閘室S2的基板臺(tái)7上的兩個(gè)基板W以上下排列的狀態(tài)統(tǒng)一輸送到位于接收位置P1的上側(cè)支架21和下側(cè)支架22這兩個(gè)支架上。具體地說，基板輸送機(jī)構(gòu)5具備：上側(cè)手51，輸送上下兩個(gè)基板W中的上側(cè)的基板W；下側(cè)手52，輸送下側(cè)的基板W；以及手驅(qū)動(dòng)裝置53，使上側(cè)手51和下側(cè)手52在閘室S2和處理室S1之間移動(dòng)。在本實(shí)施方式中，上側(cè)手51和下側(cè)手52由共同的手支承部54一體形成。

接著，說明基板輸送機(jī)構(gòu)5和支架移動(dòng)機(jī)構(gòu)3的動(dòng)作。

首先，通過支架移動(dòng)機(jī)構(gòu)3位于接收位置P1的上側(cè)支架21和下側(cè)支架22這兩個(gè)支架，都處于倒伏位置Q1且成為上下排列的狀態(tài)。在該狀態(tài)下，通過基板輸送機(jī)構(gòu)5向上側(cè)支架21和下側(cè)支架22各支架分別輸送并放置一個(gè)基板W。

接著，通過轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)32使上側(cè)支架21和下側(cè)支架22這兩個(gè)支架從倒伏位置Q1轉(zhuǎn)動(dòng)到立起位置Q2。隨后，通過線性運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)31將上側(cè)支架21和下側(cè)支架22這兩個(gè)支架一個(gè)一個(gè)交替地沿移動(dòng)路徑往返移動(dòng)到處理位置P2。由此，向各基板W照射離子束IB進(jìn)行離子注入處理。在此所述的處理位置P2如圖8所示在軸向上具有規(guī)定的寬度，并且是指從如圖8的(a)所示的、設(shè)定在基板W上的離子注入?yún)^(qū)域的一方的側(cè)緣 暴露于離子束IB的位置到如圖8的(b)所示的、所述離子注入?yún)^(qū)域的另一方的側(cè)緣暴露于離子束IB的位置為止的范圍。另外，在此的線性運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)31如圖8的(c)所示，能使保持有基板W的上側(cè)支架21和下側(cè)支架22超過所述處理位置P2移動(dòng)到設(shè)定于接收位置P1的相反一側(cè)的退避位置(處理結(jié)束位置)P3，但是線性運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)31也可以構(gòu)成為僅能使保持有基板W的上側(cè)支架21和下側(cè)支架22移動(dòng)到處理位置P2。

而后，處理結(jié)束后，上側(cè)支架21和下側(cè)支架22這兩個(gè)支架通過線性運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)31和轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)32移動(dòng)到接收位置P1，通過基板輸送機(jī)構(gòu)5將處理完的基板W從處理室S1向閘室S2輸送。

如圖4所示，在本實(shí)施方式的基板處理裝置100中，由于上側(cè)支架21和下側(cè)支架22這兩個(gè)支架的轉(zhuǎn)動(dòng)軸4在上下方向上錯(cuò)開，所以為了使對(duì)位于立起位置Q2的各支架21、22上保持的基板W進(jìn)行處理的處理高度(離子束的離子束中心的位置)相同，需要將位于倒伏位置Q1的各支架21、22上保持的基板W沿前后方向(向上側(cè)支架21和下側(cè)支架22輸送的輸送方向)錯(cuò)開規(guī)定量。在此所謂的“規(guī)定量”是指上側(cè)支架21和下側(cè)支架22這兩個(gè)支架的轉(zhuǎn)動(dòng)軸4在上下方向上的錯(cuò)開量與上側(cè)支架21和下側(cè)支架22這兩個(gè)支架的轉(zhuǎn)動(dòng)軸4在前后方向(向上側(cè)支架21和下側(cè)支架22輸送的輸送方向)上的錯(cuò)開量的合計(jì)。

因此，本實(shí)施方式的基板處理裝置100包括基板位置修正機(jī)構(gòu)6，所述基板位置修正機(jī)構(gòu)6使將一方的支架21設(shè)于立起位置Q2時(shí)的基板W的上下方向的位置與、將所述另一方的支架22設(shè)于立起位置Q2時(shí)的基板W的上下方向的位置一致。

具體地說，作為基板位置修正機(jī)構(gòu)6，可以考慮如下所述的情況：(1)設(shè)置在輸送室S3中的情況，(2)設(shè)置在閘室S2中的情況下，(3)設(shè)置在處理室S1中的情況。

(1)設(shè)置在輸送室S3中的情況

作為設(shè)置在輸送室S3中的情況，可以考慮設(shè)置于輸送室S3內(nèi)的基板輸送機(jī)構(gòu)5。

具體地說，如圖5所示，作為使分別放置上下兩個(gè)基板W的、上側(cè) 手51的輸送面(上側(cè)輸送面)和下側(cè)手52的輸送面(下側(cè)輸送面)中的至少一方相對(duì)于另一方移動(dòng)的結(jié)構(gòu)，使上側(cè)輸送面和下側(cè)輸送面的錯(cuò)開量與因上側(cè)支架21和下側(cè)支架22這兩個(gè)支架從倒伏位置Q1向立起位置Q2轉(zhuǎn)動(dòng)而產(chǎn)生的基板W的位置的錯(cuò)開量相同。

圖5所示的一個(gè)例子，通過使上側(cè)輸送面相對(duì)于下側(cè)輸送面在前后方向上相對(duì)移動(dòng)來進(jìn)行位置修正，所述基板位置修正機(jī)構(gòu)6具備：例如真空用伺服馬達(dá)等驅(qū)動(dòng)器6a1，設(shè)于支承下側(cè)手52的手支承部54；直線引導(dǎo)機(jī)構(gòu)6a2，設(shè)于所述手支承部54和上側(cè)手51之間，沿前后方向延伸；以及同步帶等傳遞部6a3，將所述驅(qū)動(dòng)器6a1的驅(qū)動(dòng)力傳遞給所述上側(cè)手51，使所述上側(cè)手51利用直線引導(dǎo)機(jī)構(gòu)6a2直線移動(dòng)。另外，通過未圖示的線纜承載管(CABLEVEYOR(注冊(cè)商標(biāo)))等向驅(qū)動(dòng)器6a1供給電力。

下面對(duì)由所述基板位置修正機(jī)構(gòu)6進(jìn)行的基板W的位置修正動(dòng)作進(jìn)行說明。

當(dāng)基板輸送機(jī)構(gòu)5從閘室S2的基板臺(tái)7取出兩個(gè)基板W時(shí)，上側(cè)手51和下側(cè)手52上下位置相同，分別放置在上側(cè)手51和下側(cè)手52這兩個(gè)手上的兩個(gè)基板W上下位置相同。此外，在基板輸送機(jī)構(gòu)5將兩個(gè)基板W從閘室S2向處理室S1輸送期間，基板位置修正機(jī)構(gòu)6使上側(cè)手51相對(duì)于下側(cè)手52相對(duì)移動(dòng)，由此修正基板W的位置。在該狀態(tài)下，將兩個(gè)基板W交給位于處理室S1的接收位置P1的上側(cè)支架21和下側(cè)支架22這兩個(gè)支架。由此，當(dāng)接收了基板W的上側(cè)支架21和下側(cè)支架22這兩個(gè)支架轉(zhuǎn)動(dòng)到立起位置Q2時(shí)，分別保持于所述上側(cè)支架21和下側(cè)支架22上的基板W的處理高度(向各基板W照射的離子束IB的離子束中心的高度)相同。另外，當(dāng)將處理完的基板W從上側(cè)支架21和下側(cè)支架22收容到閘室S2的基板臺(tái)7上時(shí)，基板位置修正機(jī)構(gòu)6進(jìn)行與所述動(dòng)作相反的動(dòng)作，當(dāng)將處理完的基板W收容到閘室S2的基板臺(tái)7上時(shí)，上側(cè)手51和下側(cè)手52上下位置相同。

(2)設(shè)置在閘室S2中的情況

作為設(shè)置在閘室S2中的情況，可以考慮設(shè)置在閘室S2內(nèi)的基板臺(tái) 7上。

具體地說，如圖6所示，作為使分別放置上下兩個(gè)基板W的上側(cè)臺(tái)71的放置面(上側(cè)臺(tái)面)和下側(cè)臺(tái)72的放置面(下側(cè)臺(tái)面)中的至少一方相對(duì)于另一方相對(duì)移動(dòng)的結(jié)構(gòu)，使上側(cè)臺(tái)面與下側(cè)臺(tái)面的錯(cuò)開量與因上側(cè)支架21和下側(cè)支架22這兩個(gè)支架從倒伏位置Q1向立起位置Q2轉(zhuǎn)動(dòng)而產(chǎn)生的基板W的位置的錯(cuò)開量相同。

圖6所示的一個(gè)例子，通過使下側(cè)臺(tái)面相對(duì)于上側(cè)臺(tái)面在交接方向上相對(duì)移動(dòng)來進(jìn)行位置修正，所述基板位置修正機(jī)構(gòu)6具備：伺服電機(jī)等驅(qū)動(dòng)器6b1；直線引導(dǎo)機(jī)構(gòu)6b2，設(shè)置在下側(cè)臺(tái)72的下側(cè)，沿交接方向延伸；以及連桿部6b3，通過將所述驅(qū)動(dòng)器6b1的驅(qū)動(dòng)力傳遞給下側(cè)臺(tái)72，使所述下側(cè)臺(tái)72利用直線引導(dǎo)機(jī)構(gòu)6b2直線移動(dòng)。

下面對(duì)由所述基板位置修正機(jī)構(gòu)6進(jìn)行的基板W的位置修正動(dòng)作進(jìn)行說明。

當(dāng)將基板從真空室的外部(大氣)收容到閘室S2的基板臺(tái)7上時(shí)，上側(cè)臺(tái)71和下側(cè)臺(tái)72上下位置相同。隨后，在閘室S2的大氣氣氛或真空氣氛的狀態(tài)下，基板位置修正機(jī)構(gòu)6通過使下側(cè)臺(tái)72相對(duì)于上側(cè)臺(tái)71相對(duì)移動(dòng)，來修正基板W的位置。隨后，基板輸送機(jī)構(gòu)5的上側(cè)手51和下側(cè)手52分別接收上側(cè)臺(tái)71和下側(cè)臺(tái)72上的基板W，并將兩個(gè)基板W轉(zhuǎn)交給位于處理室S1的接收位置P1的上側(cè)支架21和下側(cè)支架22這兩個(gè)支架。另外，配合所述上側(cè)臺(tái)71和下側(cè)臺(tái)72的錯(cuò)開量，設(shè)定基板輸送機(jī)構(gòu)5的上側(cè)手51和下側(cè)手52的長(zhǎng)度。由此，當(dāng)接收了基板W的上側(cè)支架21和下側(cè)支架22這兩個(gè)支架轉(zhuǎn)動(dòng)到立起位置Q2時(shí)，對(duì)分別保持在所述上側(cè)支架21和下側(cè)支架22上的基板W進(jìn)行處理的處理高度(向各基板W照射的離子束IB的離子束中心的高度)成為相同。另外，在將處理完的基板W從上側(cè)支架21和下側(cè)支架22收容到閘室S2的基板臺(tái)7上時(shí)，基板位置修正機(jī)構(gòu)6進(jìn)行與所述動(dòng)作相反的動(dòng)作，將處理完的基板W收容到閘室S2的基板臺(tái)7上后，上側(cè)臺(tái)71和下側(cè)臺(tái)72上下位置相同。

(3)設(shè)置在處理室S1中的情況

作為設(shè)置在處理室S1中的情況，可以考慮設(shè)置在處理室S1內(nèi)的支架21、22和轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)32之間。

具體地說，如圖7所示，作為使分別保持上下兩個(gè)基板W的上側(cè)支架21和下側(cè)支架22中的至少一方相對(duì)于另一方相對(duì)移動(dòng)的結(jié)構(gòu)，通過修正因上側(cè)支架21和下側(cè)支架22這兩個(gè)支架從倒伏位置Q1向立起位置Q2轉(zhuǎn)動(dòng)而產(chǎn)生的基板W的位置的錯(cuò)開量，使保持于位于立起位置Q2的上側(cè)支架21和下側(cè)支架22這兩個(gè)支架上的、基板W的上下方向的高度位置一致。

圖7所示的一個(gè)例子，通過使上側(cè)支架21相對(duì)于下側(cè)支架22相對(duì)移動(dòng)來進(jìn)行位置修正，在上側(cè)支架21從倒伏位置Q1轉(zhuǎn)動(dòng)到立起位置Q2期間，上側(cè)支架21相對(duì)于轉(zhuǎn)動(dòng)軸4向下側(cè)退，在從立起位置Q2轉(zhuǎn)動(dòng)到倒伏位置Q1期間，上側(cè)支架21相對(duì)于轉(zhuǎn)動(dòng)軸4向輸送方向伸出。

更具體而言，基板位置修正機(jī)構(gòu)6具備：轉(zhuǎn)動(dòng)基座6c1，與轉(zhuǎn)動(dòng)軸4的支架側(cè)端部連接，與轉(zhuǎn)動(dòng)軸4一起轉(zhuǎn)動(dòng)；固定齒輪6c2，固定在所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸4上；行星齒輪6c4，固定在連桿臂6c3上，并通過與所述固定齒輪6c2嚙合而轉(zhuǎn)動(dòng)，所述連桿臂6c3以轉(zhuǎn)動(dòng)自如的方式與所述轉(zhuǎn)動(dòng)基座6c1連接；從動(dòng)連桿6c5，一端與所述連桿臂6c3連接，另一端與上側(cè)支架21連接；以及直線引導(dǎo)機(jī)構(gòu)6c6，設(shè)置在所述轉(zhuǎn)動(dòng)基座6c1和所述支架21之間。另外，從動(dòng)連桿6c5為伸縮連桿，具備：第一連桿構(gòu)件6c51，一端部固定在連桿臂6c3上；以及第二連桿構(gòu)件6c52，以轉(zhuǎn)動(dòng)自如的方式與所述第一連桿構(gòu)件6c51的另一端部連接，并且以轉(zhuǎn)動(dòng)自如的方式與支架21連接。

下面對(duì)由所述基板位置修正機(jī)構(gòu)6進(jìn)行的基板W的位置修正動(dòng)作進(jìn)行說明。

當(dāng)基板輸送機(jī)構(gòu)5將兩個(gè)基板向位于接收位置P1的上側(cè)支架21和下側(cè)支架22這兩個(gè)支架輸送時(shí)，兩個(gè)支架上下位置相同，放置在所述上側(cè)支架21和下側(cè)支架22這兩個(gè)支架上的兩個(gè)基板W上下位置相同。

而后，轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)32使上側(cè)支架21和下側(cè)支架22各支架從倒伏位置Q1向立起位置Q2轉(zhuǎn)動(dòng)。此時(shí)，如果上側(cè)支架21的轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)32使上側(cè) 支架21的轉(zhuǎn)動(dòng)軸4轉(zhuǎn)動(dòng)，則伴隨與此，固定齒輪6c2和轉(zhuǎn)動(dòng)基座6c1轉(zhuǎn)動(dòng)，行星齒輪6c4圍繞固定齒輪6c2轉(zhuǎn)動(dòng)移動(dòng)。通過所述行星齒輪6c4的轉(zhuǎn)動(dòng)移動(dòng)，連桿臂6c3轉(zhuǎn)動(dòng)，并且固定于連桿臂6c3的從動(dòng)連桿6c5的第一連桿構(gòu)件6c51轉(zhuǎn)動(dòng)，從動(dòng)連桿6c5伸縮，上側(cè)支架21沿直線引導(dǎo)機(jī)構(gòu)6c6滑動(dòng)。在本實(shí)施方式中，伴隨上側(cè)支架21從倒伏位置Q1向立起位置Q2轉(zhuǎn)動(dòng)，從動(dòng)連桿6c5收縮，伴隨支架從起立位置向倒伏位置轉(zhuǎn)動(dòng)，從動(dòng)連桿伸展。由此，當(dāng)接收了基板W的上側(cè)支架21和下側(cè)支架22這兩個(gè)支架從倒伏位置Q1轉(zhuǎn)動(dòng)到了立起位置Q2時(shí)，分別保持在所述上側(cè)支架21和下側(cè)支架22上的基板W的處理高度(對(duì)各基板W照射的離子束IB的離子束中心的高度)相同。此外，當(dāng)從立起位置Q2轉(zhuǎn)動(dòng)到了倒伏位置Q1時(shí)，分別保持在所述上側(cè)支架21和下側(cè)支架22上的基板W上下位置相同。

<本實(shí)施方式的效果>

按照如上所述地構(gòu)成的本實(shí)施方式的基板處理裝置100，在處理室S1和閘室S2之間設(shè)置有輸送室S3，由于通過設(shè)置在所述輸送室S3中的基板輸送機(jī)構(gòu)5把收容在閘室S2中的基板W輸送到設(shè)置在處理室S1中的上側(cè)支架21和下側(cè)支架22上，所以無需使上側(cè)支架21和下側(cè)支架22進(jìn)入閘室S2，能夠防止因上側(cè)支架21和下側(cè)支架22的大型化而導(dǎo)致閘室S2大容量化，并且能夠縮短閘室S2的氣氛的切換時(shí)間。

此外，由于線性運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)31在比上側(cè)支架21和下側(cè)支架22的規(guī)定的軸向上的兩端更靠?jī)?nèi)側(cè)的下方支承上側(cè)支架21和下側(cè)支架22，所以能夠使上側(cè)支架21和下側(cè)支架22的支承部位接近上側(cè)支架21和下側(cè)支架22，從而能夠穩(wěn)定地支承上側(cè)支架21和下側(cè)支架22。

此外，因?yàn)榫邆浠逦恢眯拚龣C(jī)構(gòu)6，所以即使上側(cè)支架21和下側(cè)支架22這兩個(gè)支架的轉(zhuǎn)動(dòng)軸4上下錯(cuò)開，也能夠使保持在一方的支架21上的基板W與保持在另一方的支架22上的基板W上的例如離子注入等上下方向的處理位置一致。

在此，將基板位置修正機(jī)構(gòu)6設(shè)置在閘室S2的基板臺(tái)7上的情況，相比于設(shè)置在基板輸送機(jī)構(gòu)5或上側(cè)支架21和下側(cè)支架22等上的情況， 能夠使結(jié)構(gòu)變得簡(jiǎn)單。此外，將基板位置修正機(jī)構(gòu)6設(shè)置在輸送室S3的基板輸送機(jī)構(gòu)5上的情況，能夠減小閘室S2的容量，并且能夠縮短閘室S2的氣氛的切換時(shí)間，由此能夠提高生產(chǎn)率。此外，將基板位置修正機(jī)構(gòu)6設(shè)置在處理室S1的上側(cè)支架21和下側(cè)支架22與轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)32之間的情況，能夠減小閘室S2的容量，能夠縮短閘室S2的氣氛的切換時(shí)間，由此能夠提高生產(chǎn)率。此時(shí)，由于本實(shí)施方式的基板位置修正機(jī)構(gòu)6利用轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)32的動(dòng)力，所以無需設(shè)置新的動(dòng)力，能夠使裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單化和小型化。

<其他的變形實(shí)施方式>

另外，本發(fā)明不限于所述實(shí)施方式。

例如，如圖9所示，也可以將第一滑塊31b(第二滑塊31d)分成兩塊并設(shè)置在上側(cè)支架21(下側(cè)支架22)的兩側(cè)緣部下方。此外，如圖10所示，第一滑塊31b(第二滑塊31d)的一部分可以設(shè)置在比上側(cè)支架21(下側(cè)支架22)的兩側(cè)緣部更靠外側(cè)。但是，只要支承部位X1(X2)實(shí)質(zhì)上位于比上側(cè)支架21(下側(cè)支架22)的兩側(cè)緣部更靠?jī)?nèi)側(cè)的位置即可。觀察所述圖10時(shí)，雖然嚴(yán)格地講支承部位X1位于上側(cè)支架21的稍外側(cè)，但是由于支承部位X1支承保持上側(cè)支架21的兩側(cè)緣的支承框32a的底邊部，所以支承部位X1實(shí)質(zhì)上位于上側(cè)支架21的內(nèi)側(cè)。

此外，所述實(shí)施方式的兩個(gè)支架可以保持收容有多個(gè)基板的盤。這樣，可以統(tǒng)一處理多個(gè)基板。

此外，在所述實(shí)施方式中，具有兩個(gè)閘室，但是也可以具有一個(gè)閘室，或者可以具有三個(gè)以上的閘室。

此外，在將基板位置修正機(jī)構(gòu)設(shè)置在處理室中的情況下，除了設(shè)置在支架和轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)之間的情況以外，也可以設(shè)置在支架自身上，或者可以設(shè)置在轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)自身上。此外，還可以設(shè)置在線性運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)自身上。在此，在使兩個(gè)支架分別移動(dòng)的線性運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)分別設(shè)置在各個(gè)支架的每一個(gè)上并且在各導(dǎo)軌由不同的構(gòu)件構(gòu)成的情況下，可以通過使所述的導(dǎo)軌相對(duì)移動(dòng)來修正基板位置。

此外，本發(fā)明不限于所述實(shí)施方式，在不脫離本發(fā)明宗旨的范圍可 以進(jìn)行各種變形。

可以相互組合本發(fā)明的各個(gè)實(shí)施方式中所記載的技術(shù)特征形成新的技術(shù)方案。