技術(shù)總結(jié)
根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例，提供了一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)。該半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)包括：襯底；第一納米線，位于襯底上方；以及第二納米線，位于襯底上方并與第一納米線基本對稱。根據(jù)本發(fā)明的實施例，還提供了一種形成納米線的方法。

技術(shù)研發(fā)人員：黃玉蓮;李泳達;陳孟谷
受保護的技術(shù)使用者：臺灣積體電路制造股份有限公司
文檔號碼：201510256037
技術(shù)研發(fā)日：2015.05.19
技術(shù)公布日：2016.12.07