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半導體結構的制作方法

文檔序號:11955806閱讀:來源:國知局
技術總結
本發(fā)明提供一種半導體結構,包含有基底,第一元件,位于該基底中,并且該第一元件沿著第一方向排列,其中該第一元件由氧化半導體材質(zhì)所形成,介電層覆蓋于該第一元件上,以及第二元件,位于該介電層上,并且沿著該第一方向排列,其中該第二元件則作為晶體管結構的柵極使用。

技術研發(fā)人員:周志飚;吳少慧;古其發(fā)
受保護的技術使用者:聯(lián)華電子股份有限公司
文檔號碼:201510216493
技術研發(fā)日:2015.04.30
技術公布日:2016.12.07

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