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一種基于CMOS圖像傳感器工藝的NP型單光子雪崩二極管的制造方法與工藝

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一種基于CMOS圖像傳感器工藝的NP型單光子雪崩二極管的制造方法與工藝
本發(fā)明涉及一種基于CMOS圖像傳感器工藝的NP型單光子雪崩二極管的結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù):
單光子探測(cè)是一種極微弱光的探測(cè)方法,被廣泛應(yīng)用在天文學(xué)、生物化學(xué)和醫(yī)學(xué)診斷等領(lǐng)域中。由于單個(gè)光子的能量極低,用通常的檢測(cè)方法很難直接把這種微弱的信號(hào)提取出來(lái)。要想觀測(cè)到物質(zhì)吸收單個(gè)光子后所引起的變化,必須存在相關(guān)的放大機(jī)制。利用光電效應(yīng)原理,可以采用基于光電倍增管(PMT)和雪崩光電二極管的單光子探測(cè)器。早期的單光子探測(cè)采用光電倍增管的方法。PMT作為單光子探測(cè)器具有高增益、光敏面大和暗計(jì)數(shù)低的優(yōu)點(diǎn),但是它需要工作在高電壓下(通常在800到1500V之間),不能與信號(hào)處理電路進(jìn)行集成,且容易受到磁場(chǎng)的影響。雪崩光電二極管是一種建立在內(nèi)光電效應(yīng)基礎(chǔ)上的光電器件。雪崩光電二極管工作在反向偏壓下,反向偏壓越高,耗盡層中的電場(chǎng)強(qiáng)度也就越大。在單光子探測(cè)中,APD工作在蓋革模式下,反向偏置電壓大于其雪崩擊穿電壓,因此它也被稱(chēng)為蓋革模式雪崩光電二極管或者單光子雪崩二極管(SPAD)。SPAD具有單光子探測(cè)靈敏度、皮秒量級(jí)響應(yīng)速度、增益系數(shù)高、對(duì)電離輻射和磁場(chǎng)不敏感、工作電壓低、暗電流低、體積小、功耗低、過(guò)剩噪聲小、結(jié)構(gòu)緊湊、集成化高等優(yōu)點(diǎn),在光場(chǎng)探測(cè)、光子學(xué)、激光測(cè)距等領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用和關(guān)注。對(duì)于CMOSSPAD器件說(shuō),它主要有兩種結(jié)構(gòu):一種是PN型,另一種是NP型。PN型SPAD是在P型襯底上制作N阱,然后在N阱里制作重?fù)诫sP型區(qū),由N阱和P+構(gòu)成PN結(jié),形成倍增區(qū)。NP型的SPAD是在P型襯底上注入N阱,由P型襯底和N阱構(gòu)成PN結(jié),形成倍增區(qū)。對(duì)于PN型的SPAD,短波長(zhǎng)的光觸發(fā)雪崩的概率要大,長(zhǎng)波長(zhǎng)的光觸發(fā)雪崩的概率要小,因此PN型SPAD對(duì)藍(lán)光比較敏感;同時(shí),SiO2與Si界面的缺陷捕獲電子而產(chǎn)生空穴,即使在外加反向偏置電壓的情況下,這些空穴不會(huì)進(jìn)入倍增區(qū)而觸發(fā)雪崩。而NP型SPAD對(duì)綠光比較敏感;NP型SPAD可以使用重?fù)诫sN區(qū)域和P襯底構(gòu)成,其耗盡層相對(duì)較寬,可以獲得較大的探測(cè)效率;但是由于SiO2與Si界面的缺陷會(huì)捕獲電子,從而在界面產(chǎn)生空穴,這些空穴在外加反向偏壓的作用下向P型區(qū)域運(yùn)動(dòng);當(dāng)反偏電壓大于擊穿電壓時(shí),運(yùn)動(dòng)的空穴會(huì)觸發(fā)雪崩,從而使器件的暗計(jì)數(shù)增大。基于標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝研究單光子光電探測(cè)器件方面已經(jīng)開(kāi)展了很多的工作。傳統(tǒng)的CMOS單光子雪崩二極管使用P+/Nwell結(jié)來(lái)實(shí)現(xiàn),NP型單光子雪崩二極管的應(yīng)用由于較差的噪聲特性而受到限制。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
針對(duì)以上現(xiàn)有技術(shù)中的不足,本發(fā)明提出一種基于CMOS圖像傳感器工藝的NP型單光子雪崩二極管(SPAD),其基本結(jié)構(gòu)包括:P型硅襯底(100)上方設(shè)有深N阱(200);P阱(301)形成于深N阱(200)上方并與深N阱(200)接觸;P阱(301)的周?chē)O(shè)有輕摻雜的保護(hù)環(huán)(401,402);N+區(qū)域(601,602)形成于P阱(301)上方,并與輕摻雜的保護(hù)環(huán)(401,402)有一定的重疊;N+區(qū)域(601,602)和輕摻雜的保護(hù)環(huán)(401,402)的上方設(shè)有重?fù)诫s的P型區(qū)域(801,802,803),覆蓋了除陰極接觸和陽(yáng)極接觸以外的整個(gè)(601,602)和(401,402)的表面;輕摻雜的保護(hù)環(huán)(401,402)周?chē)O(shè)有P阱(302,303),P阱區(qū)域(302,303)通過(guò)P+區(qū)域(502,503)引出襯底電極;重?fù)诫s的P型區(qū)域(801,802,803)與P阱(302,303)連起來(lái),具有相同的電勢(shì);P+區(qū)域(502,503)與重?fù)诫s的P型區(qū)域(801,802,803)之間設(shè)置有淺結(jié)隔離STI(702,703);STI(702,703)與重?fù)诫s的P型區(qū)域(801,802,803)之間設(shè)有一定的距離。N+區(qū)域(601,602)的底部與P阱(301)的頂部之間形成PN結(jié)(11),并通過(guò)N+區(qū)域(601)和P+區(qū)域(501)引出陰極電極和陽(yáng)極電極。本發(fā)明的技術(shù)效果在于:1)本發(fā)明的單光子雪崩二極管,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,在蓋革模式下發(fā)生雪崩擊穿,可以實(shí)現(xiàn)單光子的探測(cè)。2)本發(fā)明的單光子雪崩二極管沿結(jié)深方向有四個(gè)PN結(jié),通過(guò)加合適的偏置電壓,使結(jié)(11)工作在蓋革模式,其他三個(gè)PN結(jié)都處于反向偏置狀態(tài),可以提高器件的時(shí)間分辨率;若使結(jié)(12)工作在蓋革模式,則可以增強(qiáng)器件對(duì)藍(lán)光的響應(yīng)。3)本發(fā)明的單光子雪崩二極...
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