化學(xué)品供給器，用于進(jìn)行濕處理的裝置和方法
【專利摘要】提供了化學(xué)品供給器，用于進(jìn)行濕處理的裝置和方法。所述化學(xué)品供給器包括：化學(xué)品儲存器，所述化學(xué)品儲存器容納處于室溫的化學(xué)品混合物，所述化學(xué)品儲存器的內(nèi)部空間與環(huán)境隔離；供給線，通過所述供給線將所述化學(xué)品混合物從所述化學(xué)品儲存器供給至處理室；在線加熱器，所述在線加熱器位于所述供給線上并且將在所述供給線中的所述化學(xué)品混合物加熱至處理溫度；和動力源，所述動力源驅(qū)動所述化學(xué)品混合物，以使所述化學(xué)品混合物向所述處理室移動。
【專利說明】化學(xué)品供給器，用于進(jìn)行濕處理的裝置和方法
[0001]相關(guān)申請的交叉引用
[0002]2013年2月19日在韓國知識產(chǎn)權(quán)局提交的、題為“化學(xué)品供給器，包括該化學(xué)品供給器的處理裝置和使用該化學(xué)品供給器處理基板的方法”的韓國專利申請10-2013-0017306號通過引用以其全文結(jié)合在此。
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0003]實(shí)例實(shí)施方案涉及化學(xué)品供給器，包括該化學(xué)品供給器的處理裝置和使用該化學(xué)品供給器處理基板的方法。更具體地，例證實(shí)施方案涉及用于濕刻蝕處理的化學(xué)品供給器和包括該化學(xué)品供給器的晶片處理裝置以及使用該化學(xué)品供給器處理晶片的方法。
【背景技術(shù)】
[0004]通常，半導(dǎo)體器件通過對半導(dǎo)體基板的多個單元處理如沉積處理、刻蝕處理、離子注入處理、配線處理和清洗處理制造。特別是，濕處理廣泛地單獨(dú)使用或與用于制造半導(dǎo)體器件的單元處理的每一個結(jié)合使用。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]實(shí)施方案涉及一種化學(xué)品供給器，所述化學(xué)品供給器包括:化學(xué)品儲存器，所述化學(xué)品儲存器容納處于室溫的化學(xué)品混合物，所述化學(xué)品儲存器的內(nèi)部空間與環(huán)境隔離；供給線，通過所述供給線將所述化學(xué)品混合物從所述化學(xué)品儲存器供給至處理室；在線加熱器，所述在線加熱器位于所述供給線上并且將在所述供給線中的所述化學(xué)品混合物加熱至處理溫度；和動力源，所述動力源驅(qū)動所述化學(xué)品混合物，以使所述化學(xué)品混合物向所述處理室移動。
[0006]該化學(xué)品儲存器可以包括容器，所述容器具有源入口和混合物出口，通過所述源入口提供所述化學(xué)品混合物的化學(xué)品源，通過所述混合物出口排出含有所述化學(xué)品源的所述化學(xué)品混合物；和蓋子，所述蓋子與所述容器組合，使得所述容器被所述蓋子覆蓋并且由所述容器和所述蓋子限定的所述化學(xué)品儲存器的內(nèi)部空間是封閉的并且與環(huán)境隔絕。所述蓋子可以包括氣體入口閥和氣體出口閥，通過所述氣體入口閥將壓力控制氣體供給到所述儲存器中，從而控制所述儲存器的內(nèi)部壓力，通過所述氣體出口閥將所述壓力控制氣體從所述儲存器排出。
[0007]壓力控制氣體可以包括氬(Ar)氣和氮(N2)氣中的一種。
[0008]在線加熱器可以包括加熱器主體；細(xì)管，所述細(xì)管設(shè)置在所述加熱器主體中，使得所述供給線連接在其第一和第二端部并且所述化學(xué)品混合物流動通過所述細(xì)管；熱傳遞部件，所述熱傳遞部件填充所述加熱器主體并且圍繞所述細(xì)管；以及加熱部件，所述加熱部件加熱所述熱傳遞部件，使得熱從所述熱傳遞部件傳遞至所述細(xì)管。
[0009]化學(xué)品供給器可以還包括化學(xué)品噴嘴，所述化學(xué)品噴嘴設(shè)置在處理室中的基板上方的供給線的末端部分，使得所述化學(xué)品噴嘴將所述化學(xué)品混合物噴射到所述基板上，以及溫度補(bǔ)償器，所述溫度補(bǔ)償器設(shè)置在與所述處理室相鄰的供給線上，所述溫度補(bǔ)償器補(bǔ)償通過所述供給線的所述化學(xué)品混合物的熱損失。
[0010]溫度補(bǔ)償器可以包括:管線，熱補(bǔ)償流體流動通過所述管線，所述管線包封與處理室相鄰的供給線；熱補(bǔ)償流體源，所述熱補(bǔ)償流體源位于所述管線的第一末端部分并且含有所述熱補(bǔ)償流體；以及接收器，所述接收器位于所述管線的第二末端部分并且接收所述熱補(bǔ)償流體。
[0011]熱補(bǔ)償流體可以包括在70°C至100°C的溫度的去離子水。
[0012]動力源可以包括空氣泵，通過所述空氣泵控制供給到所述處理室中的所述化學(xué)品混合物的量。
[0013]實(shí)施方案還涉及一種化學(xué)品供給器，所述化學(xué)品供給器包括:多個源槽，所述多個源槽中的每個源槽容納多個化學(xué)品源的相應(yīng)化學(xué)品源；多個源進(jìn)料線，所述多個源進(jìn)料線中的每個源進(jìn)料線連接至相應(yīng)源槽并且在其上具有進(jìn)料泵，所述化學(xué)品源中的相應(yīng)化學(xué)品源通過所述進(jìn)料泵經(jīng)由相應(yīng)源進(jìn)料線進(jìn)料；多個在線加熱器，所述多個在線加熱器中的每個在線加熱器安置在相應(yīng)源進(jìn)料線上并且將相應(yīng)化學(xué)品源加熱至處理溫度；化學(xué)品儲存器，所述化學(xué)品儲存器連接至所述源進(jìn)料線并且將處于處理溫度的化學(xué)品源混合成化學(xué)品混合物中，所述化學(xué)品儲存器的內(nèi)部空間與環(huán)境隔離；供給線，通過所述供給線將所述化學(xué)品混合物從所述化學(xué)品儲存器供給至處理室；和動力源，所述動力源驅(qū)動所述化學(xué)品混合物向所述處理室移動。
[0014]所述化學(xué)品供給器可以還包括溫度補(bǔ)償器，所述溫度補(bǔ)償器安置在與所述處理室相鄰的供給線上，所述溫度補(bǔ)償器補(bǔ)償通過所述供給線的化學(xué)品混合物的熱損失。
[0015]所述化學(xué)品供給器還可以包括化學(xué)品噴嘴，所述化學(xué)品噴嘴在所述供給線的末端部分處安置在基板上方，所述化學(xué)品噴嘴將所述化學(xué)品混合物噴射到所述基板上。
[0016]所述化學(xué)品供給器還可以包括多個第一溫度補(bǔ)償器，所述多個第一溫度補(bǔ)償器中的每個第一溫度補(bǔ)償器安置在所述在線加熱器與所述化學(xué)品儲存器之間的相應(yīng)源進(jìn)料線上以補(bǔ)償通過所述相應(yīng)源進(jìn)料線的相應(yīng)化學(xué)品源的熱損失。
[0017]所述化學(xué)品供給器還可以包括第二溫度補(bǔ)償器，所述第二溫度補(bǔ)償器安置在與所述處理室相鄰的供給線上，所述第二溫度補(bǔ)償器補(bǔ)償通過所述供給線的所述化學(xué)品混合物的熱損失，從而剛好在將所述化學(xué)品混合物噴射到所述基板上之前將所述化學(xué)品混合物的溫度升高到所述處理溫度。
[0018]所述化學(xué)品儲存器可以包括容器和蓋子，所述容器中容納所述化學(xué)品混合物，所述蓋子與所述容器組合，使得所述容器被所述蓋子覆蓋并且由所述容器和所述蓋子限定的所述化學(xué)品儲存器的內(nèi)部空間是封閉的且與環(huán)境隔絕，所述蓋子具有氣體入口閥和氣體出口閥，通過所述氣體入口閥將壓力控制氣體供給到所述儲存器中從而控制所述儲存器的內(nèi)部壓力，通過所述氣體出口閥將所述壓力控制氣體從所述儲存器排出。
[0019]實(shí)施方案還涉及一種用于進(jìn)行濕處理的裝置，所述裝置包括:處理室，要通過濕處理進(jìn)行處理的基板位于其中；化學(xué)品供給器，所述化學(xué)品供給器將進(jìn)行所述濕處理的化學(xué)品混合物供給到所述基板上，所述化學(xué)品供給器包括容納所述化學(xué)品混合物的化學(xué)品儲存器和用于將所述化學(xué)品混合物加熱至處理溫度的在線加熱器，所述化學(xué)品儲存器的內(nèi)部空間與環(huán)境隔離；和洗滌液供給器，所述洗滌液供給器將洗滌液供給到所述基板上。[0020]所述化學(xué)品供給器可以包括供給線，通過所述供給線將所述化學(xué)品混合物從所述化學(xué)品儲存器供給至所述處理室，所述在線加熱器安置在所述供給線上。
[0021]所述供給線可以安置在單個化學(xué)品儲存器與多個所述處理室之間。
[0022]所述化學(xué)品供給器可以包括多個源槽和多個源進(jìn)料線，所述多個源槽的每個源槽容納多個化學(xué)品源中的相應(yīng)化學(xué)品源，并且所述多個源進(jìn)料線中的每個源進(jìn)料線連接至相應(yīng)源槽并且將相應(yīng)化學(xué)品源進(jìn)料至所述化學(xué)品儲存器。所述在線加熱器可以包括多個在線加熱器，所述多個在線加熱器中的每個在線加熱器安置在相應(yīng)源進(jìn)料線上，使得所述化學(xué)品源被加熱至用于所述濕處理的處理溫度并且在所述處理溫度彼此混合成所述化學(xué)品混合物。
[0023]多個所述處理室和多個所述化學(xué)品儲存器可以設(shè)置為所述化學(xué)品儲存器以一對一的方式對應(yīng)于所述處理室的構(gòu)造。每個化學(xué)品儲存器中的化學(xué)品混合物可以具有不同的性質(zhì)，使得多個濕處理彼此獨(dú)立地在每個處理室中分別進(jìn)行。
[0024]所述裝置還可以包括供給線，通過所述供給線將所述化學(xué)品混合物中的相應(yīng)化學(xué)品混合物從相應(yīng)化學(xué)品儲存器供給至所述對應(yīng)的處理室；和溫度補(bǔ)償器，所述溫度補(bǔ)償器安置在與所述對應(yīng)的處理室相鄰的供給線上并且補(bǔ)償通過所述供給線的相應(yīng)化學(xué)品混合物的熱損失。
[0025]所述基板可以包括多個基板，并且所述裝置還可以包括:盒，其中堆疊有所述多個基板；傳遞單元，所述傳遞單元將所述多個基板中的一個基板從所述盒裝載到所述處理室中并且將所述一個基板從所述處理室卸載至所述盒；和控制器，所述控制器控制所述化學(xué)品儲存器，使得根據(jù)所述濕處理的處理步驟將所述化學(xué)品混合物噴射到所述基板上。
[0026]所述裝置可以包括干燥流體供給器，所述干燥流體供給器供給干燥流體，用于通過干燥從所述基板移除所述洗滌液。
[0027]所述干燥流體供給器可以與所述洗滌液供給器整體地安置成一體。
[0028]實(shí)施方案還涉及一種在基板上進(jìn)行濕處理的方法，所述方法包括:提供用于所述濕處理的化學(xué)品混合物，所述化學(xué)品混合物在室溫被容納在化學(xué)品儲存器中，所述化學(xué)品儲存器的內(nèi)部空間與環(huán)境隔離；將所述化學(xué)品混合物從所述化學(xué)品儲存器供給至其中裝載所述基板的處理室；將所述化學(xué)品混合物加熱至所述濕處理的處理溫度，同時將所述化學(xué)品混合物供給至所述處理室；在所述處理溫度將所述化學(xué)品混合物噴射到所述基板上；和將洗滌液噴射到所述基板上以將所述化學(xué)品混合物的殘留物從所述基板移除。
[0029]將所述化學(xué)品混合物供給至所述處理室可以包括將所述化學(xué)品混合物從所述化學(xué)品儲存器排出，所述排出通過從所述化學(xué)品儲存器的外部施加至所述化學(xué)品混合物的下部的牽引壓力和施加至所述化學(xué)品儲存器中的所述化學(xué)品混合物的上部的推擠壓力中的一個或多個進(jìn)行。
[0030]加熱化學(xué)品混合物可以通過在線加熱器進(jìn)行，所述在線加熱器安置在將所述化學(xué)品混合物從所述化學(xué)品儲存器供給至所述處理室的供給線上。
[0031]所述方法還可以包括將所述化學(xué)品混合物在其中流動的所述供給線在與所述處理室相鄰的位置再加熱，以便補(bǔ)償通過所述供給線的化學(xué)品混合物的熱損失。
[0032]實(shí)施方案還涉及一種在基板上進(jìn)行濕處理的方法，所述方法包括:提供用于所述濕處理的化學(xué)品混合物，所述化學(xué)品混合物在所述濕處理的處理溫度被容納在化學(xué)品儲存器中，所述化學(xué)品儲存器的內(nèi)部空間與環(huán)境隔離；將所述化學(xué)品混合物從所述化學(xué)品儲存器供給至其中裝載所述基板的處理室；將所述化學(xué)品混合物在所述處理溫度噴射到所述基板上；和將洗滌液噴射到所述基板上以從所述基板移除所述化學(xué)品混合物的殘留物。
[0033]提供在所述處理溫度在所述化學(xué)品儲存器中的用于所述濕處理的所述化學(xué)品混合物可以包括將所述化學(xué)品混合物的化學(xué)品源通過多個源進(jìn)料線進(jìn)料至所述化學(xué)品儲存器；和通過安置在所述源進(jìn)料線中的相應(yīng)源進(jìn)料線上的在線加熱器將所述化學(xué)品源加熱至所述處理溫度。
[0034]所述方法還可以包括在與所述處理室相鄰的位置處加熱供給線，所述化學(xué)品混合物通過所述供給線從所述化學(xué)品儲存器流動至所述處理室，以便補(bǔ)償通過所述供給線的所述化學(xué)品混合物的熱損失。
[0035]將所述化學(xué)品混合物供給至所述處理室可以包括將所述化學(xué)品混合物從所述化學(xué)品儲存器排出，所述排出通過從所述化學(xué)品儲存器的外部施加至所述化學(xué)品混合物的下部的牽引壓力和施加至所述化學(xué)品儲存器中的所述化學(xué)品混合物的上部的推擠壓力中的一個或多個進(jìn)行。
[0036]實(shí)施方案還涉及一種化學(xué)品供給器，所述化學(xué)品供給器包括:化學(xué)品儲存器，所述化學(xué)品儲存器容納處于室溫的化學(xué)品混合物，所述化學(xué)品儲存器的內(nèi)部空間與環(huán)境隔離；供給線，通過所述供給線將所述化學(xué)品混合物從所述化學(xué)品儲存器供給至處理室；和在線加熱器，所述在線加熱器位于所述供給線上并且將所述供給線中的所述化學(xué)品混合物加熱至處理溫度，所述在線加熱器包括:加熱器主體；在所述加熱器主體內(nèi)的具有盤形的管，所述供給線連接至所述管以使得所述化學(xué)品混合物流動通過所述管；熱傳遞部件，所述熱傳遞部件填充所述加熱器主體并且圍繞所述管；和加熱部件，所述加熱部件加熱所述熱傳遞部件，使得熱從所述熱傳遞部件傳遞至所述管。
[0037]所述化學(xué)品儲存器可以包括氣體入口閥，所述氣體入口閥將壓力控制氣體供給至所述化學(xué)品儲存器，所述壓力控制氣體提供驅(qū)動力以使所述化學(xué)品混合物移動通過所述供給線。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0038]通過參考附圖詳細(xì)描述示例實(shí)施方案，特征對于本領(lǐng)域技術(shù)人員將變得顯見，其中:
[0039]圖1圖示了描述根據(jù)一個例證實(shí)施方案的化學(xué)品供給器的結(jié)構(gòu)圖；
[0040]圖2圖示了描述圖1中所示化學(xué)品供給器的在線加熱器的結(jié)構(gòu)圖；
[0041]圖3圖示了描述圖2中所示在線加熱器的溫度補(bǔ)償器的結(jié)構(gòu)圖；
[0042]圖4圖示了描述根據(jù)另一個例證實(shí)施方案的化學(xué)品供給器的結(jié)構(gòu)圖；
[0043]圖5圖示了描述圖4中所示化學(xué)品供給器的變體的結(jié)構(gòu)圖；
[0044]圖6圖示了描述具有圖1中所示化學(xué)品供給器的用于進(jìn)行濕處理的裝置的結(jié)構(gòu)圖；
[0045]圖7圖示了描述具有圖4中所示化學(xué)品供給器的用于進(jìn)行濕處理的裝置的結(jié)構(gòu)圖；
[0046]圖8圖示了描述圖7中所示用于進(jìn)行濕處理的裝置的變體的結(jié)構(gòu)圖；[0047]圖9圖示了顯示根據(jù)一個例證實(shí)施方案在基板上進(jìn)行濕處理的方法的處理階段的流程圖；
[0048]圖10圖示了顯示圖9中所示用于加熱化學(xué)品混合物的階段的處理子階段的流程圖；
[0049]圖11圖示了顯示根據(jù)另一個例證實(shí)施方案用于在基板上進(jìn)行濕處理的方法的處理階段的流程圖；和
[0050]圖12圖示了顯示圖11中所示的在處理溫度將化學(xué)品混合物容納在化學(xué)品儲存器中的階段的處理子階段的流程圖。
【具體實(shí)施方式】
[0051]在下文中將參考附圖更完整地描述例證實(shí)施方案；然而，它們可以以不同的形式實(shí)施，并且不應(yīng)解釋為限于本文給出的實(shí)施方案。而是，提供這些實(shí)施方案以使得本公開將是徹底和完全的，并且將完整地將示例實(shí)施方式傳達(dá)給本領(lǐng)域技術(shù)人員。
[0052]在附圖中，層和區(qū)域的尺寸可以為了圖示清晰而夸大。還應(yīng)理解的是，當(dāng)將層或元件稱作在另一個層或基板“上”時，它可以直接在另一個層或基板上，或者也可以存在插入層。此外，應(yīng)理解的是，當(dāng)將層稱作在另一個層“下”時，它可以直接在其下，也還可以存在一個或多個插入層。另外，還應(yīng)理解的是，當(dāng)將層稱作在兩個層“之間”時，它可以是兩個層之間的唯一層，或者還可以存在一個或多個插入層。相同的附圖標(biāo)記始終是指相同的元件。
[0053]應(yīng)理解，當(dāng)將元件稱作“連接至”或“結(jié)合至”另一個元件時，它可以直接在另一個元件上，連接至另一個元件，或結(jié)合至另一個元件，或者可以存在插入元件。
[0054]應(yīng)理解，雖然術(shù)語第一、第二、第三等在本文可以用于描述不同元件、組分、區(qū)域、層和/或部分，這些元件、組分、區(qū)域、層和/或部分不應(yīng)受這些術(shù)語限制。這些術(shù)語僅用于將一個元件、組分、區(qū)域或部分與另一個區(qū)域、層或部分區(qū)分。因此，下面談?wù)摰牡谝辉⒔M分、區(qū)域或部分可以稱為第二元件、組分、區(qū)域或部分，而不違反本發(fā)明的教導(dǎo)。
[0055]與空間相關(guān)的術(shù)語，如“之下”、“下”、“下部”、“上方”、“上部”等，可以為了方便描述而用于本文中，以描述如圖中所示的一個元件或特征與其他一個或多個元件或一個或多個特征的關(guān)系。應(yīng)理解，與空間相關(guān)的術(shù)語意味著除了圖中所述的取向之外還包括器件在使用或操作中的不同取向。例如，如果將圖中的器件翻轉(zhuǎn)，描述為在其他元件或特征“下”或“下方”的元件將位于所述其他元件或特征“上方”。因此，示例性術(shù)語“下方”可以包括上方和下方的兩種取向。器件可以以其他方式取向(旋轉(zhuǎn)90度或處于其他取向)，并且本文使用的與空間相關(guān)的描述也作相應(yīng)解釋。
[0056]本文使用的術(shù)語僅用于描述特定例證實(shí)施方案的目的而不意圖限制本發(fā)明。如本文所使用的，單數(shù)形式的不定冠詞(“a”、“an”)和定冠詞(“the”)意在也包括復(fù)數(shù)形式，除非上下文另外清楚地指出。還應(yīng)理解的是，術(shù)語“包含”和/或“包括”當(dāng)在本說明書中使用時，是指存在所述特征、整數(shù)、步驟、操作、元件和/或組分，但是不排除存在或添加一個或多個其他特征、整數(shù)、步驟、操作、元件、組分和/或它們的組。
[0057]例證實(shí)施方案在本文中是參考剖面圖示描述的，所述剖面圖示是理想化的例證實(shí)施方案(和中間結(jié)構(gòu))的示意圖。因而，應(yīng)預(yù)期到圖示形狀因?yàn)槔缰圃旒夹g(shù)和/或公差的變化。因此，例證實(shí)施方案不應(yīng)解釋為限于本文所示的區(qū)域的特定形狀，而是包括例如由制造導(dǎo)致的形狀上的偏差。因此，圖中所示的區(qū)域?qū)嶋H上是示意性的，并且它們的形狀不意在圖示器件區(qū)域的實(shí)際形狀并且不意在限制本發(fā)明的范圍。
[0058]除非另外定義，本文使用的所有術(shù)語(包括技術(shù)和科學(xué)術(shù)語)具有本發(fā)明所屬領(lǐng)域中的一般技術(shù)人員通常理解的相同含義。還應(yīng)理解的是，術(shù)語，如在通常使用的詞典中定義的那些，應(yīng)當(dāng)解釋為具有與它們在相關(guān)領(lǐng)域的上下文中的含義一致的含義，而不應(yīng)理想化地或過分形式上解釋，除非本文明確地如此定義。
[0059]在下文中，將參考附圖詳細(xì)描述例證實(shí)施方案。
[0060]化學(xué)品供給器
[0061]圖1圖示了描述根據(jù)一個例證實(shí)施方案的化學(xué)品供給器的結(jié)構(gòu)圖。
[0062]參考圖1，根據(jù)一個例證實(shí)施方案的化學(xué)品供給器1000可以包括:容納在室溫的化學(xué)品混合物C的儲存器100、供給線200，通過供給線200將化學(xué)品混合物C從儲存器100供給至處理室P、安置在供給線200上并且將供給線200中的室溫化學(xué)品混合物C加熱至處理溫度的在線加熱器300，以及用于驅(qū)動化學(xué)品混合物C向處理室P移動的動力源400。
[0063]例如，儲存器100可以包括容器101和蓋子102，容器101容納化學(xué)品混合物C，蓋子102與容器101組合，從而以使容器101封閉且與環(huán)境隔絕的方式覆蓋容器101。容器101可以包括源入口 110和混合物出口 120，通過源入口 110提供化學(xué)品混合物的化學(xué)品源(未顯示)并且通過混合物出口 120排出化學(xué)品混合物C?；瘜W(xué)品源可以在容器101中彼此混合。蓋子102可以包括氣體入口閥140和氣體出口閥130，通過氣體入口閥140可以將壓力控制氣體供給到儲存器100中從而將儲存器100的內(nèi)部壓力控制在處理壓力上，通過氣體出口閥130可以將壓力控制氣體從儲存器100選擇性地排出。
[0064]化學(xué)品混合物C可以通過將化學(xué)品源在容器101的外部混合并且之后將混合的化學(xué)品源通過源入口 110供給到容器101中而提供。在其他實(shí)施方式中，可以將化學(xué)品源通過源入口 110供給到容器101中并且之后可以將其在容器101中彼此混合以提供儲存器100中的化學(xué)品混合物C。
[0065]化學(xué)品混合物C可以根據(jù)要在基板W上進(jìn)行的濕處理而變化。例如，當(dāng)在基板W上進(jìn)行濕刻蝕處理時，可以提供化學(xué)品混合物C以具有以足夠的刻蝕選擇性將基板W上的層以足夠的刻蝕速率刻蝕掉的組成。另一方面，當(dāng)在完成用于制造半導(dǎo)體器件的單元處理之后進(jìn)行濕清洗處理時，可以提供化學(xué)品混合物C以具有將單元處理的污染物、殘留物和/或粒子從基板W充分清除的組成。在本例證實(shí)施方案中，化學(xué)品混合物C可以包括標(biāo)準(zhǔn)洗滌液I (SC-1)，其包含氟化氫(HF)或六氟化硫(SF6)和氫氧化銨(NH4OH)水溶液。
[0066]化學(xué)品混合物C可以作為其中將至少一種化學(xué)品源溶解在溶劑中的溶液提供，其中化學(xué)品源的蒸氣壓與溶劑的蒸氣壓不同。因此，在容納化學(xué)品混合物C的容器101在沒有蓋子102的情況下打開時，化學(xué)品源和溶劑中的任一種可能從容器101蒸發(fā)，因此，可能從而改變化學(xué)品混合物C的化學(xué)和物理性質(zhì)。在這種情況下，化學(xué)品混合物C可能具有有限的使用期限并且在該使用期限之后可能必須廢棄。結(jié)果，使用化學(xué)品混合物C的濕處理將被限制于在化學(xué)品混合物C的使用期限內(nèi)進(jìn)行。
[0067]然而，根據(jù)實(shí)施方案，儲存器100可以包括蓋子102，用于覆蓋容器101的頂部并用于將容器101的內(nèi)部空間與環(huán)境隔絕。因此，可以將化學(xué)品混合物C與環(huán)境隔絕并且可以充分防止化學(xué)品混合物C的組分蒸發(fā)到大氣中。此外，內(nèi)部空間中未被化學(xué)品混合物C填充的空部分可以用高壓下的壓力控制氣體填充。如此，可以進(jìn)一步防止化學(xué)品混合物C蒸發(fā)?？梢詫⒒瘜W(xué)品混合物C周圍的環(huán)境壓力增加至足以使得化學(xué)品混合物C的成分不蒸發(fā)的程度，這可以有助于延長化學(xué)品混合物C的使用期限。
[0068]化學(xué)品混合物C周圍的環(huán)境壓力可以作為在容器101上部的儲存器100的內(nèi)部壓力提供。因此，可以將化學(xué)品混合物C在容器101的下部從儲存器100充分地排出而不需要任何另外的排出力，如驅(qū)動泵。
[0069]例如，源入口 110可以包括位于容器101側(cè)壁下部的球閥，并且混合物出口 120可以包括位于容器101下部的閘閥。球閥可以根據(jù)操作情況選擇性地關(guān)閉或打開，并且可以具有良好的密封特性。閘閥可以根據(jù)動力源400選擇性地操作。當(dāng)將蓋子102移除時，可以將化學(xué)品混合物C直接提供到容器101中。在其他實(shí)施方式中，也可以將化學(xué)品混合物C通過源入口 110提供到容器101中。
[0070]氣體入口閥140可以包括止回閥，通過所述止回閥，壓力控制氣體僅在從儲存器100的外部至儲存器100中的方向上流動。如此，當(dāng)容器101覆蓋有蓋子102并且容器101的內(nèi)部空間與環(huán)境分離和隔絕時，壓力控制氣體可以以使得儲存器100的內(nèi)部壓力可以達(dá)到預(yù)置的高壓的方式通過氣體入口閥140流入容器101中。因此，化學(xué)品混合物C可以在儲存器100中在高壓下備用，直至開始濕處理?；瘜W(xué)品混合物C從儲存器100移動至處理室P的傳遞時間可以根據(jù)儲存器100的內(nèi)部壓力變化。因而，可以控制儲存器100的內(nèi)部壓力使其均勻，以便使化學(xué)品混合物C從儲存器100均勻地移動至處理室P。當(dāng)儲存器100內(nèi)部空間的空部分增加時，可以將壓力控制氣體自動提供到儲存器100中，以便保持容器101的均勻的內(nèi)部壓力。
[0071]壓力控制氣體可以包括不與儲存器100中的化學(xué)品混合物C反應(yīng)的不活潑氣體。不活潑氣體的實(shí)例可以包括氬(Ar)氣、氮(N2)氣等。這些可以單獨(dú)或以其組合使用。
[0072]氣體出口閥130可以起到保護(hù)儲存器100免于儲存器100內(nèi)部壓力的異常增加的安全閥作用。當(dāng)儲存器100的內(nèi)部壓力超過臨界壓力時，例如，超過容器101和蓋子102的組合的可允許最大壓力時，氣體出口閥130可以自動打開，并且壓力控制氣體可以通過氣體出口閥130從儲存器100排出。在化學(xué)品供給器1000的正常操作狀態(tài)下，氣體出口閥130不操作。
[0073]容器101和蓋子102可以具有足夠的剛性以耐受儲存器100的內(nèi)部壓力。容器101和蓋子102可以包括幾乎不與儲存器100中的化學(xué)品混合物C反應(yīng)的材料。例如，容器101和蓋子102可以包括不銹鋼或具有足夠剛性的聚合物樹脂。在容器101和蓋子102的邊界部分可以進(jìn)一步提供密封部件(未顯示)，其可以有助于提高儲存器100的密封特性。
[0074]供給線200可以包括連接儲存器100和處理室P的管線。化學(xué)品混合物C可以從儲存器100通過管線移動到處理室P中。供給線200具有足夠的剛性以耐受化學(xué)品混合物C的排出壓力和對化學(xué)品混合物C足夠的耐化學(xué)性以防止管線與化學(xué)品混合物C之間的化學(xué)反應(yīng)。例如，供給線200可以包括含氟樹脂如TEFLON，具有良好的剛性和柔韌性的苯乙烯樹脂，或聚酰胺樹脂。此外，可以將用于增強(qiáng)剛性和耐化學(xué)性的補(bǔ)充層涂布在供給線200的內(nèi)表面上。補(bǔ)充可以包括油漆層或橡膠層。
[0075]動力源400和在線加熱器300可以安置在供給線200上。動力源400可以提供驅(qū)動功率以將化學(xué)品混合物C移動至處理室P。通過在線加熱器300可以將供給線200中的化學(xué)品混合物C加熱至處理溫度。
[0076]可以通過動力源400強(qiáng)迫儲存器100中的化學(xué)品混合物C向處理室P移動?？梢允褂枚喾N類型的驅(qū)動功率用于動力源400，條件是在濕處理中使化學(xué)品混合物C以足夠的速度移動至處理室P。
[0077]在本例證實(shí)施方案中，動力源400可以包括牽引壓力施加器和推擠壓力施加器中的至少一個。通過牽引壓力施加器可以將牽引壓力從儲存器100的外部施加至化學(xué)品混合物C的下部，并且從而可以將化學(xué)品混合物C從儲存器100引出。通過推擠壓力施加器可以將推擠壓力施加至儲存器100中的化學(xué)品混合物C的上部，并且從而可以將化學(xué)品混合物C從儲存器100推出。
[0078]例如，牽引壓力施加器可以包括安裝在供給線200上并且可以將化學(xué)品混合物C從儲存器100泵出的泵系統(tǒng)。推擠壓力施加器可以包括通過氣體入口閥140流到儲存器100中的控制壓力氣體。泵系統(tǒng)可以包括通過向化學(xué)品混合物C施加空氣壓力將化學(xué)品混合物C從儲存器100引出的空氣泵，或通過利用儲存器100與供給線200之間的壓力差將化學(xué)品混合物C從儲存器100引出的真空泵。此外，動力源400可以設(shè)置有質(zhì)量流控制器，用于控制流動通過供給線200的化學(xué)品混合物C的質(zhì)量流量。
[0079]當(dāng)儲存器100的內(nèi)部壓力高到足以將化學(xué)品混合物C推出并移動至處理室P時，可以不需要另外的泵系統(tǒng)用于將化學(xué)品混合物C排出和移動至處理室P。因而，儲存器100內(nèi)部壓力的控制可以足以在沒有任何另外的泵送壓力的情況下將化學(xué)品混合物C移動至
處理室P。
[0080]在本例證實(shí)施方案中，化學(xué)品混合物C可以通過泵系統(tǒng)從儲存器100排出并且可以通過供給線200移動至處理室P。儲存器100的內(nèi)部壓力可以增加化學(xué)品混合物C在供給線200中移動的速度，這可以有助于提高化學(xué)品混合物C在儲存器100與處理室P之間的傳遞效率。
[0081]可以在供給線200上安裝補(bǔ)充泵系統(tǒng)用于提高化學(xué)品混合物C的傳遞效率。
[0082]化學(xué)品供給器1000沒有提供用于加熱處于備用狀態(tài)的化學(xué)品混合物C的內(nèi)部化學(xué)品循環(huán)回路。因此，儲存器100中的化學(xué)品混合物C在備用狀態(tài)可以處于室溫?；瘜W(xué)品混合物C可以在其流動通過供給線200的同時用供給線200上的在線加熱器300加熱至處理溫度。因而，可以將化學(xué)品混合物C在高于室溫的處理溫度供給到處理室P中。
[0083]可以將在線加熱器300安裝在供給線200上。在線加熱器300可以將化學(xué)品混合物C短時間加熱至處理溫度而對供給線200中化學(xué)品混合物C的流動沒有任何干擾。
[0084]圖2圖示了描述圖1中所示化學(xué)品供給器的在線加熱器的結(jié)構(gòu)圖。
[0085]參考圖2，在線加熱器300可以包括加熱器主體310、以使得供給線200與其連接并且化學(xué)品混合物C通過其流動的方式安置在加熱器主體310中的盤形細(xì)管320，填充加熱器主體310并且包封細(xì)管320的熱傳遞部件330，以及加熱熱傳遞部件330的加熱部件340。細(xì)管320可以包括連接至供給線200的第一端部321和第二端部322。熱可以從熱傳遞部件330傳遞到細(xì)管320中。
[0086]例如，熱傳遞部件330可以包括填充加熱器主體310內(nèi)部的導(dǎo)熱流體，并且細(xì)管320可以浸潰在該導(dǎo)熱流體中?；瘜W(xué)品混合物C可以在第一端部321流動到盤形細(xì)管320中并且可以在第二端部322流出盤形細(xì)管320。[0087]加熱部件可以產(chǎn)生焦耳熱，通過該焦耳熱可以將熱傳遞部件330加熱至預(yù)置的高溫。熱可以從熱傳遞部件330傳遞至在細(xì)管320中流動的化學(xué)品混合物C?？梢栽诨瘜W(xué)品混合物到達(dá)細(xì)管320的第二端部322時將化學(xué)品混合物C加熱至處理溫度。細(xì)管320可以成形為盤管以便擴(kuò)大細(xì)管320與熱傳遞部件330接觸的表面積。
[0088]加熱部件340可以通過電源345操作并且可以將電能轉(zhuǎn)換為可以傳遞至熱傳遞部件330的熱能。電源345可以通過熱控制器360控制，并且因此，可以充分控制施加至加熱部件340的電能的量?；瘜W(xué)品混合物C的溫度可以通過熱控制器360精確地控制。
[0089]雖然本例證實(shí)施方案公開了將供給線200連接至盤形細(xì)管320并且通過熱傳遞部件330間接加熱，在線加熱器300可以根據(jù)供給線200的結(jié)構(gòu)和材料性質(zhì)以及熱傳遞的效率進(jìn)行任何其他合適的變更。
[0090]例如，多個細(xì)管320可以位于加熱器主體310內(nèi)部，用于縮短化學(xué)品混合物C的加熱時間。在其他實(shí)施方式中，在線加熱器300可以以不提供細(xì)管的方式更改。供給線200可以浸入熱傳遞部件330中。在其他實(shí)施方式中，加熱部件340可以安裝在供給線200內(nèi)，并且因此，可以將供給線200中的化學(xué)品混合物C通過加熱部件340直接加熱。
[0091]化學(xué)品噴嘴210可以設(shè)置在供給線200的末端部分并且可以將高溫化學(xué)品混合物C噴射到處理室P中的基板W上。例如，可以將基板W以預(yù)置角速度旋轉(zhuǎn)并且可以將化學(xué)品混合物C噴射到旋轉(zhuǎn)的基板W上。如此，可以將化學(xué)品混合物C均勻地供給到基板W的整個表面，并且可以在基板W的整個表面上均勻地進(jìn)行化學(xué)處理。
[0092]與處理室P相鄰的供給線200可以進(jìn)一步設(shè)置有溫度補(bǔ)償器350。該溫度補(bǔ)償器可以補(bǔ)償通過供給線200的化學(xué)品混合物C的熱損失。
[0093]圖3圖示了描述圖2中所示在線加熱器的溫度補(bǔ)償器的結(jié)構(gòu)圖。
[0094]參考圖3，溫度補(bǔ)償器350可以包括另外的管線351、另外的源352和另外的接收器353，另外的管線351包封與處理室P相鄰的供給線200并且熱補(bǔ)償流體F可以通過其流動，另外的源352含有熱補(bǔ)償流體F，并且另外的接收器353接收熱補(bǔ)償流體F。熱補(bǔ)償流體F的溫度可以高于化學(xué)品混合物C的溫度，如此，可以將熱從熱補(bǔ)償流體F傳遞至化學(xué)品混合物C。化學(xué)品混合物C中的熱損失可以由來自熱補(bǔ)償流體F的熱傳遞補(bǔ)償。另外的源352可以位于另外的管線351的第一端，并且另外的接收器353可以位于另外的管線351的第二端。熱補(bǔ)償流體F可以從另外的源352通過另外的管線351流動到另外的接收器353。
[0095]例如，可以將去離子水在另外的源352中加熱到約70°C至約100°C的溫度作為熱補(bǔ)償流體F，并且可以根據(jù)溫度補(bǔ)償器350的補(bǔ)償信號流動到另外的管線351中。高溫去離子水可以被接收在另外的接收器353中。與化學(xué)品噴嘴210相鄰的供給線220可以穿過另外的管線351。另外的源352和另外的接收器353可以連接至另外的加熱器(未顯示)。熱補(bǔ)償流體F可以在另外的源352與另外的接收器353之間循環(huán)。另外的源352、另外的接收器353、另外的加熱器和另外的管線351可以構(gòu)成熱補(bǔ)償流體F的封閉循環(huán)回路。當(dāng)熱補(bǔ)償流體F流動通過另外的管線351至另外的接收器353時，熱補(bǔ)償流體F的溫度可以歸因于向供給線200中的化學(xué)品混合物C的熱傳遞而降低。之后，可以強(qiáng)制低溫?zé)嵫a(bǔ)償流體F通過封閉循環(huán)回路再次流至另外的源352，同時通過另外的加熱器將其加熱到約70°C至約100°C的高溫。
[0096]化學(xué)品混合物C的熱損失可以在供給線200所穿過的另外的管線351中得到補(bǔ)償。在本例證實(shí)施方案中，熱可以從另外的管線351中的去離子水傳遞至化學(xué)品混合物C，從而補(bǔ)償化學(xué)品混合物C的熱損失。可以輔助提供溫度補(bǔ)償器350以便補(bǔ)償通過供給線200的化學(xué)品混合物C的熱損失。因此，比在線加熱器300更小的熱傳遞單元對于溫度補(bǔ)償器350可能是足夠的。
[0097]當(dāng)將化學(xué)品混合物C從單個儲存器100單獨(dú)供給至多個處理室P中的相應(yīng)處理室P時，可以對每個處理室P設(shè)置溫度補(bǔ)償器350。如此，可以控制化學(xué)品混合物C使其在即將噴射到基板W上之前具有處理溫度，這可以有助于提高精度和促進(jìn)使用化學(xué)品混合物C的濕處理的完成。
[0098]雖然本例證實(shí)施方案公開了去離子水作為熱補(bǔ)償流體F，可以根據(jù)化學(xué)品供給器1000的結(jié)構(gòu)和具有化學(xué)品供給器1000的濕處理裝置的操作需要采用任何其他合適的材料或流體用于補(bǔ)償通過供給線200的化學(xué)品混合物C的熱損失。
[0099]根據(jù)化學(xué)品供給器1000的例證實(shí)施方案，化學(xué)品混合物C可以在濕處理的備用狀態(tài)下在室溫容納在儲存器100中。如此，在備用狀態(tài)下可以最小化化學(xué)品混合物C的蒸發(fā)，并且可以充分延長化學(xué)品混合物C的使用期限。此外，在化學(xué)品混合物C從儲存器100移動至處理室P時，可以將化學(xué)品混合物C通過在線加熱器300迅速地加熱至處理溫度。此夕卜，可以將溫度補(bǔ)償器350設(shè)置于與處理室P相鄰的供給線200，從而充分補(bǔ)償通過供給線200的化學(xué)品混合物C的熱損失。因此，在濕處理中可以減少化學(xué)品混合物C的消耗，并且對于使用化學(xué)品混合物C的濕處理可以精確控制化學(xué)品混合物C的溫度。
[0100]圖4圖示了描述根據(jù)另一個例證實(shí)施方案的化學(xué)品供給器的結(jié)構(gòu)圖。
[0101]參考圖4，根據(jù)該例證實(shí)施方案的化學(xué)品供給器2000可以包括多個源槽1200和多個源進(jìn)料線1300，每個源槽容納化學(xué)品源SI和S2中的相應(yīng)化學(xué)品源，每個源進(jìn)料線連接至多個源槽中的相應(yīng)源槽?；瘜W(xué)品供給器2000可以還包括:用于在其上進(jìn)料相應(yīng)化學(xué)品源SI或S2的進(jìn)料泵1310，安置源進(jìn)料線中的相應(yīng)源進(jìn)料線上以將化學(xué)品源SI和S2加熱至處理溫度的多個在線加熱器1400，連接至進(jìn)料線1300的、在其中將化學(xué)品源SI和S2在處理溫度下混合成化學(xué)品混合物C的儲存器1100，將化學(xué)品混合物C從儲存器1100供給至處理室P的供給線1500，以及用于驅(qū)動化學(xué)品混合物C向處理室P移動的動力源1600。
[0102]圖4中的化學(xué)品供給器2000可以具有與圖1中所示化學(xué)品供給器1000基本上相同的構(gòu)造和結(jié)構(gòu)，除了可以將在線加熱器1400安置在源進(jìn)料線1300上之外。因而，可以將化學(xué)品混合物C在儲存器1100中控制在高溫。
[0103]化學(xué)品源SI和S2可以分別單獨(dú)容納在源槽1200中，并且因此可以通過相應(yīng)源進(jìn)料線1300單獨(dú)地進(jìn)料到儲存器1100中。每個源槽1200可以包括封閉容器或開放容器并且可以由幾乎不與相應(yīng)化學(xué)品源SI或S2反應(yīng)的材料制成。源槽1200可以對相應(yīng)化學(xué)品源SI或S2具有化學(xué)穩(wěn)定性。雖然本例證實(shí)施方案公開了其中可以含有第一和第二化學(xué)品源SI和S2的一對源槽1200，應(yīng)理解的是可以將三個以上源槽根據(jù)化學(xué)品混合物C的成分的數(shù)目(其也可以是三個以上)連接至儲存器1100?；瘜W(xué)品源SI和S2可以保持在室溫下并且可以通過進(jìn)料泵1310強(qiáng)制移動至儲存器1100。
[0104]在進(jìn)料至儲存器1100的同時，可以將化學(xué)品源SI和S2通過在線加熱器1400加熱至高于室溫的處理溫度。因而化學(xué)品源SI和S2可以在處理溫度到達(dá)儲存器1100。在線加熱器1400可以具有與圖1中所示化學(xué)品供給器1000的在線加熱器300基本上相同的結(jié)構(gòu)。
[0105]化學(xué)品源SI和S2可以在儲存器1100中在處理溫度彼此混合，從而在儲存器1100中形成處理溫度下的化學(xué)品混合物C?；瘜W(xué)品混合物C可以在儲存器1100中在用于濕處理的處理溫度處于備用狀態(tài)。
[0106]儲存器1100可以具有與化學(xué)品供給器1000的儲存器100基本上相同的結(jié)構(gòu)。可以將儲存器1100與環(huán)境封閉。儲存器1100可以包括容納化學(xué)品混合物C的開放容器1101和以下述方式覆蓋容器1101的蓋子1102:將容器1101的內(nèi)部空間與環(huán)境分離和隔絕以使得儲存器1100與環(huán)境封閉。正如圖1中所示的儲存器100的蓋子102 —樣，蓋子1102可以包括氣體入口閥1140和氣體出口閥1130，通過氣體入口閥1140可以將壓力控制氣體供給到儲存器1100中從而控制儲存器1100的內(nèi)部壓力高于處理壓力，通過氣體出口閥1130可以將壓力控制氣體從儲存器1100選擇性地排出。
[0107]雖然化學(xué)品混合物C在儲存器1100中歸因于高溫可能比在圖1中所示的儲存器100中更容易蒸發(fā)，蓋子1102和儲存器1100中的壓力控制氣體可以充分地防止化學(xué)品混合物C的蒸發(fā)。因此，化學(xué)品混合物C的性質(zhì)可以幾乎不改變并且可以延長化學(xué)品混合物C的使用期限。
[0108]化學(xué)品混合物C可以在處理溫度容納在儲存器1100中。因此，可以提供儲存器1100以具有對于化學(xué)品混合物C的出色的耐化學(xué)性。例如，可以將具有出色的耐化學(xué)性的油漆或橡膠涂布在限定儲存器1100的內(nèi)部空間的容器1101和蓋子1102的內(nèi)表面上。
[0109]除了內(nèi)表面可以涂布有油漆或橡膠之外，氣體入口閥1140和氣體出口閥1130可以具有與圖1中所示的儲存器100的氣體入口閥140和氣體出口閥130基本上相同的結(jié)構(gòu)。因此，化學(xué)品混合物C可以穩(wěn)定地容納在儲存器1100中而與儲存器1100沒有任何化學(xué)反應(yīng)，盡管其在高溫。
[0110]可以將儲存器1100中的化學(xué)品混合物C通過供給線1500供給到處理室P中。動力源1600，如空氣泵，可以驅(qū)動化學(xué)品混合物C通過供給線1500向處理室P移動?；瘜W(xué)品混合物C可以被強(qiáng)制向處理室P移動。當(dāng)被驅(qū)動向處理室P移動時，化學(xué)品混合物C可以被儲存器1100的內(nèi)部壓力加速，這可以有助于提高化學(xué)品混合物C向處理室P的傳遞速度。當(dāng)儲存器1100的內(nèi)部壓力足夠高時，可以不需要另外的驅(qū)動功率使化學(xué)品混合物C向處理室P移動。
[0111]動力源1600可以包括牽引壓力施加器和推擠壓力施加器中的至少一個。通過牽引壓力施加器可以將牽引壓力從儲存器1100的外部施加至化學(xué)品混合物C的下部，并且從而可以將化學(xué)品混合物C從儲存器1100引出。通過推擠壓力施加器可以將推擠壓力施加至儲存器1100中的化學(xué)品混合物C的上部，并且從而可以將化學(xué)品混合物C從儲存器1100推出。例如，牽引壓力施加器可以包括泵系統(tǒng)如空氣泵或真空泵，并且推擠壓力施加器可以包括通過氣體入口閥1140流入儲存器1100中的控制壓力氣體和用于操作氣體入口閥1140的控制器。供給線1500和動力源1600可以具有與圖1中所示的化學(xué)品供給器1000的供給線200和動力源300基本上相同的結(jié)構(gòu)。因此，供給線1500和動力源1600的相同描述將不再重復(fù)。
[0112]與處理室P相鄰的供給線1500可以進(jìn)一步設(shè)置有溫度補(bǔ)償器1700以補(bǔ)償通過供給線1500的化學(xué)品混合物C的熱損失。溫度補(bǔ)償器1700可以包括另外的管線1720，另外的源1710和另外的接收器1730，另外的管線1720包封與處理室P相鄰的供給線1500并且熱補(bǔ)償流體F通過其流動，另外的源1710含有熱補(bǔ)償流體F，并且另外的接收器1730接收熱補(bǔ)償流體F。熱補(bǔ)償流體F的溫度可以高于化學(xué)品混合物C的溫度，并且因此，可以將熱從熱補(bǔ)償流體F傳遞至化學(xué)品混合物C?；瘜W(xué)品混合物C的熱損失可以通過從熱補(bǔ)償流體F的熱傳遞而得到補(bǔ)償。另外的源1710可以位于另外的管線1720的第一端，并且另外的接收器1730可以位于另外的管線1710的第二端。如此，熱補(bǔ)償流體F可以從另外的源1710通過另外的管線1720流動至另外的接收器1730。溫度補(bǔ)償器1700可以安置在接近于化學(xué)品噴嘴1510的供給線1500上，以使得，盡管有通過供給線1500的化學(xué)品混合物C的熱損失，化學(xué)品混合物C的溫度可以在即將噴射到基板W上之前接近于處理溫度。
[0113]溫度補(bǔ)償器1700可以具有與圖1中所示的化學(xué)品供給器1000的溫度補(bǔ)償器350基本上相同的結(jié)構(gòu)，并且因此，相同的描述將不再重復(fù)。
[0114]根據(jù)化學(xué)品供給器2000的例證實(shí)施方案，雖然化學(xué)品混合物C在濕處理的備用狀態(tài)下在高溫容納在儲存器100中，化學(xué)品混合物C的蒸發(fā)可以在備用狀態(tài)最小化，因?yàn)閮Υ嫫?100可以被充分地覆蓋并與環(huán)境隔絕，這可以有助于延長化學(xué)品混合物C的使用期限。尤其是，高溫化學(xué)品混合物C可以在沒有用于周期性加熱儲存器1100中化學(xué)品混合物C的任何另外的內(nèi)部循環(huán)回路的情況下處于備用狀態(tài)，這可以有助于減少使用化學(xué)品混合物C的濕處理裝置的維護(hù)和操作成本，同時減少用于濕處理的化學(xué)品混合物C的消耗。
[0115]此外，可以將化學(xué)品源在儲存器1100中形成化學(xué)品混合物C之前加熱至高溫。因此，在供給線1500上可以不需要在線加熱器。多個儲存器1100可以分別地以一對一的方式連接至多個處理室P。在這種情況下，每一個處理室P可以在相應(yīng)操作條件下彼此獨(dú)立地操作。
[0116]圖5圖示了描述圖4中所示化學(xué)品供給器的變體的結(jié)構(gòu)圖。
[0117]參考圖5，化學(xué)品供給器2000a可以不同于圖4中所示的化學(xué)品供給器2000，因?yàn)閮Υ嫫?100可以位于處理室P上方以最小化供給線1500的長度。如此，可以將通過供給線1500的熱損失最小化，同時將化學(xué)品混合物C從儲存器1100供給到處理室P中。
[0118]圖1中所示的化學(xué)品供給器1000的儲存器100中的化學(xué)品混合物C可能需要在盡可能短的時間內(nèi)從室溫加熱至處理溫度，并且因此，熱傳遞可能要在供給線200與在線加熱器300之間盡可能快地進(jìn)行。因此，對應(yīng)于高熱傳遞速率，在線加熱器300可能構(gòu)造為復(fù)雜結(jié)構(gòu)并且可能具有充分大的尺寸。因?yàn)檫@些原因，可能難以將在線加熱器300安置在單獨(dú)的處理室P上或與其相鄰。在線加熱器300可以與處理室P隔開足夠的空隙距離并且在儲存器100與處理室P之間可以設(shè)置另外的供給線200。
[0119]另一方面，在圖4和5中的化學(xué)品供給器2000 / 2000a中，化學(xué)品混合物C可以在處理溫度處于備用狀態(tài)。因此，在儲存器1100與處理室P之間的供給線1500上可以不需要在線加熱器。因此，儲存器1100可以位于盡可能接近處理室P的位置，并且因此，可以最小化儲存器1100與處理室P之間的空隙距離。在化學(xué)品供給器2000中可以對應(yīng)于多個處理室P提供多個儲存器1100，并且因此處理室P可以以一對一的方式對應(yīng)于儲存器1100。
[0120]此外，儲存器1100與處理室P之間的供給線1500的長度可以盡可能縮短，并且因此通過供給線1500的化學(xué)品混合物C的熱損失也可以最小化。根據(jù)一個實(shí)施方式，儲存器1100可以位于處理室P的外表面上。[0121]第一溫度補(bǔ)償器1700a可以選擇性地安置在儲存器1100與在線加熱器1400之間的源進(jìn)料線1300上。因此，在將化學(xué)品源SI和S2進(jìn)料至儲存器1100中的同時，可以充分補(bǔ)償通過源進(jìn)料線1300的化學(xué)品源SI和S2的熱損失。如果由于每個源槽1200的不同位置，儲存器1100與源槽1200之間的空隙距離彼此不同，則當(dāng)化學(xué)品源SI和S2到達(dá)儲存器1100時，化學(xué)品源SI和S2的溫度也可能彼此不同。因此，可能難以提供儲存器1100中的化學(xué)品混合物C的均勻的處理溫度。在這種情況下，安置在每個源進(jìn)料線1300上的第一溫度補(bǔ)償器1700a可以單獨(dú)地補(bǔ)償通過相應(yīng)源進(jìn)料線1300的化學(xué)品源SI和S2的熱損失，以使得化學(xué)品源SI和S2可以具有對應(yīng)于處理溫度的均勻溫度。儲存器1100中化學(xué)品混合物C的溫度可以是均勻的，而與儲存器1100與源槽1200之間的空隙距離無關(guān)。
[0122]此外，可以在儲存器1100與處理室P之間的供給線1500上進(jìn)一步安置第二溫度補(bǔ)償器1700b，并且因此在將化學(xué)品混合物C供給到處理室P中的同時可以充分補(bǔ)償通過供給線1500的化學(xué)品混合物C的熱損失。因此，可以將化學(xué)品混合物C的溫度精確控制為接近于使用化學(xué)品混合物C的濕處理的處理溫度。例如，可以將第二溫度補(bǔ)償器1700b中熱補(bǔ)償流體F的溫度控制為略微超過使用化學(xué)品混合物C的濕處理的處理溫度，以使得化學(xué)品混合物C的溫度剛好在將化學(xué)品混合物C噴射到基板W上之前變得接近于處理溫度。
[0123]因此，可以將化學(xué)品混合物C的溫度控制為均勻地處于處理溫度，而與儲存器1100與源槽1200之間的空隙距離無關(guān)。
[0124]此外，當(dāng)多個儲存器1100以一對一的方式連接至多個處理室P時，可以將化學(xué)品源SI和S2單獨(dú)地進(jìn)料至具有不同條件的儲存器1100的每一個。因此，每個儲存器1100中的化學(xué)品混合物C可以具有不同的性質(zhì)?？梢詫⒒瘜W(xué)品源SI和S2以不同的速度和質(zhì)量流量進(jìn)料到處理室P的每一個中，使得每個處理室P中的化學(xué)品混合物C可以具有不同的組成、濃度和處理溫度。因此，可以在處理室P中，分別在不同的條件下進(jìn)行多個濕處理。
[0125]具有化學(xué)品供給器的用于進(jìn)行濕處理的裝置
[0126]圖6圖示了描述具有圖1中所示化學(xué)品供給器的用于進(jìn)行濕處理的裝置的結(jié)構(gòu)圖。
[0127]參考圖6，根據(jù)一個例證實(shí)施方案的用于進(jìn)行濕處理的裝置3000(在下文中稱為濕處理裝置)可以至少包括具有要通過濕處理處理的基板W的處理室2100，將化學(xué)品混合物供給到基板W上的化學(xué)品供給器2500，以及將洗滌液供給到基板W上的洗滌液供給器2400。化學(xué)品供給器2500可以包括容納用于濕處理的化學(xué)品混合物的儲存器2560和用于將化學(xué)品混合物加熱至處理溫度的在線加熱器2591。
[0128]處理室2100可以包括其中進(jìn)行濕處理的處理空間PS和基板W位于其上的支撐體2300。例如，支撐體2300可以包括旋轉(zhuǎn)卡盤2320、旋轉(zhuǎn)軸2340和驅(qū)動馬達(dá)2360?；錡可以裝載到旋轉(zhuǎn)卡盤2320上并且可以通過安置在旋轉(zhuǎn)卡盤2320的周邊部分的夾具2322機(jī)械固定于旋轉(zhuǎn)卡盤2320。旋轉(zhuǎn)軸可以穿透旋轉(zhuǎn)卡盤2320的中心部分并且可以由驅(qū)動馬達(dá)2360旋轉(zhuǎn)，使得旋轉(zhuǎn)卡盤2320可以以恒定的角速度旋轉(zhuǎn)。在本例證實(shí)施方案中，濕處理可以在單個基板W上進(jìn)行，并且因此，可以將單個基板W裝載到處理室2100?；錡可以經(jīng)歷使用化學(xué)品混合物的濕處理、清洗處理和干燥處理，并且最終可以從處理室P卸載。其后，可以將下一個單個基板裝載到處理室2100中。
[0129]例如，處理室2100可以包括主體2200，主體2200具有限定處理空間PS的上部主體2220和具有排出線2241的下部主體2240，通過排出線2241多種處理溶液和氣體可以從處理空間PS排出。上部主體2220可以成形為碗形并且可以圍住旋轉(zhuǎn)卡盤2320?？梢苑乐乖谶M(jìn)行濕處理中化學(xué)品混合物和洗滌液向外飛濺至環(huán)境中。排出線2241可以安置在處理室2100的下部并且可以穿透下部主體2240。可以將可以在上部主體2220的底部匯集的化學(xué)品混合物和洗滌液從處理室2100的處理空間PS排出。
[0130]化學(xué)品供給器2500可以包括:分別含有化學(xué)品源的多個源槽2510 ;分別通過多個源進(jìn)料線2544和2546連接至源槽2510，并且其中將化學(xué)品源混合從而形成化學(xué)品混合物的化學(xué)品儲存器2560 ;將化學(xué)品混合物加熱至處理溫度的在線加熱器2591 ;以及將化學(xué)品混合物噴射到處理室2100中的基板W上的化學(xué)品噴嘴2520。
[0131]化學(xué)品混合物可以在室溫在化學(xué)品儲存器2560中備用，并且可以在加熱至處理溫度之后供給到處理室2100中?？梢詫⒒瘜W(xué)品源在室溫進(jìn)料到化學(xué)品儲存器2560中，并且可以將其在化學(xué)品儲存器2560中在室溫下彼此混合，使得可以在化學(xué)品儲存器2560中在室溫含有化學(xué)品混合物?？梢詫⒒瘜W(xué)品混合物通過在線加熱器2591加熱，同時將化學(xué)品混合物通過供給線2548移動至處理室?？梢詫⒒瘜W(xué)品混合物在高于室溫的處理溫度噴射到基板W上。通過供給線2548的化學(xué)品混合物的熱損失可以剛好在將化學(xué)品混合物噴射到基板W上之前通過溫度補(bǔ)償器補(bǔ)償?；瘜W(xué)品供給器2500可以具有與如圖1中所示的化學(xué)品供給器1000基本上相同的結(jié)構(gòu)，并且因此將不再重復(fù)化學(xué)品供給器2500的相似特征的說明。
[0132]化學(xué)品混合物可以在室溫在封閉的化學(xué)品儲存器2560中備用。因此，可以充分地防止或減少化學(xué)品混合物的成分的蒸發(fā)，這可以有助于最小化化學(xué)品混合物的性質(zhì)改變。因此，可以延長濕處理中化學(xué)品混合物的使用期限，并且可以最小化用于濕處理的化學(xué)品混合物的消耗。此外，化學(xué)品混合物可以在室溫備用。因此，在濕處理裝置3000中可以不需要用于加熱備用狀態(tài)下的化學(xué)品混合物的內(nèi)部循環(huán)回路，這可以有助于減少濕處理裝置3000的操作成本。
[0133]洗滌液供給器2400可以將洗滌液在化學(xué)品混合物的噴射之后供給至基板W，從而從基板W移除化學(xué)品混合物的殘留物。例如，洗滌液供給器2400可以包括洗滌液噴嘴2420、洗滌液供給線2440和洗滌液儲存器2620。例如，在洗滌液儲存器2620中可以容納去離子水作為洗滌液，并且可以將去離子水在化學(xué)品混合物的噴射之后通過洗滌液噴嘴2420噴射到旋轉(zhuǎn)基板W上。如此，可以將化學(xué)品混合物的殘留物從基板W清除。
[0134]根據(jù)實(shí)施方式，濕處理裝置3000可以還包括干燥流體供給器2800。干燥流體供給器可以供給用于在清洗處理之后干燥基板W的干燥流體。例如，干燥流體供給器2800可以包括干燥流體噴嘴2820、干燥流體供給線2840和干燥流體生成器2860。例如，異丙醇可以產(chǎn)生并容納于干燥流體生成器2860中，并且可以通過干燥流體噴嘴2820噴射到基板W上，由其可以將化學(xué)品混合物的殘留物通過洗滌液移除。在完成干燥處理之后，可以將基板W從處理室2100卸載，并且可以將其堆疊在基板傳遞體如晶片盒中。
[0135]雖然本例證實(shí)施方案公開了將干燥流體供給器2800與洗滌液供給器2400安置在一起時，對濕處理裝置3000的結(jié)構(gòu)和構(gòu)造可以允許多種修改。例如，干燥流體供給器2800可以與處理室2100整體地提供。在其他實(shí)施方式中，可以提供除了處理室2100之外另外的室作為干燥室(未顯示)，并且干燥流體供給器2800可以連接至干燥室。[0136]干燥流體供給器2800和洗滌液供給器2400可以彼此在一起一體提供。因此，洗滌液噴嘴2420和干燥流體噴嘴2820兩者都可以通過第一驅(qū)動器2480操作，并且化學(xué)品噴嘴2520可以通過第二驅(qū)動器2580操作。第一驅(qū)動器2480可以包括第一水平臂2482、第一桿2484和第一馬達(dá)2486。第二驅(qū)動器2580可以包括第二水平臂2582、第二桿2584和第二馬達(dá)2586。第一和第二桿2484和2584可以直接連接至相應(yīng)的第一和第二馬達(dá)2486和2586，并且因此可以按照其相應(yīng)中心軸旋轉(zhuǎn)。第一臂2482可以連接至第一桿2484并且連接至洗滌液噴嘴2420和干燥流體噴嘴2820，使得噴嘴2420和2820相對于基板W的相對位置可以通過第一馬達(dá)2486精確控制。以相同的方式，第二臂2582可以連接至第二桿2484和化學(xué)品噴嘴2520，使得化學(xué)品噴嘴2520相對于基板W的相對位置可以通過第二馬達(dá)2586精確控制。
[0137]化學(xué)品供給器2500、洗滌液供給器2400和干燥流體供給器2800可以連接至控制器2600，并且因此可以通過控制器2600根據(jù)濕處理裝置3000中濕處理的階段單獨(dú)地控制。
[0138]例如，控制器2600可以單獨(dú)地連接至化學(xué)品供給器2500的驅(qū)動單元的第一閥2542、洗滌液供給器2400的驅(qū)動單元的第二閥2442以及干燥流體供給器2800的驅(qū)動單元的第三閥2842。因此，可以將合適量的化學(xué)品混合物、洗滌液和干燥流體根據(jù)濕處理的階段自動供給到處理室2100中。此外，第一和第二源槽2511和2512也可以連接至控制器2600，并且因此，可以進(jìn)料至化學(xué)品儲存器2560的第一和第二化學(xué)品源的量也可以通過控制器2600控制?；瘜W(xué)品混合物的組成和濃度可以通過控制器2600確定。此外，在線加熱器2591可以通過控制器2600控制，使得化學(xué)品混合物的處理溫度可以通過控制器2600確定和檢查。
[0139]雖然本例證實(shí)施方案公開了將化學(xué)品混合物、洗滌液和干燥流體供給至處理室2100的上部，也可以將洗滌液和干燥流體根據(jù)濕處理裝置3000的操作條件和安裝需要供給至處理室2100的下部。
[0140]圖7圖示了描述具有圖4中所示化學(xué)品供給器的用于進(jìn)行濕處理的裝置的結(jié)構(gòu)圖。圖7中所示的濕處理裝置可以具有與圖6中所示的濕處理裝置基本上相同的結(jié)構(gòu)，除了化學(xué)品供給器的構(gòu)造之外。因此，將參考圖4的化學(xué)品供給器描述圖7中所示的濕處理裝置。具有與圖6中相應(yīng)特征相同結(jié)構(gòu)的特征由圖6中使用的相同附圖標(biāo)記識別。
[0141]參考圖7，根據(jù)另一個例證實(shí)施方案的用于進(jìn)行濕處理的裝置4000(在下文中稱為濕處理裝置)可以包括用于當(dāng)將化學(xué)品源進(jìn)料至化學(xué)品儲存器3560時加熱化學(xué)品源的第一和第二在線加熱器3591和3592。因此，化學(xué)品混合物可以在高溫容納在化學(xué)品儲存器3560 中。
[0142]可以將化學(xué)品源在到達(dá)化學(xué)品儲存器3560之前加熱至約處理溫度。因此，化學(xué)品混合物可以在處理溫度備用。因此，可以不需要將化學(xué)品混合物在備用狀態(tài)下在處理室中加熱，這可以有助于減少化學(xué)品供給器3500的操作成本?；瘜W(xué)品儲存器3560可以用蓋子覆蓋并且充分地與環(huán)境隔離。因此，化學(xué)品混合物的蒸發(fā)可以最小化，盡管處理溫度高于室溫。化學(xué)品混合物的性質(zhì)可以幾乎不改變，并且在濕處理裝置4000中化學(xué)品混合物的使用期限可以延長。
[0143]可以將溫度補(bǔ)償器3595進(jìn)一步提供至與處理室3100相鄰的供給線3548，并且如此可以補(bǔ)償通過供給線3548的化學(xué)品混合物的熱損失。可以充分地補(bǔ)償化學(xué)品混合物在從化學(xué)品儲存器3560至化學(xué)品噴嘴3520的移動過程中的熱損失，并且化學(xué)品混合物的溫度可以剛好在將化學(xué)品混合物噴射到基板W上之前接近于處理溫度。
[0144]可以不將在線加熱器提供至濕處理裝置4000中的供給線3548。因此，供給線3548的長度可以盡可能減小，并且因此，可以將通過供給線3548的熱損失最小化。作為結(jié)果，化學(xué)品儲存器3560的位置可以與處理室3100相鄰。在這種情況下，當(dāng)在濕處理裝置4000中提供多個處理室3100時，可以將多個化學(xué)品儲存器3560以使得化學(xué)品儲存器3560可以以一對一的方式對應(yīng)于處理室3100的構(gòu)造提供。
[0145]圖8圖示了描述圖7中所示的用于進(jìn)行濕處理的裝置的變體的結(jié)構(gòu)圖。在圖8中，雖然化學(xué)品混合物被公開為可以通過處理室的底部供給，考慮到濕處理裝置的使用條件和安裝需求，可以使用處理室的任何其他部分如頂部用于供給化學(xué)品混合物。
[0146]參考圖8，濕處理裝置4000a可以通過包括以下各項而不同于圖7中所示的濕處理裝置:第一處理室3110，連接至第一處理室3110的第一化學(xué)品儲存器3560a，第二處理室3120，以及連接至第二處理室3120的第二化學(xué)品儲存器3560b。第一化學(xué)品儲存器3560a可以連接至第一源槽3510a，并且第二化學(xué)品儲存器3560b可以連接至第二源槽3510b。第一源槽3510a中的第一化學(xué)品源可以被第一在線加熱器3591a和3592a加熱，并且第一化學(xué)品混合物可以在第一處理溫度容納在第一化學(xué)品儲存器3560a中。第二源槽3510b中的第二化學(xué)品源可以被第二在線加熱器3591b和3592b加熱，并且第二化學(xué)品混合物可以在第二處理溫度容納在第二化學(xué)品儲存器3560b中。因此，第一化學(xué)品混合物可以與第二化學(xué)品混合物相同，或者可以不同于第二化學(xué)品混合物。
[0147]因此，可以在第一處理室3110中進(jìn)行使用第一化學(xué)品混合物的第一濕處理，并且可以在第二處理室3120中進(jìn)行使用第二化學(xué)品混合物的第二濕處理。第一濕處理可以與第二濕處理獨(dú)立地在濕處理裝置4000中進(jìn)行。因此，多個濕處理可以在同一濕處理裝置4000中在單獨(dú)的處理條件下彼此獨(dú)立地進(jìn)行。例如，第一化學(xué)品混合物的組成、濃度和質(zhì)量流量可以與第二化學(xué)品混合物不同。第一溫度補(bǔ)償器3595a可以設(shè)置在第一供給線3548a上，并且第二溫度補(bǔ)償器3595b可以設(shè)置在第二供給線3548b上。因此，可以將第一和第二化學(xué)品混合物的溫度分別單獨(dú)地控制為接近于第一和第二處理溫度。
[0148]盒3910和傳遞單元3920可以位于濕處理裝置4000a的一側(cè)。多個基板W可以堆疊在盒3910中，并且可以將盒3910中的基板W通過傳遞單元3920裝載到處理室3100中。此外，當(dāng)對于處理室3510中的基板完成濕處理時，可以將處理過的基板通過傳遞單元3920卸載到盒3910中。例如，基板W可以包括半導(dǎo)體基板如晶片,盒3910可以包括晶片盒。傳遞單元3920可以包括通過控制器3600控制的機(jī)械手。
[0149]根據(jù)濕處理裝置的例證實(shí)施方案，化學(xué)品混合物可以在室溫在封閉化學(xué)品儲存器中備用，并且可以在向處理室移動的同時被加熱至處理溫度。因此，在備用狀態(tài)下可以不需要加熱化學(xué)品混合物，并且可以不需要在化學(xué)品儲存器中安裝內(nèi)部循環(huán)回路用于加熱濕處理裝置中的化學(xué)品混合物。因此，可以減少濕處理裝置的操作成本。此外，化學(xué)品混合物可以在處理溫度在封閉化學(xué)品儲存器中在不蒸發(fā)化學(xué)品混合物的情況下備用。因此，化學(xué)品混合物可以不需要在備用狀態(tài)加熱并且可能不需要在化學(xué)品儲存器中安裝內(nèi)部循環(huán)回路用于加熱濕處理裝置中的化學(xué)品混合物。尤其是，當(dāng)在處理室與化學(xué)品儲存器之間的供給線上不存在在線加熱器時，多個處理室可以以一對一的方式連接至多個化學(xué)品儲存器。因此，多個濕處理可以在單個濕處理裝置中彼此獨(dú)立地在單獨(dú)的條件下進(jìn)行。
[0150]在濕處理裝置中進(jìn)行濕處理的方法
[0151]圖9圖示了顯示根據(jù)一個例證實(shí)施方案的在基板上進(jìn)行濕處理的方法的處理階段的流程圖，并且圖10是顯示圖9中所示的化學(xué)品混合物的加熱階段的處理子階段的流程圖。
[0152]參考圖1、6、9和10，化學(xué)品混合物C可以在室溫被容納在化學(xué)品儲存器2560中(S100)，并且可以將要處理的基板W裝載到處理室2100中(S200)?；瘜W(xué)品儲存器2560可以用蓋子覆蓋并且因此可以與環(huán)境分離或隔絕。
[0153]可以將基板W單獨(dú)地從盒拉出并且可以通過傳遞單元，如機(jī)械手裝載到處理室2100中。當(dāng)開始濕處理時，可以打開源槽2510的閥并且可以將化學(xué)品源從源槽2510進(jìn)料到化學(xué)品儲存器2100中?；瘜W(xué)品源可以在室溫被容納在源槽2510中。因此，可以將化學(xué)品源在室溫在化學(xué)品儲存器2560中彼此混合，從而在儲存器2560中在室溫形成化學(xué)品混合物。化學(xué)品儲存器2560可以用蓋子覆蓋并且因此可以充分地與環(huán)境隔離。此外，壓力控制氣體可以填充儲存器2560的內(nèi)部空間中空的部分，使得可以將內(nèi)部壓力施加至化學(xué)品儲存器2560中的化學(xué)品混合物。如此，可以充分防止化學(xué)品混合物蒸發(fā)。因此，可以防止化學(xué)品混合物的性質(zhì)改變并且可以充分延長化學(xué)品混合物的使用期限。
[0154]之后，可以將化學(xué)品混合物C從化學(xué)品儲存器2560排出，并且可以將其供給至處理室2100 (S300)。例如，可以通過牽引壓力施加器將牽引壓力從化學(xué)品儲存器2560的外部施加至化學(xué)品混合物C的下部，并且因此，可以將化學(xué)品混合物C從化學(xué)品儲存器2560引出。在其他實(shí)施方式中，可以通過推擠壓力施加器將推擠壓力施加至化學(xué)品儲存器2560中化學(xué)品混合物C的上部，并且因此，可以將化學(xué)品混合物C從化學(xué)品儲存器2560推出。
[0155]在本例證實(shí)施方案中，可以通過控制在供給線2548中流動的化學(xué)品混合物的量的空氣泵將牽引壓力施加至化學(xué)品混合物的下部?？梢詫⒒瘜W(xué)品儲存器2560的內(nèi)部壓力控制為足夠高以推動和使化學(xué)品混合物C向處理室2100移動，這可以有助于增加供給線2548中化學(xué)品混合物C的流速。
[0156]當(dāng)將化學(xué)品混合物C通過供給線2548移動至處理室2100時，可以將化學(xué)品混合物C加熱至處理溫度(S400)。可以將化學(xué)品混合物C用可以安置在供給線2548上的在線加熱器2591加熱(S410)。之后，加熱的化學(xué)品混合物C可以到達(dá)化學(xué)品噴嘴2520。根據(jù)一個實(shí)施方式，溫度補(bǔ)償器2595可以補(bǔ)償通過供給線2548的化學(xué)品混合物的熱損失(S420)。例如，與處理室2100相鄰的供給線2548可以用溫度補(bǔ)償器2595再加熱，從而補(bǔ)償通過供給線2548的化學(xué)品混合物C的熱損失。在本例證實(shí)施方案中，具有高于化學(xué)品混合物C的溫度的熱補(bǔ)償流體F可以流動通過另外的管線，并且化學(xué)品噴嘴2520或供給線2548可以穿過另外的管線。如此，可以將熱從另外的管線中的熱補(bǔ)償流體F傳遞至化學(xué)品混合物C，從而補(bǔ)償化學(xué)品混合物C的熱損失。因此，可以將化學(xué)品混合物C的溫度控制為接近于處理溫度。
[0157]之后，可以將化學(xué)品混合物C在處理溫度噴射到基板W上(S500)，并且可以在濕處理裝置3000中在基板W上進(jìn)行濕處理。其后，可以將洗滌液如去離子水噴射到基板W上，并且可以將殘留的化學(xué)品混合物C從基板W移除(S600)。當(dāng)將殘留的化學(xué)品混合物C從基板W充分地移除時，可以將干燥流體通過干燥流體供給器2800供給到基板W上，并且可以將洗滌液干燥，通過干燥從基板W移除(S700)。在完成使用化學(xué)品供給器1000的濕處理之后，可以將基板W從處理室2100卸載并且可以將其堆疊在盒中?；瘜W(xué)品混合物C的噴射、洗滌液的噴射和干燥流體的噴射可以根據(jù)濕處理的處理步驟由控制器2600單獨(dú)地控制。
[0158]圖11圖示了顯示根據(jù)另一個例證實(shí)施方案用于在基板上進(jìn)行濕處理的方法的處理階段的流程圖，并且圖12是顯示在化學(xué)品儲存器中在處理溫度含有化學(xué)品混合物的圖11中所示的階段的處理子階段的流程圖。
[0159]參考圖4、7、11和12，化學(xué)品混合物C可以在高于室溫的處理溫度容納在化學(xué)品儲存器3560中(S150)，并且可以將要處理的基板W裝載到處理室3100中(S250)。化學(xué)品儲存器2560可以用蓋子覆蓋并且因此可以與環(huán)境分離或隔絕。
[0160]可以將化學(xué)品源SI和S2從第一和第二源槽3511和3512通過相應(yīng)源進(jìn)料線3544和3546進(jìn)料至化學(xué)品儲存器3560 (S152)。在這種情況下，可以在濕處理裝置4000中提供多個處理室3100?？梢詫⒒瘜W(xué)品源SI和S2在流動通過源進(jìn)料線3544和3546的同時分別通過第一和第二在線加熱器3591和3592加熱至處理溫度(S154)。在線加熱器3591和3592可以安置在相應(yīng)源進(jìn)料線3544和3546上。例如，可以將化學(xué)品源SI和S2通過安置在源進(jìn)料線3544和3546上的真空泵從源槽3511和3512排出。真空泵可以包括用于控制化學(xué)品源SI和S2的質(zhì)量流量的通量控制器。
[0161]溫度補(bǔ)償器可以安置在源進(jìn)料線3544和3546上以補(bǔ)償通過相應(yīng)源進(jìn)料線3544和3546的化學(xué)品源SI和S2的熱損失。因此，可以將化學(xué)品源SI和S2的溫度精確控制到處于或接近處理溫度。
[0162]化學(xué)品儲存器3560可以用蓋子覆蓋并且因此可以充分地與環(huán)境隔離。此外，壓力控制氣體可以填充儲存器3560的內(nèi)部空間的空部分，使得可以將內(nèi)部壓力施加至化學(xué)品儲存器3560中的化學(xué)品混合物C。如此，可以充分地防止化學(xué)品混合物C蒸發(fā)。因此，可以防止化學(xué)品混合物C的性質(zhì)改變并且可以充分地延長化學(xué)品混合物的使用期限。
[0163]之后，可以將化學(xué)品混合物C從化學(xué)品儲存器3560排出，并且可以將其供給至處理室3100(S350)。例如，可以通過牽引壓力施加器將牽引壓力從化學(xué)品儲存器3560的外部施加至化學(xué)品混合物C的下部，并且從而，可以將化學(xué)品混合物C從化學(xué)品儲存器3560向外引出。在其他實(shí)施方式中，可以通過推擠壓力施加器將推擠壓力施加至化學(xué)品儲存器3560中化學(xué)品混合物C的上部，并且從而，可以將化學(xué)品混合物C從化學(xué)品儲存器3560推出?？梢詫⒘硪粋€溫度補(bǔ)償器3595安置在供給線3548上以補(bǔ)償通過源供給線3548的化學(xué)品混合物C的熱損失(S450)。如此，可以剛好在將化學(xué)品混合物C噴射到基板W上之前將化學(xué)品混合物C的溫度精確控制為接近處理溫度。
[0164]之后，可以將化學(xué)品混合物C在處理溫度噴射到基板W上(S550)，并且可以在濕處理裝置4000中在基板W上進(jìn)行濕處理。其后，可以將洗滌液如去離子水噴射到基板W上，并且可以將殘留的化學(xué)品混合物C從基板W移除(S650)。當(dāng)將殘留的化學(xué)品混合物C從基板W充分地移除時，可以通過干燥流體供給器3800將干燥流體供給到基板W上，并且可以將洗滌液通過干燥從基板W移除(S750)。在完成使用化學(xué)品供給器2000的濕處理后，可以將基板W從處理室3100卸載，并且可以將其堆疊在盒中?；瘜W(xué)品混合物C的噴射、洗滌液的噴射和干燥流體的噴射可以根據(jù)濕處理的處理階段通過控制器3600單獨(dú)地控制。
[0165]例如，當(dāng)在濕處理裝置4000中提供多個處理室3100并且每個處理室3100單獨(dú)地連接至化學(xué)品儲存器3560中的相應(yīng)化學(xué)品儲存器時，控制器3600可以以使得化學(xué)品源SI和S2在不同條件下進(jìn)料至每個化學(xué)品儲存器3560的方式控制源槽3510。換言之，化學(xué)品儲存器3560可以含有不同的化學(xué)品混合物C并且處理室3560可以通過使用相應(yīng)化學(xué)品供給器3500彼此獨(dú)立地操作。因此，可以在單個濕處理裝置4000中彼此獨(dú)立地進(jìn)行多個濕處理。
[0166]根據(jù)濕處理裝置和在濕處理裝置中進(jìn)行濕處理的方法的例證實(shí)施方案，可以將在線加熱器安置在用于將化學(xué)品混合物供給到處理室中的供給線上或用于將化學(xué)品源進(jìn)料到化學(xué)品儲存器中的源進(jìn)料線上?？梢詫⒒瘜W(xué)品混合物剛好在進(jìn)行濕處理時控制在高溫如處理溫度。可以將化學(xué)品源或化學(xué)品混合物在移動通過源進(jìn)料線或通過供給線時加熱至高溫。因此，化學(xué)品混合物可以不需要在不進(jìn)行濕處理的備用狀態(tài)下加熱，這可以有助于減少化學(xué)品供給器的操作成本。此外，化學(xué)品供給器的化學(xué)品儲存器可以構(gòu)造為其中將儲存器的內(nèi)部空間與環(huán)境隔絕的封閉系統(tǒng)，而不是開放系統(tǒng)，這可以有助于最小化化學(xué)品混合物的蒸發(fā)。因此，可以避免化學(xué)品混合物的性質(zhì)改變，并且可以充分地延長化學(xué)品混合物的使用期限，這可以最小化用于濕處理的化學(xué)品混合物的消耗。當(dāng)在處理室與化學(xué)品儲存器之間的供給線上不設(shè)置在線加熱器時，多個處理室可以以一對一的方式連接至多個化學(xué)品儲存器。如此，多個濕處理可以在單個濕處理裝置中在單獨(dú)的條件下彼此獨(dú)立地進(jìn)行。
[0167]根據(jù)例證實(shí)施方案的化學(xué)品供給器、包括化學(xué)品供給器的處理裝置和使用化學(xué)品供給器處理基板的方法可以在存儲器的形成中使用，所述存儲器可以應(yīng)用于多種電子系統(tǒng)包括半導(dǎo)體器件和IC芯片如電信系統(tǒng)和存儲系統(tǒng)。
[0168]通過概述和綜述的方式，在一般的濕處理中，當(dāng)開始基板處理過程時，將化學(xué)品供給器中的化學(xué)品混合物在高溫通過多個供給線單獨(dú)地供給至相應(yīng)處理室。將高溫化學(xué)品混合物在高壓下從化學(xué)品供給器排出并以相對高的體積速率供給到處理室中，從而將化學(xué)品混合物的供給時間縮短為盡可能快并且將通過供給線的熱損失最小化。因此，剛好在開始濕處理時，將高溫化學(xué)品混合物供給至處理室。
[0169]然而，一般的濕處理需要將化學(xué)品在化學(xué)品供給器中在準(zhǔn)備用于濕處理的備用狀態(tài)下保持在高溫。因此，需要將化學(xué)品通過內(nèi)部化學(xué)品循環(huán)回路循環(huán)同時周期性地加熱，這必然增加濕處理的成本。此外，化學(xué)品的成分容易在高溫蒸發(fā)，并且即使在將化學(xué)品混合之后，化學(xué)品的性質(zhì)也可能隨時間改變(在化學(xué)品混合物的使用期限內(nèi))。因此，在化學(xué)品混合物的使用期限期滿之后，需要將化學(xué)品供給器和供給線中的化學(xué)品的殘留物移除并且洗滌。在使用期限過期后通常將殘留化學(xué)品混合物用新化學(xué)品混合物替換，并且之后使用新化學(xué)品混合物進(jìn)行濕處理。因此，化學(xué)品混合物必然由于濕處理中的殘留物而被浪費(fèi)，并且由于化學(xué)品混合物的置換時間濕處理需要很長時間完成。
[0170]因此，希望有一種改進(jìn)的用于濕處理的化學(xué)品混合物，通過其化學(xué)品消耗和用于濕處理的處理時間充分減少。
[0171]本公開的實(shí)施方案提供一種化學(xué)品供給器，其中在室溫含有化學(xué)品混合物并且在供給線上具有用于將化學(xué)品混合物加熱至高溫的在線加熱器，而沒有化學(xué)品混合物在化學(xué)品供給器內(nèi)的任何加熱。
[0172]實(shí)施方案還提供一種用于使用以上化學(xué)品供給器在基板上進(jìn)行濕處理的裝置。
[0173]實(shí)施方案還提供在以上濕處理裝置中在基板上進(jìn)行濕處理的方法。[0174]根據(jù)這些實(shí)施方案，可以將在線加熱器安置在用于將化學(xué)品混合物供給到處理室中的供給線上或安置在用于將化學(xué)品源進(jìn)料到化學(xué)品儲存器中的源進(jìn)料線上，并且可以將化學(xué)品混合物剛好在可以進(jìn)行濕處理時控制在高溫下如處理溫度。換言之，可以將化學(xué)品源或化學(xué)品混合物在移動通過源進(jìn)料線或通過供給線時加熱至高溫。因此，化學(xué)品混合物可以不需要在可能不進(jìn)行濕處理的備用狀態(tài)加熱，這可以有助于減少化學(xué)品供給器的操作成本。此外，化學(xué)品供給器的化學(xué)品儲存器可以構(gòu)造為其中可以將儲存器的內(nèi)部空間與環(huán)境隔絕的封閉系統(tǒng)而不是開放系統(tǒng)，這可以有助于最小化化學(xué)品混合物的蒸發(fā)。因此，可以阻止化學(xué)品混合物的性質(zhì)改變并且因此可以充分地延長化學(xué)品混合物的使用期限，這可以將用于濕處理的化學(xué)品混合物的消耗最小化。特別是，當(dāng)可以在處理室與化學(xué)品儲存器之間的供給線上不提供在線加熱器時，可以將多個處理室一對一地連接至多個化學(xué)品儲存器。因此，可以在單個濕處理裝置中在單獨(dú)的條件下彼此獨(dú)立地進(jìn)行多個濕處理。
[0175]在本文公開了例證實(shí)施方案，并且雖然采用了特定的術(shù)語，但它們僅以一般的和描述性的意義使用和解釋而沒有用于限制的目的。在一些情況下，如在提交本申請時的本領(lǐng)域一般技術(shù)人員所顯見的，關(guān)于特定實(shí)施方案描述的特征、特征和/或元件可以單獨(dú)地或與關(guān)于其他實(shí)施方案描述的特征、特性和/或元件組合使用，除非另外具體地指出。因此，本領(lǐng)域技術(shù)人員將理解的是，在不違背如在以下權(quán)利要求中陳述的其精神和范圍的情況下可以進(jìn)行形式和細(xì)節(jié)上的多種改變。
【權(quán)利要求】
1.一種化學(xué)品供給器，所述化學(xué)品供給器包括: 化學(xué)品儲存器，所述化學(xué)品儲存器容納處于室溫的化學(xué)品混合物，所述化學(xué)品儲存器的內(nèi)部空間與環(huán)境隔尚; 供給線，通過所述供給線將所述化學(xué)品混合物從所述化學(xué)品儲存器供給至處理室；在線加熱器，所述在線加熱器位于所述供給線上并且將在所述供給線中的所述化學(xué)品混合物加熱至處理溫度；和 動力源，所述動力源驅(qū)動所述化學(xué)品混合物，以使所述化學(xué)品混合物向所述處理室移動。
2.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)品供給器，其中所述化學(xué)品儲存器包括: 容器，所述容器具有源入口和混合物出口，通過所述源入口提供所述化學(xué)品混合物的化學(xué)品源，并且通過所述混合物出口排出含有所述化學(xué)品源的所述化學(xué)品混合物；和 蓋子，所述蓋子與所述容器組合，使得所述容器被所述蓋子覆蓋并且由所述容器和所述蓋子限定的所述化學(xué)品儲存器的內(nèi)部空間是封閉的且與環(huán)境隔絕，所述蓋子具有氣體入口閥和氣體出口閥，通 過所述氣體入口閥將壓力控制氣體供給到所述儲存器中，從而控制所述儲存器的內(nèi)部壓力，通過所述氣體出口閥將所述壓力控制氣體從所述儲存器排出。
3.如權(quán)利要求2所述的化學(xué)品供給器，其中所述壓力控制氣體包括氬氣和氮?dú)庵械囊环N。
4.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)品供給器，其中所述在線加熱器包括: 加熱器主體， 細(xì)管，所述細(xì)管設(shè)置在所述加熱器主體中，使得所述供給線連接在其第一和第二端部并且所述化學(xué)品混合物流動通過所述細(xì)管， 熱傳遞部件，所述熱傳遞部件填充所述加熱器主體并且圍繞所述細(xì)管，以及 加熱部件，所述加熱部件加熱所述熱傳遞部件，使得熱從所述熱傳遞部件傳遞至所述細(xì)管。
5.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)品供給器，所述化學(xué)品供給器還包括: 化學(xué)品噴嘴，所述化學(xué)品噴嘴設(shè)置在所述處理室中的基板上方的所述供給線的末端部分，使得所述化學(xué)品噴嘴將所述化學(xué)品混合物噴射到所述基板上，以及 溫度補(bǔ)償器，所述溫度補(bǔ)償器設(shè)置在與所述處理室相鄰的供給線上，所述溫度補(bǔ)償器補(bǔ)償通過所述供給線的所述化學(xué)品混合物的熱損失。
6.如權(quán)利要求5所述的化學(xué)品供給器，其中所述溫度補(bǔ)償器包括: 管線，熱補(bǔ)償流體流動通過所述管線，所述管線包封與所述處理室相鄰的供給線，熱補(bǔ)償流體源，所述熱補(bǔ)償流體源位于所述管線的第一末端部分并且含有所述熱補(bǔ)償流體，以及 接收器，所述接收器位于所述管線的第二末端部分并且接收所述熱補(bǔ)償流體。
7.如權(quán)利要求6所述的化學(xué)品供給器，其中所述熱補(bǔ)償流體包括在70°C至100°C溫度的去離子水。
8.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)品供給器，其中所述動力源包括空氣泵，通過所述空氣泵控制供給到所述處理室中的所述化學(xué)品混合物的量。
9.一種化學(xué)品供給器，所述化學(xué)品供給器包括:多個源槽，所述多個源槽中的每個源槽容納多個化學(xué)品源中的相應(yīng)化學(xué)品源； 多個源進(jìn)料線，所述多個源進(jìn)料線中的每個源進(jìn)料線連接至相應(yīng)源槽并且在其上具有進(jìn)料泵，所述化學(xué)品源中的相應(yīng)化學(xué)品源通過所述進(jìn)料泵經(jīng)由相應(yīng)源進(jìn)料線進(jìn)料； 多個在線加熱器，所述多個在線加熱器中的每個在線加熱器安置在相應(yīng)源進(jìn)料線上并且將所述相應(yīng)化學(xué)品源加熱至處理溫度； 化學(xué)品儲存器，所述化學(xué)品儲存器連接至所述源進(jìn)料線并且將處于所述處理溫度的所述化學(xué)品源混合成化學(xué)品混合物，所述化學(xué)品儲存器的內(nèi)部空間與環(huán)境隔離； 供給線，通過所述供給線將所述化學(xué)品混合物從所述化學(xué)品儲存器供給至處理室；和 動力源，所述動力源驅(qū)動所述化學(xué)品混合物向所述處理室移動。
10.如權(quán)利要求9所述的化學(xué)品供給器，所述化學(xué)品供給器還包括安置在與所述處理室相鄰的供給線上的溫度補(bǔ)償器，所述溫度補(bǔ)償器補(bǔ)償通過所述供給線的化學(xué)品混合物的熱損失。
11.如權(quán)利要求9所述的化學(xué)品供給器，所述化學(xué)品供給器還包括在所述供給線的末端部分處安置在基板上方的化學(xué)品噴嘴，所述化學(xué)品噴嘴將所述化學(xué)品混合物噴射到所述基板上。
12.如權(quán)利要求11所述的化學(xué)品供給器，所述化學(xué)品供給器還包括多個第一溫度補(bǔ)償器，所述多個第一溫度補(bǔ) 償器中的每個第一溫度補(bǔ)償器安置在所述在線加熱器與所述化學(xué)品儲存器之間的相應(yīng)源進(jìn)料線上以補(bǔ)償通過所述相應(yīng)源進(jìn)料線的相應(yīng)化學(xué)品源的熱損失。
13.如權(quán)利要求12所述的化學(xué)品供給器，所述化學(xué)品供給器還包括安置在與所述處理室相鄰的供給線上的第二溫度補(bǔ)償器，所述第二溫度補(bǔ)償器補(bǔ)償通過所述供給線的所述化學(xué)品混合物的熱損失，從而剛好在將所述化學(xué)品混合物噴射到所述基板上之前將所述化學(xué)品混合物的溫度升高到所述處理溫度。
14.如權(quán)利要求9所述的化學(xué)品供給器，其中所述化學(xué)品儲存器包括容器和蓋子，所述容器中容納所述化學(xué)品混合物，所述蓋子與所述容器組合，使得所述容器被所述蓋子覆蓋并且由所述容器和所述蓋子限定的所述化學(xué)品儲存器的內(nèi)部空間是封閉的且與環(huán)境隔絕，所述蓋子具有氣體入口閥和氣體出口閥，通過所述氣體入口閥將壓力控制氣體供給到所述儲存器中從而控制所述儲存器的內(nèi)部壓力，通過所述氣體出口閥將所述壓力控制氣體從所述儲存器排出。
15.一種用于進(jìn)行濕處理的裝置，所述裝置包括: 處理室，要通過濕處理進(jìn)行處理的基板位于其中； 化學(xué)品供給器，所述化學(xué)品供給器將進(jìn)行所述濕處理的化學(xué)品混合物供給到所述基板上，所述化學(xué)品供給器包括容納所述化學(xué)品混合物的化學(xué)品儲存器和用于將所述化學(xué)品混合物加熱至處理溫度的在線加熱器，所述化學(xué)品儲存器的內(nèi)部空間與環(huán)境隔離；和洗滌液供給器，所述洗滌液供給器將洗滌液供給到所述基板上。
16.如權(quán)利要求15所述的裝置，其中所述化學(xué)品供給器包括供給線，通過所述供給線將所述化學(xué)品混合物從所述化學(xué)品儲存器供給至所述處理室，所述在線加熱器安置在所述供給線上。
17.如權(quán)利要求16所述的裝置，其中所述供給線安置在單個化學(xué)品儲存器與多個所述處理室之間。
18.如權(quán)利要求15所述的裝置，其中: 所述化學(xué)品供給器包括多個源槽和多個源進(jìn)料線，所述多個源槽的每個源槽容納多個化學(xué)品源中的相應(yīng)化學(xué)品源，并且所述多個源進(jìn)料線中的每個源進(jìn)料線連接至相應(yīng)源槽并且將相應(yīng)化學(xué)品源進(jìn)料至所述化學(xué)品儲存器，并且 所述在線加熱器包括多個在線加熱器，所述多個在線加熱器中的每個在線加熱器安置在相應(yīng)源進(jìn)料線上，使得所述化學(xué)品源被加熱至用于所述濕處理的處理溫度并且在所述處理溫度彼此混合成所述化學(xué)品混合物。
19.如權(quán)利要求18所述的裝置，其中: 多個所述處理室和多個所述化學(xué)品儲存器設(shè)置為所述化學(xué)品儲存器以一對一的方式對應(yīng)于所述處理室的構(gòu)造，并且 每個化學(xué)品儲存器中的化學(xué)品混合物具有不同的性質(zhì)，使得多個濕處理彼此獨(dú)立地在每個處理室 中分別進(jìn)行。
20.如權(quán)利要求19所述的裝置，所述裝置還包括: 供給線，通過所述供給線將所述化學(xué)品混合物中的相應(yīng)化學(xué)品混合物從相應(yīng)化學(xué)品儲存器供給至對應(yīng)的處理室；和 溫度補(bǔ)償器，所述溫度補(bǔ)償器安置在與所述處理室相鄰的對應(yīng)的供給線上并且補(bǔ)償通過所述供給線的相應(yīng)化學(xué)品混合物的熱損失。
21.如權(quán)利要求15所述的裝置，其中所述基板包括多個基板，所述裝置還包括: 盒，其中堆疊有所述多個基板； 傳遞單元，所述傳遞單元將所述多個基板中的一個基板從所述盒裝載到所述處理室中并且將所述一個基板從所述處理室卸載至所述盒；和 控制器，所述控制器控制所述化學(xué)品儲存器，使得根據(jù)所述濕處理的處理步驟將所述化學(xué)品混合物噴射到所述基板上。
22.如權(quán)利要求15所述的裝置，所述裝置還包括干燥流體供給器，所述干燥流體供給器供給干燥流體，用于通過干燥從所述基板移除所述洗滌液。
23.如權(quán)利要求22所述的裝置，其中所述干燥流體供給器與所述洗滌液供給器整體地安置成一體。
24.一種在基板上進(jìn)行濕處理的方法，所述方法包括: 提供用于所述濕處理的化學(xué)品混合物，所述化學(xué)品混合物在室溫被容納在化學(xué)品儲存器中，所述化學(xué)品儲存器的內(nèi)部空間與環(huán)境隔離； 將所述化學(xué)品混合物從所述化學(xué)品儲存器供給至其中裝載所述基板的處理室； 將所述化學(xué)品混合物加熱至所述濕處理的處理溫度，同時將所述化學(xué)品混合物供給至所述處理室； 在所述處理溫度將所述化學(xué)品混合物噴射到所述基板上；和 將洗滌液噴射到所述基板上以將所述化學(xué)品混合物的殘留物從所述基板移除。
25.如權(quán)利要求24所述的方法，其中將所述化學(xué)品混合物供給至所述處理室包括將所述化學(xué)品混合物從所述化學(xué)品儲存器排出，所述排出通過從所述化學(xué)品儲存器的外部施加至所述化學(xué)品混合物的下部的牽引壓力和施加至所述化學(xué)品儲存器中的所述化學(xué)品混合物的上部的推擠壓力中的一個或多個進(jìn)行。
26.如權(quán)利要求24所述的方法，其中加熱所述化學(xué)品混合物是通過在線加熱器進(jìn)行的，所述在線加熱器安置在將所述化學(xué)品混合物從所述化學(xué)品儲存器供給至所述處理室的供給線上。
27.如權(quán)利要求26所述的方法，所述方法還包括將所述化學(xué)品混合物在其中流動的所述供給線在與所述處理室相鄰的位置再加熱，以便補(bǔ)償通過所述供給線的化學(xué)品混合物的熱損失。
28.一種在基板上進(jìn)行濕處理的方法，所述方法包括: 提供用于所述濕處理的化學(xué)品混合物，所述化學(xué)品混合物在所述濕處理的處理溫度被容納在化學(xué)品儲存器中，所述化學(xué)品儲存器的內(nèi)部空間與環(huán)境隔離； 將所述化學(xué)品混合物從所述化學(xué)品儲存器供給至其中裝載所述基板的處理室； 將所述化學(xué)品混合物在所述處理溫度噴射到所述基板上；和 將洗滌液噴射到所述基板上以從所述基板移除所述化學(xué)品混合物的殘留物。
29.如權(quán)利要求28所述的方法，其中提供在所述處理溫度在所述化學(xué)品儲存器中的用于所述濕處理的所述化學(xué)品混合物包括: 將所述化學(xué)品混合物的化學(xué)品源通過多個源進(jìn)料線進(jìn)料至所述化學(xué)品儲存器；和通過安置在所述源進(jìn)料線中的相應(yīng)源進(jìn)料線上的在線加熱器將所述化學(xué)品源加熱至所述處理溫 度。
30.如權(quán)利要求29所述的方法，所述方法還包括在與所述處理室相鄰的位置處加熱供給線，所述化學(xué)品混合物通過所述供給線從所述化學(xué)品儲存器流動至所述處理室，以便補(bǔ)償通過所述供給線的所述化學(xué)品混合物的熱損失。
31.如權(quán)利要求28所述的方法，其中將所述化學(xué)品混合物供給至所述處理室包括將所述化學(xué)品混合物從所述化學(xué)品儲存器排出，所述排出通過從所述化學(xué)品儲存器的外部施加至所述化學(xué)品混合物的下部的牽引壓力和施加至所述化學(xué)品儲存器中的所述化學(xué)品混合物的上部的推擠壓力中的一個或多個進(jìn)行。
32.一種化學(xué)品供給器，所述化學(xué)品供給器包括: 化學(xué)品儲存器，所述化學(xué)品儲存器容納處于室溫的化學(xué)品混合物，所述化學(xué)品儲存器的內(nèi)部空間與環(huán)境隔尚; 供給線，通過所述供給線將所述化學(xué)品混合物從所述化學(xué)品儲存器供給至處理室；和在線加熱器，所述在線加熱器位于所述供給線上并且將所述供給線中的所述化學(xué)品混合物加熱至處理溫度，所述在線加熱器包括: 加熱器主體， 在所述加熱器主體內(nèi)的具有盤形的管，所述供給線連接至所述管，使得所述化學(xué)品混合物流動通過所述管， 熱傳遞部件，所述熱傳遞部件填充所述加熱器主體并且圍繞所述管，和 加熱部件，所述加熱部件加熱所述熱傳遞部件，使得熱從所述熱傳遞部件傳遞至所述管。
33.如權(quán)利要求32所述的化學(xué)品供給器，其中所述化學(xué)品儲存器包括氣體入口閥，所述氣體入口閥將壓力控制氣體供給到所述化學(xué)品儲存器中，所述壓力控制氣體提供驅(qū)動力以使所述化學(xué)品混合物移動通過所述供給線。
【文檔編號】H01L21/306GK103996640SQ201410056849
【公開日】2014年8月20日 申請日期:2014年2月19日 優(yōu)先權(quán)日:2013年2月19日
【發(fā)明者】樸相真, 尹普彥, 韓政男, 權(quán)奇相, 尹斗圣, 崔源尚 申請人:三星電子株式會社