專利名稱:用于濕法化學處理的設備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本實用新型涉及一種用于濕法化學處理的設備,以用于借助處理液對襯底進行濕法化學處理。更準確地,本實用新型涉及一種可替換的處理池。
背景技術(shù):
通常使用容納相應處理液的處理池來對例如為硅襯底(晶圓)的物體進行濕法化學的處理,所述處理例如涉及對這種襯底進行移除(蝕刻)、覆層或清洗。根據(jù)期望的處理,處理液為蝕刻液、覆層液(例如電解液)、或清洗液。隨后,襯底或者成堆疊狀地弓I入到池中(“批量處理”),或者將所述襯底以連續(xù)式方法運輸經(jīng)過處理液或者沿著處理液運輸(“連續(xù)式處理”),其中所述襯底在處理時間內(nèi)保留于所述池中。例如從US5,000, 827和DE102007020449中已知適合于成堆疊狀地處理襯底的設
備的實例。所述參考文獻示出用于處理置于反應器殼體之上的襯底的所謂的溢流反應器。借助于泵輸送的處理液穿過反應器殼體向上流動,其中在襯底和反應器殼體的上部端部之間設有一定距離,使得形成構(gòu)造為溢流口的環(huán)形間隙。因為在使用這種處理池時,處理液穿過反應器殼體的上部邊緣從所述反應器殼體中流出,通常在池之下存在有用于容納溢出液體的容器。由于工藝順序的改變、由于定期的檢驗工作、或者由于要短時間內(nèi)執(zhí)行的維護工作,必須能夠替換處理池。對此,通常需要一系列的措施,其中尤其強調(diào)將處理池從用于容納的容器中脫離和可靠地提升池。在此,對池精確地以及謹慎地進行提升是期望的。
實用新型內(nèi)容因此,本實用新型的目的是提供一種設備,所述設備實現(xiàn)對用于濕法化學工藝的處理池進行簡單的以及可靠的替換。在此,尤其期望省時地、可靠地和盡可能位置精確地提升池或放下(替換)池。此外,解決方案應盡是可能低成本的。所述目的通過用于濕法化學處理的設備以用于借助處理液對襯底進行濕法化學處理來實現(xiàn),所述用于濕法化學處理的設備包括:具有外壁的、能夠替換的處理池;設置在所述處理池之下的、用于容納從所述處理池中流出的處理液的容器;以及至少兩根偏心軸,借助于所述偏心軸能夠通過提升來將所述處理池與所述用于容納的容器分離。其他有利的實施形式從說明書中以及附圖得出。根據(jù)本實用新型的設備用于借助處理液對襯底進行濕法化學處理。根據(jù)定義,這種處理不僅包括對襯底進行化學移除或覆層,而且包括穿過或沿著所述處理液對襯底進行清洗或者僅僅運輸。根據(jù)本實用新型,設備包括能夠具有外壁的、可替換的處理池;設置在處理池之下的、用于容納從處理池中流出的處理液的容器;以及至少兩根偏心軸,借助于所述偏心軸通過提升用于容納的容器能夠分離處理池。優(yōu)選地,處理池能夠在至少兩根偏心軸上在提升位置中移動。[0011]根據(jù)一個優(yōu)選的實施形式,在處理池的外壁和用于容納的容器之間的過渡區(qū)域中設置有基于液體的密封部,通過在過渡區(qū)域中提供液體收集容積部實現(xiàn)所述密封部的構(gòu)成。為了闡明這種密封部參考參附圖描述。尤其優(yōu)選地,所述液體收集容積部具有小于偏心軸的偏心距的(要垂直地確定的)深度。通過以偏心距的大小提升處理池能夠足夠高地將所述處理池從液體收集容積部的接合區(qū)域中提起,以便能夠無碰撞或歪斜地將所述處理池可靠地移出。這當液體收集容積部的深度大于偏心距時是不可能的;因此,從接合區(qū)域中附加地進行提升是必需的。此外優(yōu)選的是,偏心軸從設備的提取側(cè)朝向與所述提取側(cè)對置的后側(cè)傾斜地延伸。因此,在拉出時,在然后起到滑軌或?qū)к壸饔玫钠妮S上繼續(xù)提升處理池。對此也參考附圖描述。以這種方式可能的是,無工具地(或者至少用少量工具地)替換處理池,還在較短時間內(nèi)完成所述替換。隨后,描述利用根據(jù)本實用新型的設備對用于借助處理液對襯底進行濕法化學處理的處理池的替換。為避免重復可以參考上述實施形式。這種應用包括利用至少兩根偏心軸通過提升來將處理池與用于容納的容器分離的、與替換池有關(guān)的步驟,以及接下來在提升位置中的處理池的移動。為替換處理池,首先在與處理池連接的配合面處通過與所述配合面共同作用的偏心軸的旋轉(zhuǎn)將該處理池提升。隨后,在借助于旋轉(zhuǎn)偏心軸進行提升之后,在提升位置中,處理池在所述偏心軸上移動。清楚的是,進行所述移動使得將要替換的處理池從處理站的區(qū)域中移出。優(yōu)選地,能夠?qū)⑻幚沓卦诔浞值囊苿又蠓胖迷诔剡\輸設備上。同樣清楚的是,以相反的方式進行將同一個或另一個處理池裝如到處理站中。因此不相應地進行描述。因此,本實用新型提供一種設備,借助所述設備基于借助于偏心軸進行的提升可實現(xiàn)簡單、可靠、快速和低成本地替換用于濕法化學處理襯底的處理池。
在圖1中示出用于濕法化學處理的根據(jù)本實用新型的設備的優(yōu)選的實施形式的剖面圖。所述設備在其上部區(qū)域中具有用于例如尤其為平坦襯底的物體(沒有示出)的處理池I。在處理池I中存在處理液F,從所述處理液中連續(xù)地、然而尤其在處理期間能夠流出處理液F,所述處理液在圖1中通過相應的箭頭表明(僅部分地設有附圖標記)。
具體實施方式
在該實施形式中,處理池I雙層壁式地構(gòu)成。所述處理池的外壁2和內(nèi)壁3在構(gòu)成中間腔4的情況下相互隔開。溢流的或噴出的處理液能夠通過所述中間腔4向下引出,以便不泄漏到周圍空氣中或不污染周圍環(huán)境U。在處理池I之下設置有用于容納處理液F的容器5。在示出的實施形式中,所述容器支承處理池1,并且類似于具有基本上氣密的壁的臺座(包括底板和覆蓋板)構(gòu)成。然而,在朝向處理池下側(cè)的邊界區(qū)域中,用于容納的容器5具有通孔6(僅左側(cè)的通孔設有附圖標記)。處理液F能夠穿過所述通孔6到達用于容納的容器5的內(nèi)腔7中。[0023]從處理池I溢流出的處理液F由于重力S在中間腔4中向下流動并且收集在處理池I的下側(cè)和用于容納的容器5的上側(cè)之間的邊界區(qū)域中。在那里,更準確地說在處理池I的外壁2和用于容納的容器5之間的過渡區(qū)域中設置有相對于周圍環(huán)境U屏蔽處理液F的密封部8。所述密封部8是必要的,因此處理液F還保持在設備的內(nèi)部中,并且不能夠到達周圍環(huán)境U中。密封部8是液密的。在圖1中僅在細節(jié)圈K中表明密封部8。尤其優(yōu)選的是,所述密封部構(gòu)成為基于液體的密封部,通過在處理池I的外壁2和用于容納的容器5之間的過渡區(qū)域中提供液體收集容積部(沒有示出)來實現(xiàn)密封部8的構(gòu)成。根據(jù)本實用新型的設備具有兩根偏心軸9,借助于所述偏心軸能夠通過提升將處理池I與用于容納的容器5分離,并且在偏心軸9上能夠?qū)⑺鎏幚沓卦谔嵘恢弥谐O備提取側(cè)移動。在示出的視圖中,所述提取側(cè)朝向觀察者。通過將偏心軸9從下沉位置中以優(yōu)選為180度的角度旋轉(zhuǎn)到提升位置中來進行所述提升。在此,由于偏心軸9的偏心距,相應地指向上的、與處理池I的相應的配合面接觸的接觸線到密封部8或用于容納的容器5的上側(cè)的距離也發(fā)生改變。根據(jù)示出的、優(yōu)選的實施形式,偏心軸9具有偏心距,所述偏心距至少與優(yōu)選存在的液體收集容積部的深度(沒有示出)一致。因此確保,在從下沉位置到提升位置的轉(zhuǎn)換中,將外壁2提升為使得處理池I實際上能夠自由移動。同樣能夠認識到,偏心軸9從提取側(cè)中朝向與所述提取側(cè)對置的(背離觀察者的)后側(cè)傾斜地延伸。因此,在偏心軸9上朝觀察者的方向進行滑動期間,繼續(xù)向上提升處理池
I。以這種方式也能夠較簡單地將其他的、在圖中沒有示出的連接件(例如,處理池I的進水件和/或排水件)與相應的配合件分離。尤其優(yōu)選地,所述連接件滑入到彼此中或者從彼此中滑出,使得在替換處理池I時,取消手動的聯(lián)接和分離。附圖標記列表I 處理池2 外壁3 內(nèi)壁4中間腔5用于容納的容器6 通孔7 內(nèi)腔8密封部9偏心軸10配合面F處理液、液體U周圍環(huán)境S 重力K細節(jié)圈
權(quán)利要求1.用于濕法化學處理的設備,其設置用于借助處理液(F)對襯底進行濕法化學處理,所述用于濕法化學處理的設備包括:具有外壁(2)的、能夠替換的處理池(I);設置在所述處理池(I)之下的用于容納的容器(5),用于容納從所述處理池(I)中流出的處理液(F);以及至少兩根偏心軸(9 ),借助于所述偏心軸(9 )能夠?qū)⑺鎏幚沓?I)通過提升來與所述用于容納的容器(5)分離。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于濕法化學處理的設備,其中在提升的位置中,所述處理池(I)能夠在所述至少兩根偏心軸(9)上移動。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于濕法化學處理的設備,其中在所述處理池(I)的所述外壁(2)和所述用于容納的容器(5)之間的過渡區(qū)域中設置有基于液體的密封部(8),通過在所述過渡區(qū)域中提供液體收集容積部實現(xiàn)所述密封部的構(gòu)成。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于濕法化學處理的設備,其中所述液體收集容積部具有小于所述偏心軸(9)的偏心距的深度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1、2或4之一所述的用于濕法化學處理的設備,其中所述偏心軸(9)從所述用于濕法化學處理的設備的提取側(cè)朝向與所述提取側(cè)對置的后側(cè)傾斜地延伸。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于濕法化學處理的設備,其中所述偏心軸(9)從所述用于濕法化學處理的設備的提取側(cè)朝向與所述提取側(cè)對置的后側(cè)傾斜地延伸。
專利摘要本實用新型涉及用于濕法化學處理的設備,其用于借助處理液對襯底進行濕法化學處理。更準確地,本實用新型涉及可替換的處理池。用于借助處理液(F)對襯底進行濕法化學處理的設備包括具有外壁(2)的可替換的處理池(1)、設置在處理池(1)之下的用于容納從處理池(1)中流出的處理液(F)的容器(5)以及至少兩根偏心軸(9),借助于所述偏心軸(9)將所述處理池(1)通過提升來與所述用于容納的容器(5)分離。
文檔編號H01L21/67GK203055873SQ20122045101
公開日2013年7月10日 申請日期2012年9月5日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月6日
發(fā)明者約爾格·弗蘭茨克, 馬蒂亞斯·尼澤, 于爾根·施韋希肯迪克 申請人:睿納有限責任公司