技術(shù)總結(jié)
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式，基板的處理發(fā)生在基板處理裝置處，所述基板處理裝置包括：主腔室，其具有敞口頂部形狀，并且具有在所述主腔室的一個(gè)側(cè)部上形成的用于所述基板的入口和出口的直通路徑；基座，其安裝在所述主腔室內(nèi)，并且在所述基座上放置有所述基板；腔室蓋，其安裝在所述主腔室的敞口頂部上并具有位于所述基座的頂部處的頂部安裝空間，并且具有設(shè)置在所述頂部安裝空間的外部的氣體供應(yīng)通道；加熱塊，其安裝在所述頂部安裝空間中，并且加熱所述基板；以及氣體供應(yīng)口，其連接到所述氣體供應(yīng)通道，并且向處理空間供應(yīng)處理氣體。

技術(shù)研發(fā)人員：梁日光;宋炳奎;金勁勛;金龍基;申良湜
受保護(hù)的技術(shù)使用者：株式會(huì)社EUGENE科技
文檔號(hào)碼：201380045392
技術(shù)研發(fā)日：2013.08.23
技術(shù)公布日：2017.04.26