有機發(fā)光二極管顯示器件的制作方法
【專利摘要】一種有機發(fā)光二極管顯示器件，包括：基板，該基板限定了具有發(fā)光區(qū)和非發(fā)光區(qū)的多個像素；防反射層，該防反射層形成在基板上并且包括至少一個金屬層和至少一個絕緣層；薄膜晶體管，該薄膜晶體管形成在防反射層上、位于非發(fā)光區(qū)中并且包括在防反射層上位于非發(fā)光區(qū)中的的柵極或金屬線；鈍化層，該鈍化層形成在薄膜晶體管上；色彩提純器，該色彩提純器形成在鈍化層上、位于發(fā)光區(qū)中；光阻擋部件，該光阻擋部件在鈍化層上、位于非發(fā)光區(qū)中；有機發(fā)光層；以及陰極和陽極。
【專利說明】有機發(fā)光二極管顯示器件
[0001]本申請要求2012年8月7日提交的韓國專利申請N0.10-2012-0086242的優(yōu)先權(quán)，其通過引用全部并入本文。
【技術(shù)領域】
[0002]本發(fā)明涉及一種有機發(fā)光二極管顯示器件，更具體地，涉及一種有源矩陣型有機發(fā)光二極管顯示器件。
【背景技術(shù)】
[0003]近來，隨著信息技術(shù)的快速發(fā)展，已提出并積極追求具有薄外形和輕重量的平板顯示(FPD)器件。有代表性的平板顯示器件是液晶顯示器件和有機發(fā)光二極管顯示器件。有機發(fā)光二極管顯示器件可以被稱為有機電致發(fā)光顯示器件。由于有機發(fā)光二極管顯示器件不需要諸如液晶顯示器件的背光的額外的光源，但具有高的顏色再現(xiàn)范圍，所以這些器件相比液晶顯示器件更薄并且顯示更清晰的圖像。
[0004]有機發(fā)光二極管顯示器件包括布置在屏幕中的像素，每個像素都由不同顏色的子像素組成。子像素由選通線和數(shù)據(jù)線交叉來限定。每個子像素可以由包括薄膜晶體管的驅(qū)動元件來單獨驅(qū)動；薄膜晶體管和金屬線可以設置在驅(qū)動元件區(qū)中。此時，如果驅(qū)動元件區(qū)中的薄膜晶體管和金屬線反射外界光，則可能降低外部可見性。
[0005]圖1是示出根據(jù)相關(guān)技術(shù)的有源矩陣型有機發(fā)光二極管顯示器件的一部分的截面圖。
[0006]在圖1中，相關(guān)技術(shù)的有機發(fā)光二極管顯示器件包括形成在基板(未示出)上的有機發(fā)光二極管120和偏光板110，從有機發(fā)光二極管120發(fā)出的光通過基板透射到外面。
[0007]有機發(fā)光二極管120包括陽極121、有機發(fā)光層122和陰極123。
[0008]當從陽極121注入的空穴與來自陰極123的電子復合時，形成激子。此時，利用有機發(fā)光層122的帶隙能量發(fā)出光。發(fā)出的光穿過色彩提純器130并被轉(zhuǎn)換成所希望的顏色。
[0009]偏光板110包括使入射光偏振的線偏光板111和λ /4相位延遲器113。線偏光板111和λ /4相位延遲器113通過介于它們之間的第一粘接層112相互接合。
[0010]來自外界的光通過線偏光板111被線偏振，線偏光板111可以是水平線偏光板。因此，來自外界的光被水平偏振(線偏振)。此外，線偏振光通過λ/4相位延遲器113被圓偏振。例如,線偏振光可以被左旋圓偏振。圓偏振光被陰極123反射并再次穿過λ/4相位延遲器113。當被反射時，左旋圓偏振光被右旋圓偏振。并且，通過λ/4相位延遲器113，光被垂直偏振(線偏振)。由于垂直偏振(線偏振)光不能穿過水平線偏光板111，所以來自外界的光不能被反射并且能夠提高可見性。
[0011]第二粘接層114形成在λ /4相位延遲器113的外部并且將偏光板110粘接到有機發(fā)光二極管顯示器件。
[0012]當利用偏光板110使外界光的反射最小化時,透射少于45%的從有機發(fā)光二極管120發(fā)出的光，并降低了一半以上的亮度。因此，如果使用更多的功耗來補償降低的亮度，則會減少有機發(fā)光層122的壽命。
[0013]由于偏光板110相對昂貴，所以為了阻擋反射而采用偏光板110不是很有競爭力。
【發(fā)明內(nèi)容】

[0014]因此，本發(fā)明旨在提供一種有機發(fā)光二極管顯示器件，其基本上消除了由于相關(guān)技術(shù)的限制和缺點所產(chǎn)生的一個或更多個問題。
[0015]本發(fā)明的優(yōu)點是要提供一種可以減少制造成本的有機發(fā)光二極管顯示器件。
[0016]一種有機發(fā)光二極管顯示器件包括:基板，該基板限定了具有發(fā)光區(qū)和非發(fā)光區(qū)的多個像素；防反射層，該防反射層形成在基板上并且包括至少一個金屬層和至少一個絕緣層；薄膜晶體管，該薄膜晶體管形成在防反射層上、位于非發(fā)光區(qū)中并且包括柵極；鈍化層，該鈍化層形成在薄膜晶體管上；色彩提純器，該色彩提純器形成在鈍化層上、位于發(fā)光區(qū)中；和光阻擋部件，該光阻擋部件在鈍化層上、位于非發(fā)光區(qū)中；有機發(fā)光層；以及陽極和陰極，其中，光阻擋部件包括光阻擋層，光阻擋層由與該顏色相同的材料形成。
[0017]另一方面，一種有機發(fā)光二極管顯示器件，包括:基板，該基板限定了具有發(fā)光區(qū)和非發(fā)光區(qū)的多個像素；防反射層，該防反射層形成在基板上并且包括至少一個金屬層和至少一個絕緣層；金屬線，該金屬線在防反射層上、位于非發(fā)光區(qū)中；鈍化層，該鈍化層形成在金屬線上；色彩提純器，該色彩提純器形成在鈍化層上、位于發(fā)光區(qū)中；和光阻擋部件，該光阻擋部件形成在鈍化層上、位于非發(fā)光區(qū)中；有機發(fā)光層；以及陰極和陽極，其中，光阻擋部件包括光阻擋層，光阻擋層由與色彩提純器相同的材料形成。
[0018]應當理解的是，前面的概括描述和下面的詳細描述都是示例性和說明性的，并且旨在為所要求保護的本發(fā)明提供進一步的說明。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0019]附圖被包括進來以提供對本發(fā)明的進一步理解并且并入以構(gòu)成本說明書的一部分，示出了本發(fā)明的示例性實施方式并且與說明書一起用于解釋本發(fā)明的原理。
[0020]圖1是示出根據(jù)相關(guān)技術(shù)的有源矩陣型有機發(fā)光二極管顯示器件的一部分的截面圖。
[0021]圖2是示出根據(jù)本發(fā)明一些實施方式的具有光阻擋部件和防反射層的示例性有機發(fā)光二極管顯示器件的截面圖。
[0022]圖3是示出根據(jù)本發(fā)明其它實施方式的包括光阻擋部件的有機發(fā)光二極管顯示器件的截面圖。
[0023]圖4是示出根據(jù)本發(fā)明其它實施方式的包括防反射層的有機發(fā)光二極管顯示器件的截面圖。
[0024]圖5是示出根據(jù)本發(fā)明另外實施方式的光阻擋部件阻擋光的原理的截面圖。
[0025]圖6是示出根據(jù)本發(fā)明另外實施方式的光阻擋部件阻擋光的原理的截面圖。
【具體實施方式】
[0026]將詳細參考本發(fā)明的示例性實施方式，其示例示于附圖中。
[0027]圖2是示出根據(jù)本發(fā)明一些實施方式的有機發(fā)光二極管顯示器件的截面圖。[0028]在圖2中，根據(jù)本發(fā)明一些實施方式的有機發(fā)光二極管顯示器件可包括基板210、防反射層220、金屬線230、鈍化層240、色彩提純器250、光阻擋部件255和有機發(fā)光層270。
[0029]基板210可以包括多個像素，并且這些像素可以被分成發(fā)光區(qū)和非發(fā)光區(qū)。發(fā)光區(qū)是發(fā)射光的區(qū)域，而非發(fā)光區(qū)是存在用于驅(qū)動有機發(fā)光二極管顯示器件的電路并且不發(fā)光的區(qū)域。
[0030]防反射層220可以形成在基板210上并且可以最小化來自外界的光的反射。防反射層220可以包括至少一個金屬層221和金屬層221上的至少一個絕緣層222。為了增強反射阻擋效果，金屬層221和絕緣層222的結(jié)構(gòu)可以重復2次以上以具有多層結(jié)構(gòu)。
[0031]當采用多層結(jié)構(gòu)時，防反射效果優(yōu)良，但有機發(fā)光層270的透光率變低。因此，可以通過考慮防反射和透光率來確定層的數(shù)量。
[0032]防反射層220會引起金屬層221上反射的光和絕緣層222上的金屬線230上反射的光相消性干涉，導致反射的光消散。因此，如果金屬層221和絕緣層222順序形成在基板210上并且金屬層230形成在絕緣層222上，則可以通過金屬層221和金屬線230處的兩種反射光的相消性干涉來防止來自外界的光的反射。此時，金屬層221可以部分地透射光，而金屬線不透射光。下面將參考圖5詳細描述光消散的原理。
[0033]同時，防反射層220可形成為覆蓋整個基板210。在像素內(nèi)部的大部分非發(fā)光區(qū)中形成金屬線，這會導致來自外界的光的反射增加。非發(fā)光區(qū)的金屬線230可以包括與柵極231同時形成的選通線232，和補償電路線233。此外，可以形成柵絕緣層235以覆蓋柵極。
[0034]由于在基板210的大部分區(qū)域中存在許多金屬，因此可以形成防反射層220以覆蓋整個基板210。然而，由于防反射層220可以吸收從發(fā)光區(qū)中的有機發(fā)光層270發(fā)出的光，所以層220會導致光的亮度降低。通過利用附加的光刻工藝可以僅在非發(fā)光區(qū)中形成防反射層220，隨后將在下面參考圖4進行說明。
[0035]如上所述，金屬線230可以形成在基板210的非發(fā)光區(qū)中。金屬線可以包括薄膜晶體管的柵極231、選通線232和補償電路線233。圖中所示的補償電路線233是整個補償電路的一部分，并且可以是存儲電容器或?qū)⒁B接至存儲電容器的線。然而，根據(jù)本發(fā)明，金屬線不受限制并且可以是與柵極231同時形成的任何線或同一層上的其它線。
[0036]此外，金屬線230可以包括利用至少一個絕緣層而與柵極231隔開的線。例如，可以包括與選通線一起限定像素區(qū)的數(shù)據(jù)線，以及與數(shù)據(jù)線同時形成的任意其它線。具體地，可以包括源極和漏極。還可以包括用于將電力施加到每個像素的電源線。金屬線230不限于上面說明的那些，可以包括反射來自外界的光的任意線或部分。
[0037]接下來，可以在金屬線230上形成鈍化層240并且可以保護薄膜晶體管和金屬線。
[0038]然后，可以在鈍化層240上、在發(fā)光區(qū)中形成色彩提純器250。色彩提純器250可以布置在與有機發(fā)光層270接觸陽極260和陰極280的區(qū)域相對應的區(qū)域中。因此，發(fā)光區(qū)中發(fā)出的光可以被轉(zhuǎn)換成所希望的顏色。色彩提純器250被認為是與LCD器件的濾色器相同的元件。平整化層257覆蓋色彩提純器250。
[0039]同時，可以根據(jù)發(fā)光方法確定色彩提純器250的垂直位置。例如，在頂發(fā)射型中，色彩提純器250可以布置在陰極280上。并且，不管發(fā)光方法如何，都可以布置色彩提純器250以使得制造效率或發(fā)光效率最大化。
[0040]色彩提純器250可以通過光刻工藝或輥印工藝形成。[0041]光刻工藝使用具有每個子像素的顏色的光刻膠并且具有能獲得所需精確圖案的優(yōu)點。例如，能夠通過在基板上涂布紅色光刻膠并且通過曝光和顯影來形成色彩提純器250，能夠通過相同的方法形成綠色和藍色色彩提純器250。
[0042]輥印工藝可以使用輥或印刷板替代光刻工藝中使用的掩模?？梢灾苯釉诨迳嫌∷⒕哂忻總€子像素的顏色的墨水圖案。例如，能夠通過在坯板(blanket)的表面上涂布墨水、按壓具有與所需圖案相反的圖案的輥或印刷板、去除不需要的圖案的墨水、并印刷坯板上剩下的墨水，來形成色彩提純器250。
[0043]接下來，可以在與形成金屬線230的區(qū)域相對應的非發(fā)光區(qū)中在鈍化層240上形成光阻擋部件255。光阻擋部件255可以在鈍化層240被蝕刻的位置與薄膜晶體管或金屬線230接觸。沒有限制布置光阻擋部件255的位置，并且光阻擋部件255可以接觸基板210。光阻擋部件255用于阻擋來自金屬線230之間的光的傳播。
[0044]金屬線230可以不形成在整個基板上。金屬線230可以與相鄰的金屬線230隔開以進行絕緣。
[0045]在光阻擋部件255中可以吸收穿過金屬線的、來自外界的光。盡管可以透過少量來自外界的光，但這些光可以在陰極280上被反射而返回至光阻擋部件255中被吸收。因此，可以阻擋大部分來自外界的光。下面將參考圖5和6說明光阻擋部件255的阻擋光的原理。
[0046]為了實現(xiàn)上述功能，光阻擋部件255可具有不同顏色的光阻擋層。例如，光阻擋部件255可具有紅色光阻擋層251、綠色光阻擋層252和藍色光阻擋層253。紅色光阻擋層251可包括與色彩提純器250的紅色提純器相同的材料，綠色光阻擋層252可包括與色彩提純器250的綠色提純器相同的材料，并且藍色光阻擋層253可包括與色彩提純器250的藍色提純器相同的材料。
[0047]色彩提純器250具有與相應子像素對應的顏色，并且，例如包括紅色、綠色和藍色。還可進一步包括黃色、青色(cyan)和其它顏色。當這三種顏色堆疊時，表現(xiàn)為可以吸收來自外界的光的黑色。換句話說，如果紅色、綠色和藍色光阻擋層251、252和253堆疊時，則可以吸收來自外界的光。
[0048]此外，光阻擋部件255可以通過堆疊至少兩層彩色光阻擋層形成。例如，光阻擋部件255可包括紅色和綠色光阻擋層251和252兩層、紅色和藍色光阻擋層251和253兩層、或者綠色和藍色光阻擋層252和253兩層。
[0049]光阻擋部件255可以在色彩提純器250形成的同時形成。
[0050]在光刻工藝的情況下，例如，為了形成色彩提純器250，在整個基板210上涂布紅色光刻膠。然后，在像素的除了發(fā)射紅色光的發(fā)光區(qū)域之外的區(qū)域中，移除紅色光刻膠。此時，如果在像素的非發(fā)光區(qū)域中，留下紅色光刻膠而沒有移除，則可以形成紅色光阻擋層251。然后，通過相同的方法，可以在所有像素的非發(fā)光區(qū)域中形成綠色和藍色光阻擋層252和253。并不對形成光阻擋部件255的次序進行限制。例如，可以先形成藍光層252。
[0051]在輥印方法中，在每個像素的發(fā)光區(qū)域中形成色彩提純器250的同時，通過在非發(fā)光區(qū)域中印刷墨水圖案，可以形成光阻擋部件255。
[0052]接下來，可以在整個基板210上形成有機發(fā)光層270?；?10上發(fā)光的發(fā)光區(qū)域是有機發(fā)光層270接觸陽極260和陰極280的區(qū)域，并發(fā)射白光。發(fā)射的光可以穿過形成在有機發(fā)光層270下面的色彩提純器250，并且可以轉(zhuǎn)換成具有例如紅色、綠色和藍色中的一種,并且發(fā)射到基板210的外部。
[0053]根據(jù)本發(fā)明一些實施方式的發(fā)光過程如下。如果將容易流動的方向的電流施加到陽極260和陰極280上，則來自陽極260的空穴和來自陰極280的電子可以移動到有機發(fā)光層270，并且可以相互復合。復合的空穴和電子稱為激子。如果激子躍遷到基態(tài)，則可以以光的形式釋放能量，并且有機發(fā)光層270可以發(fā)光。
[0054]根據(jù)有機發(fā)光層270的材料，像素的發(fā)光顏色是變化的。例如，通常通過混合紅色、綠色和藍色發(fā)光材料或者通過堆疊紅色、綠色和藍色發(fā)光材料以混合每種材料的光的顏色，來實現(xiàn)白色。另選地，例如，也可以通過混合黃色、紫紅色和青色發(fā)光材料或者通過堆疊黃色、紫紅色和青色發(fā)光材料以混合每種材料的光的顏色，來實現(xiàn)白色。
[0055]在一些實施方式中，在非發(fā)光區(qū)域中可以部分或全部移除(例如，通過蝕刻)鈍化層。在另外的實施方式中，在發(fā)光區(qū)中也可以移除鈍化層。通過鈍化層的移除，這里描述的光阻擋層可以直接覆蓋柵絕緣層235或者本發(fā)明的一些金屬線230。
[0056]圖3是示出根據(jù)另外的實施方式的光阻擋部件的截面圖。
[0057]如圖3所示，光阻擋部件255可包括與藍色提純器相同材料的藍色光阻擋層253。
[0058]藍色提純器的材料可以比其它顏色提純器的材料吸收更多的光。因此，不必采用其它顏色提純器的材料的光阻擋層來阻擋來自外界的光。
[0059]同時，為了形成僅具有藍色光阻擋層252這一層的光阻擋部件255，可以移除與色彩提純器250同時形成的紅色和綠色光阻擋層251和252。通過在基板210上涂布材料并移除除了子像素的發(fā)光區(qū)域中的材料之外的材料，可以形成色彩提純器250。
[0060]圖4是示出根據(jù)本發(fā)明另外實施方式的防反射層220的截面圖。
[0061]如圖4所示，防反射層220可以形成在非發(fā)光區(qū)的基板上，并且可以不在發(fā)光區(qū)中。由于防反射層220沒有形成在發(fā)光區(qū)中，發(fā)光區(qū)中發(fā)射的光可以不被防反射層220的金屬層221吸收，導致光的透射和亮度增加。
[0062]為了在除發(fā)光區(qū)之外的非發(fā)光區(qū)域中形成防反射層220，可以使用用于形成色彩提純器250或用于形成堤層(bank layer) 261的掩模。因此，可以在不制備另外的掩模的情況下形成防反射層220。換句話說，在形成防反射層220時，不需要另外的制造工藝或成本。
[0063]下面參考圖5說明防反射層220的詳細結(jié)構(gòu)和原理，圖5是防反射層220的截面圖。
[0064]如圖5所示，防反射層220具有至少一個金屬層221和形成有金屬線的至少一個絕緣層222。該防反射層220是通過在基板210 (未示出)上順序堆疊金屬層221和絕緣層222而形成的。在金屬層221下面，可以形成另外的絕緣層(未示出)。并且，為了增加阻擋反射的效果，可以重復上述結(jié)構(gòu)以具有多層結(jié)構(gòu)。
[0065]例如，防反射層220阻擋光反射的過程包括下面兩個過程。一個過程是吸收來自外界的光，另一個過程是通過來自金屬層221的光和來自形成在絕緣層222上的金屬線230的光的相消性干涉使光消散。
[0066]如果入射到基板210上的外界光遇到金屬層221,則一部分光被反射成為第一反射光(Rl);然后另一部分光被金屬層221吸收，并且剩余的光被透射。一部分透射光可以在金屬線處反射，成為第二反射光(R2)，并且剩余的光透過絕緣層222。此時，如圖所示，如果第一和第二反射光Rl和R2具有λ /2的相位差，則可以產(chǎn)生相消性干涉，并且可以使反射光消散。
[0067]為了造成相消性干涉，金屬層221可以由金屬材料(例如，鈦(Ti)、鑰(Mo)、鉻(Cr)和它們的混合物)制成，并且可以具有大約50Α到大約200Α、大約80Α到大約100Α、或大約50Α到大約150Α的厚度。如果這些材料形成為大約50Α到大約200Α厚度的薄膜，則光可以部分透過，像太陽鏡或偏光板。因此，從有機發(fā)光層270透射的光可以發(fā)射到基板210的外部。
[0068]絕緣層222可以由無機材料(例如，氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)、氮氧化硅(SiON)、氧化鋁(AlOx)或它們的混合物)形成，并且可具有大約500Α到大約3000Α、大約800Α到大約2500Α、大約1000Α到大約1500Α或大約1000Α到大約2000Α的厚度。該絕緣層
222可具有大約1.4至大約1.7、大約1.5至大約1.7、或大約1.5至大約1.6的反射系數(shù)。
[0069]例如，當防反射層220具有多層結(jié)構(gòu)(其中厚度分別為800Α、150Α和800Α的絕緣層222、金屬層221和絕緣層222順序堆疊)時，光透射率為44%，這比偏光板大1%。
[0070]可以調(diào)節(jié)金屬層221和絕緣層222的厚度，以造成相消性干涉。這是因為第一和第二反射光(Rl和R2)的反射點之間的距離可以決定第一反射光(Rl)的波峰和第二反射光(R2)的波谷的交疊。由此，在確定了金屬層221和絕緣層222的厚度之后，可以形成要布置在絕緣層222上的金屬線230，以滿足相消性干涉條件。
[0071]此外，金屬線230可以形成在柵極231所在的不同層上。例如，該金屬線230可以是數(shù)據(jù)線。在這種情況下，為了確定數(shù)據(jù)線和防反射層220之間的相消性干涉條件，可以考慮如防反射層220和數(shù)據(jù)線之間的柵絕緣層235的絕緣層。如果兩個以上反射光的反射點之間的距離變長，則很難滿足相消性干涉條件。通過控制距離，能夠或多或少獲得相消性干涉效果。
[0072]在如上所述的防反射層220和金屬線230之間存在中間層的條件下，在中間層上和金屬線230下面形成另外的防反射層將是有效的防止光反射的方法之一。例如，當在防反射層220和金屬線230之間存在柵絕緣層235時，另外的防反射層可以形成在柵絕緣層235上和金屬線230的下面。
[0073]此外，當存在中間層時，可以在基板210上形成與在蝕刻一部分中間層之后基板210上的金屬層230或金屬線230對應的另外的金屬層。
[0074]同時，可以在金屬線230上形成光阻擋部件255。在光阻擋部件255和金屬層230之間，可以存在絕緣層，如鈍化層。
[0075]沒有被金屬線230阻擋的光可以被光阻擋部件255吸收并消散。透射光(T)入射在形成在金屬線230上的光阻擋部件255上。光阻擋部件255具有黑色。例如，可以堆疊紅色光阻擋層251、綠色光阻擋層252和藍色光阻擋層253，以形成黑色光阻擋部件255。
[0076]透射光(T)在穿過光阻擋部件255時會被吸收和消散。如果一部分透射光(T)穿透光阻擋部件255，則隨后可以在陰極280處被反射，并且可以再次進入光阻擋部件255而被消散。通過相同的原理，光阻擋部件255可防止金屬線230之間透射的光(T)的反射。
[0077]圖6是示出根據(jù)本發(fā)明另外實施方式的防反射層220和光阻擋部件255的光阻擋的原理的截面圖。[0078]如圖6所示，防反射層220具有至少一個金屬層221和至少一個絕緣層222。由于防反射層220的阻擋反射的原理與先前參考圖5的說明相同，所以省略其說明。
[0079]同時，光阻擋部件255可包括藍色光阻擋層252，該藍色光阻擋層252沒有吸收全部的外界光而是部分地透射光。因此，該藍色光阻擋層可以吸收一些外界光，并且當透射光被陰極280反射時，藍色光阻擋層可吸收其余的外界光。
[0080]根據(jù)本發(fā)明，通過采用金屬層和絕緣層的多層結(jié)構(gòu)的防反射層替代昂貴的偏光板，可以減少制造成本。
[0081]而且，根據(jù)本發(fā)明，由于與色彩提純器相同材料的光阻擋部件吸收在金屬層之間透射的外界光并防止陰極處的光的反射，所以可以最大化防反射效率。
[0082]此外，根據(jù)本發(fā)明，通過采用高透射性能的防反射層，可以減少功耗并提高壽命。
[0083]對于本領域技術(shù)人員而言將顯而易見的是，可以在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的前提下對本發(fā)明進行各種修改和變形。因此，本發(fā)明旨在涵蓋落入所附權(quán)利要求及其等同物范圍內(nèi)的本發(fā)明的修改和變形。
【權(quán)利要求】
1.一種有機發(fā)光二極管顯不器件，包括: 基板，該基板限定了具有發(fā)光區(qū)和非發(fā)光區(qū)的多個像素； 防反射層，該防反射層形成在所述基板上并且包括至少一個金屬層和至少一個絕緣層； 薄膜晶體管，該薄膜晶體管形成在所述防反射層上、位于所述非發(fā)光區(qū)中并且包括柵極； 鈍化層，該鈍化層形成在所述薄膜晶體管上； 色彩提純器，該色彩提純器形成在所述鈍化層上、位于所述發(fā)光區(qū)中； 光阻擋部件，該光阻擋部件在所述鈍化層上、位于所述非發(fā)光區(qū)中； 有機發(fā)光層；和 陰極和陽極， 其中，所述光阻擋部件包括光阻擋層，所述光阻擋層由與所述色彩提純器相同的材料形成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機發(fā)光二極管顯示器件，其中，所述光阻擋層由與藍色提純器相同的材料形成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機發(fā)光二極管顯示器件，其中，所述光阻擋部件包括多個光阻擋層，每個所述光阻擋層都具有相互不同的顏色，并且所述多個光阻擋層中的至少一個由與所述色彩提純器相同的材料形成。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機發(fā)光二極管顯示器件，其中，形成在所述鈍化層上、位于所述發(fā)光區(qū)中的所述色彩提純器具有選自由紅色、綠色、藍色、黃色、紫紅色和青色構(gòu)成的組中的一種顏色。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的有機發(fā)光二極管顯示器件，其中，所述多個光阻擋層包括紅色、綠色和藍色光阻擋層，或者包括黃色、紫紅色和青色光阻擋層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機發(fā)光二極管顯示器件，其中，所述防反射層覆蓋整個所述基板。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機發(fā)光二極管顯示器件，其中，所述防反射層不在所述發(fā)光區(qū)中。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機發(fā)光二極管顯示器件，其中，所述色彩提純器位于與所述有機發(fā)光層接觸所述陽極和所述陰極的區(qū)域相對應的區(qū)域中。
9.一種有機發(fā)光二極管顯不器件,包括: 基板，該基板限定了具有發(fā)光區(qū)和非發(fā)光區(qū)的多個像素； 防反射層，該防反射層形成在所述基板上并且包括至少一個金屬層和至少一個絕緣層； 金屬線，該金屬線在所述防反射層上、位于所述非發(fā)光區(qū)中； 鈍化層，該鈍化層形成在所述金屬線上； 色彩提純器，該色彩提純器形成在所述鈍化層上、位于所述發(fā)光區(qū)中； 光阻擋部件，該光阻擋部件形成在所述鈍化層上、位于所述非發(fā)光區(qū)中； 有機發(fā)光層；和 陰極和陽極，其中，所述光阻擋部件包括光阻擋層，所述光阻擋層由與色彩提純器相同的材料形成。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的有機發(fā)光二極管顯示器件，其中，所述光阻擋層由與藍色提純器相同的材料形成。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的有機發(fā)光二極管顯示器件，其中，所述光阻擋部件包括多個光阻擋層，每個光阻擋層都具有相互不同的顏色，并且所述多個光阻擋層中的至少一個由與所述色彩提純器相同的材料形成。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的有機發(fā)光二極管顯示器件，其中，形成在所述鈍化層上、位于所述發(fā)光區(qū)中的所述色彩提純器具有選自由紅色、綠色、藍色、黃色、紫紅色和青色構(gòu)成的組中的一種顏色。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的有機發(fā)光二極管顯示器件，其中，所述多個光阻擋層包括紅色、綠色和藍色光阻擋層，或者包括黃色、紫紅色和青色光阻擋層。
14.根據(jù)權(quán)利要求9所述的有機發(fā)光二極管顯示器件，其中所述防反射層覆蓋整個所述基板。
15.根據(jù)權(quán)利要求9所述的有機發(fā)光二極管顯示器件，其中，所述防反射層不在所述發(fā)光區(qū)中。
16.根據(jù)權(quán)利要求9所述的有機發(fā)光二極管顯示器件，其中，所述色彩提純器位于與所述有機發(fā)光層接觸所述陽極和所述陰極的區(qū)域相對應的區(qū)域中。
17.根據(jù)權(quán)利要求9所述的有機發(fā)光二極管顯示器件，其中，所述金屬線包括所述薄膜晶體管的柵極、選通線和補償電路線。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的有機發(fā)光二極管顯示器件，其中，所述金屬線進一步包括數(shù)據(jù)線、源極和/或漏極。
19.一種有機發(fā)光二極管顯示器件的制造方法，包括: 形成基板，該基板限定了具有發(fā)光區(qū)和非發(fā)光區(qū)的多個像素； 形成防反射層，該防反射層形成在所述基板上并且包括至少一個金屬層和至少一個絕緣層； 形成薄膜晶體管，該薄膜晶體管形成在所述防反射層上、位于所述非發(fā)光區(qū)中并且包括柵極； 形成鈍化層，該鈍化層形成在所述薄膜晶體管上； 形成色彩提純器，該色彩提純器形成在所述鈍化層上、位于所述發(fā)光區(qū)中； 形成有機發(fā)光層；和 形成接觸所述有機發(fā)光層的陰極和陽極。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法，其中，所述色彩提純器是通過在整個所述基板上涂布彩色光刻膠，并消除除了發(fā)出該彩色光刻膠的顏色的發(fā)光區(qū)之外的該彩色光刻膠而形成的，從而進一步形成光阻擋部件。
21.根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法，其中，所述色彩提純器是通過在所述非發(fā)光區(qū)中印刷墨水圖案形成的，從而進一步形成光阻擋部件。
【文檔編號】H01L27/32GK103579283SQ201210599053
【公開日】2014年2月12日 申請日期:2012年12月28日 優(yōu)先權(quán)日:2012年8月7日
【發(fā)明者】梁熙皙, 俞忠根 申請人:樂金顯示有限公司